[發(fā)明專利]OLED顯示基板及其制作方法、顯示面板、顯示裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010511389.1
• 申請(qǐng)日: 2020-06-08
• 公開（公告）號(hào): CN111584608B
• 公開（公告）日: 2022-07-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 溫夢(mèng)陽(yáng);樊星;左岳平;王純陽(yáng);張雄南
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L27/32
• 分類號(hào): H01L27/32;H01L51/56;H01L51/52
• 代理公司: 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;張博

本發(fā)明提供了一種OLED顯示基板及其制作方法、顯示面板、顯示裝置，屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域。其中，OLED顯示基板包括：襯底基板；位于襯底基板上的薄膜晶體管陣列層；位于所述薄膜晶體管陣列層遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)的平坦層；位于所述平坦層上的第一電極；位于所述第一電極遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)的像素界定層，所述像素界定層限定出像素區(qū)域；位于所述像素界定層遠(yuǎn)離襯底基板一側(cè)的有機(jī)功能層和第二電極；其中，所述像素界定層的側(cè)表面朝向所述像素區(qū)域的一側(cè)設(shè)置有絕緣阻隔層。本發(fā)明的技術(shù)方案能夠保證OLED顯示基板的顯示效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是指一種OLED顯示基板及其制作方法、顯示面板、顯示裝置。

背景技術(shù)

OLED(Organic Light-Emitting Diode，有機(jī)發(fā)光二極管，簡(jiǎn)稱OLED)顯示裝置由于具有薄、輕、寬視角、主動(dòng)發(fā)光、發(fā)光顏色連續(xù)可調(diào)、成本低、響應(yīng)速度快、能耗小、驅(qū)動(dòng)電壓低、工作溫度范圍寬、生產(chǎn)工藝簡(jiǎn)單、發(fā)光效率高及可柔性顯示等優(yōu)點(diǎn)，已被列為極具發(fā)展前景的下一代顯示技術(shù)。

相關(guān)技術(shù)中，OLED顯示產(chǎn)品的像素界定層采用有機(jī)光阻制作，在OLED顯示產(chǎn)品的使用過(guò)程中，如果OLED顯示產(chǎn)品受到紫外光照射，像素界定層會(huì)產(chǎn)生氣體，侵蝕有機(jī)功能層，使得有機(jī)功能層的邊緣損壞不能發(fā)光，從而導(dǎo)致像素收縮，影響OLED顯示產(chǎn)品的顯示效果。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種OLED顯示基板及其制作方法、顯示面板、顯示裝置，能夠保證OLED顯示基板的顯示效果。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明的實(shí)施例提供技術(shù)方案如下：

一方面，提供一種OLED顯示基板，包括：

襯底基板；

位于襯底基板上的薄膜晶體管陣列層；

位于所述薄膜晶體管陣列層遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)的平坦層；

位于所述平坦層上的第一電極；

位于所述第一電極遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)的像素界定層，所述像素界定層限定出像素區(qū)域；

位于所述像素界定層遠(yuǎn)離襯底基板一側(cè)的有機(jī)功能層和第二電極；

其中，所述像素界定層的側(cè)表面朝向所述像素區(qū)域的一側(cè)設(shè)置有絕緣阻隔層。

一些實(shí)施例中，所述絕緣阻隔層采用無(wú)機(jī)絕緣材料。

一些實(shí)施例中，所述絕緣阻隔層采用氧化鉬。

一些實(shí)施例中，所述像素界定層遠(yuǎn)離所述襯底基板一側(cè)的表面設(shè)置有遮光層。

一些實(shí)施例中，所述遮光層包括多個(gè)間隔排布的遮光圖形。

一些實(shí)施例中，所述絕緣阻隔層的厚度為200-400nm。

本發(fā)明的實(shí)施例還提供了一種顯示面板，包括如上所述的OLED顯示基板。

本發(fā)明的實(shí)施例還提供了一種顯示裝置，包括如上所述的OLED顯示基板。

本發(fā)明的實(shí)施例還提供了一種OLED顯示基板的制作方法，包括：

在襯底基板上形成薄膜晶體管陣列層；

在所述薄膜晶體管陣列層遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)形成平坦層；

在所述平坦層上形成第一電極；

在所述第一電極遠(yuǎn)離所述襯底基板的一側(cè)形成像素界定層，所述像素界定層限定出像素區(qū)域；

在所述像素界定層的側(cè)表面朝向所述像素區(qū)域的一側(cè)形成絕緣阻隔層；