[發(fā)明專利]一種表征近紅外儀器差異和校正的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010511717.8 | 申請日: | 2020-06-08 |
| 公開(公告)號: | CN111579526B | 公開(公告)日: | 2023-05-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 胡蕓;張辭海;彭黔榮;劉娜;姬厚偉;黃錫娟 | 申請(專利權(quán))人: | 貴州中煙工業(yè)有限責(zé)任公司 |
| 主分類號: | G01N21/359 | 分類號: | G01N21/359;G01N21/27 |
| 代理公司: | 上海華誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31300 | 代理人: | 徐穎聰 |
| 地址: | 550001*** | 國省代碼: | 貴州;52 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 表征 紅外 儀器 差異 校正 方法 | ||
1.一種表征近紅外儀器差異和校正的方法,其特征在于,包括以下步驟:
獲得標(biāo)準(zhǔn)樣品;
利用主機(jī)儀器和從機(jī)儀器分別采集所述標(biāo)準(zhǔn)樣品的光譜獲得第一標(biāo)準(zhǔn)光譜和第二標(biāo)準(zhǔn)光譜,其中,設(shè)置所述主機(jī)儀器和所述從機(jī)儀器的光譜采集參數(shù)相同;
根據(jù)所述第一標(biāo)準(zhǔn)光譜和所述第二標(biāo)準(zhǔn)光譜獲得所述第一標(biāo)準(zhǔn)光譜與所述第二標(biāo)準(zhǔn)光譜的歐氏距離;
根據(jù)所述歐氏距離獲得所述主機(jī)儀器和所述從機(jī)儀器的儀器差異;
根據(jù)主機(jī)光譜和分析檢測指標(biāo)參考值,建立主機(jī)模型,其中所述主機(jī)光譜包括利用所述主機(jī)儀器采集建模用樣品所獲得的光譜和所述第一標(biāo)準(zhǔn)光譜,所述參考值通過化學(xué)方法獲得;
用所述主機(jī)模型在所述從機(jī)儀器上計算所述標(biāo)準(zhǔn)樣品的分析檢測指標(biāo)獲得預(yù)測值,并獲得所述預(yù)測值與所述標(biāo)準(zhǔn)樣品的參考值之間的預(yù)測誤差;
將所述第二標(biāo)準(zhǔn)光譜投影至主機(jī)光譜空間上,獲得所述主機(jī)儀器和所述從機(jī)儀器的光譜差異;具體地,在所述主機(jī)儀器上建立光譜的投影矩陣,所述第二標(biāo)準(zhǔn)光譜通過該投影矩陣投影到所述主機(jī)光譜空間上,能夠投影到主機(jī)儀器上的光譜即是與主機(jī)儀器無差異的光譜,不能夠投影到所述主機(jī)儀器上的剩余光譜即為與主機(jī)儀器有差異的光譜,該投影剩余光譜為所述主機(jī)儀器與所述從機(jī)儀器的光譜差異;
根據(jù)所述光譜差異與所述預(yù)測誤差建立所述主機(jī)儀器與所述從機(jī)儀器間的修正模型;
所述光譜差異的計算公式為:
,
其中,Xm為所述主機(jī)光譜,Xs為所述第二標(biāo)準(zhǔn)光譜,為所述主機(jī)儀器與所述從機(jī)儀器的光譜差異,+表示廣義的逆矩陣;
所述根據(jù)所述光譜差異與所述預(yù)測誤差建立所述主機(jī)儀器與所述從機(jī)儀器之間的修正模型,包括通過以下公式計算系數(shù)b*:
,
其中,b*為所述修正模型的系數(shù),為預(yù)測誤差;
所述方法還包括通過以下公式獲得未知樣本在所述從機(jī)儀器上的預(yù)測結(jié)果:
,
其中,Xs,unknown為未知樣本在所述從機(jī)儀器上的光譜,b為所述主機(jī)模型的因子數(shù),b*為所述修正模型的系數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表征近紅外儀器差異和校正的方法,其特征在于,所述光譜采集參數(shù)包括波長掃描范圍、分辨率、掃描次數(shù)和光譜點(diǎn)數(shù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的表征近紅外儀器差異和校正的方法,其特征在于,所述光譜點(diǎn)數(shù)通過所述主機(jī)儀器自帶軟件或插值的方法設(shè)置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表征近紅外儀器差異和校正的方法,其特征在于,所述儀器差異包括通過計算和比較所述第一標(biāo)準(zhǔn)光譜和所述第二標(biāo)準(zhǔn)光譜的平均歐式距離或歐式距離分布獲得。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的表征近紅外儀器差異和校正的方法,其特征在于,所述分析檢測指標(biāo)為總植物堿的含量。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的表征近紅外儀器差異和校正的方法,其特征在于,所述建立主機(jī)模型的方法為偏最小二乘法。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的表征近紅外儀器差異和校正的方法,其特征在于,建立主機(jī)模型時,根據(jù)交互驗證法選擇因子數(shù)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的表征近紅外儀器差異和校正的方法,其特征在于,選擇所述因子數(shù)為10。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的表征近紅外儀器差異和校正的方法,其特征在于,建立所述修正模型時,選擇因子數(shù)為2-4中任意整數(shù)值。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于貴州中煙工業(yè)有限責(zé)任公司,未經(jīng)貴州中煙工業(yè)有限責(zé)任公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010511717.8/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
- 一種用于輔助油藏表征的工作平臺及工作方法
- 一種獲取雙吸離心泵Suter曲線的方法
- 巖石靜態(tài)楊氏模量的確定方法
- 鉆井裝置模擬方法及裝置
- 一種基于加權(quán)歐氏距離的度量功能間相似性的方法
- 一種染色質(zhì)拓?fù)湎嚓P(guān)結(jié)構(gòu)域的表征方法及裝置
- 融合多種模態(tài)的解離化表征學(xué)習(xí)方法及裝置
- 健康環(huán)境調(diào)節(jié)方法、終端及計算機(jī)可讀存儲介質(zhì)
- 風(fēng)險識別系統(tǒng)的更新方法及裝置、風(fēng)險識別方法及裝置
- 表情表征模型的訓(xùn)練方法、面部的表情表征方法及裝置





