[發明專利]一種用于光催化降解印染廢水材料及其制備方法有效
| 申請號: | 202010512062.6 | 申請日: | 2020-06-08 |
| 公開(公告)號: | CN111774091B | 公開(公告)日: | 2023-05-23 |
| 發明(設計)人: | 夏良君;周思婕;付專;張春華;王阿明;徐衛林 | 申請(專利權)人: | 武漢紡織大學 |
| 主分類號: | B01J31/06 | 分類號: | B01J31/06;B01J27/24;B01J35/10;C02F1/30;C02F101/30 |
| 代理公司: | 武漢卓越志誠知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 42266 | 代理人: | 胡婷婷 |
| 地址: | 430200 湖*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 光催化 降解 印染 廢水 材料 及其 制備 方法 | ||
1.一種用于光催化降解印染廢水材料的制備方法,其特征在于,包括如下步驟∶
S1、洗滌液的配制:
將十二烷基苯磺酸鈉表面活性劑置于醇類有機溶劑和水混合而成的混合溶劑中,攪拌均勻后配制成洗滌液;
S2、燈心草纖維預處理:
將燈心草纖維置于經步驟S1配制而成的洗滌液中進行洗滌后烘干備用;
S3、燈心草的羧甲基化:
將步驟S2處理過的燈心草纖維進行堿處理后洗滌至中性、烘干,再將堿處理后的燈心草浸泡于氯乙酸鈉溶液中進行羧甲基化處理,待浸泡完畢取出洗滌并烘干;
S4、燈心草復合光催化材料的制備∶
將光催化增強劑與g-C3N4分散于十八水合硫酸鋁水溶液中,加入步驟S3制得的羧甲基化燈心草,進行超聲處理,然后取出用去離子水清洗后烘干即得到光催化劑/g-C3N4改性燈心草復合光催化材料;
步驟S4中,所述光催化增強劑為氧化石墨烯、三氧化鎢、五氧化二釩、Ag2W04、二氧化鈦或三氧化鉬中的一種或多種;
步驟S4中,所述十八水合硫酸鋁的用量為羧甲基化燈心草質量的8%~16%;所述光催化增強劑的用量為羧甲基化燈心草質量的10%~80%;
步驟S4中,所述羧甲基化燈心草與g-C3N4用量比為1∶0.5~1∶2;
步驟S1中,十二烷基苯磺酸鈉表面活性劑的濃度為0.05~0.2g/L;洗滌液中醇類有機溶劑與水的體積比為10%∶90%~50%∶50%;
步驟S3中,所述堿處理為采用質量濃度為2~15%的NaOH溶液進行浸泡5~25min。
2.根據權利要求1所述的一種用于光催化降解印染廢水材料的制備方法,其特征在于,步驟S1中,所述醇類有機溶劑為乙醇、異丙醇或丙三醇中的一種或多種組合。
3.根據權利要求1所述的一種用于光催化降解印染廢水材料的制備方法,其特征在于,步驟S2中,洗滌液的浴比為1∶20~1∶80;洗滌溫度為40~100℃,洗滌時間為60~120min,烘干溫度為60~85℃,烘干時間為45~120min。
4.根據權利要求1所述的一種用于光催化降解印染廢水材料的制備方法,其特征在于,步驟S3中,所述氯乙酸鈉溶液的濃度為80~200g/L,浸泡時間為15~40min。
5.權利要求1~4任一項所述的用于光催化降解印染廢水材料的制備方法制備得到的光催化降解印染廢水材料。
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