[發明專利]用于控制過程流體流動的提升閥

有效

• 申請號: 202010510582.3
• 申請日: 2020-06-08
• 公開（公告）號: CN112049972B
• 公開（公告）日: 2022-09-02
• 發明（設計）人: K·邦古;A·H·波爾;J·瓦伊德;M·梅爾謝爾;M·克魯格
• 申請（專利權）人: 福庫斯昂公司
• 主分類號: F16K27/02
• 分類號: F16K27/02;F16K47/08;F16K47/02
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 王小東;黃綸偉

1.一種提升閥(1)，所述提升閥(1)用于控制工藝生產設備的過程流體流動，所述提升閥(1)包括：具有圓形開口橫截面(Q3)且限定閥軸線(A)的入口(3)；提升閥構件(11)，所述提升閥構件(11)在豎直方向(V)上能橫向于所述閥軸線(A)運動，并且所述提升閥構件(11)借助在豎直方向(V)上安置在所述閥構件(11)上方的閥桿(13)能接合至用于操作所述提升閥構件(11)的執行機構；具有圓形通孔橫截面的通孔(5)，其中，所述提升閥構件(11)在豎直方向(V)上最低的操作位置上關閉所述通孔(5)；和流道(7)，所述流道(7)從所述入口延伸至所述通孔(5)并且限定出流動橫截面(Q71,Q73,Q75,Q77,Q81,Q83)，其特征是，在第一部段(70)中的所述流動橫截面(Q71,Q73,Q75)的面積尺寸從所述入口(3)起沿流動方向(F)朝向過渡部(8)減小，其中，在所述第一部段(70)中的所述流動橫截面(Q71,Q73,Q75)呈連續橢圓形，并且其中，所述流道(7)的所述第一部段(70)在豎直方向(V)上連續向下傾斜，其中，在所述流道(7)沿流動方向(F)的走向上的所述第一部段(70)中，流道高度在豎直方向(V)上連續減小，而流道寬度在橫向(Q)上連續增大，所述橫向(Q)橫向于所述豎直方向(V)且橫向于所述閥軸線(A)。

2.根據權利要求1所述的提升閥(1)，其中，所述流道(7)的所述第一部段(70)具有下傾斜角度(β)，所述下傾斜角度(β)等于或小于25°。

3.根據權利要求1所述的提升閥(1)，其中，在所述流道(7)沿流動方向(F)的走向上的第二部段(80)中，橫向(Q)的所述流道寬度連續增大直至最大寬度(b80)。

4.根據權利要求3所述的提升閥(1)，其中，所述入口的直徑(d3)與所述流道(7)的所述最大寬度(b80)之比至少為0.75±0.05。

5.根據權利要求1所述的提升閥(1)，其中，在所述第一部段(70)中的所述流動橫截面(Q71,Q73,Q75)的所述面積尺寸相對于所述開口橫截面的面積尺寸縮小至少10%和/或最多30%。

6.根據權利要求1所述的提升閥(1)，其中，所述入口的直徑(d3)與所述流道(7)在所述過渡部(8)處的豎直方向高度(h8)之比至少為1.55±0.10，和/或所述入口的直徑(d3)與所述流道(7)在頂點(9)處的豎直方向高度(h9)之比至少為1.55±0.10。

7.根據權利要求1所述的提升閥(1)，其中，所述流道(7)具有在豎直方向(V)上靠上的上局部區域(72)，所述上局部區域(72)在所述流道(7)沿流動方向(F)的走向上在所述第一部段(70)中具有減小的面積尺寸。

8.根據權利要求7所述的提升閥(1)，其中，在所述第一部段(70)中的所述流動橫截面(Q71,Q73,Q75)至少局部呈半圓形，并且其中，在所述流道(7)沿流動方向(F)的走向中的所述第一部段(70)中，至少部分地在所述上局部區域(72)中使所述流動橫截面(Q71,Q73,Q75)的半圓曲率變平。

9.根據權利要求7或8所述的提升閥(1)，其中，所述流動橫截面(Q77)在所述流道(7)的所述上局部區域(72)內的所述過渡部(8)處呈凹形。

10.根據權利要求1所述的提升閥(1)，其中，所述流道(7)具有在豎直方向(V)上靠下的下局部區域(74)，所述下局部區域在所述流道(7)的沿流動方向(F)的走向上呈連續的半圓形。

11.根據權利要求1所述的提升閥(1)，其中，所述流道(7)具有在豎直方向(V)上最低的頂點(9)，所述頂點(9)在水平方向(H)上與沿豎直方向(V)經過通孔(5)的中心的直線錯開地布置。