[發(fā)明專利]植入式嵌巖樁的“先樁法”內(nèi)插式導(dǎo)管架基礎(chǔ)施工系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010507906.8
• 申請日: 2020-06-05
• 公開（公告）號: CN111593728A
• 公開（公告）日: 2020-08-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 潘曉煒;汪冬冬;蘇豫東;吳海兵;王大鵬;張悅?cè)?/a>;高健岳;呂東良;王巖松;許衛(wèi)士;劉恒;楊正翔;劉輝
• 申請（專利權(quán)）人: 中交第三航務(wù)工程局有限公司;中交港灣（上海）科技有限公司;中交上海港灣工程設(shè)計(jì)研究院有限公司
• 主分類號: E02D5/38
• 分類號: E02D5/38;E02D5/66;E02D15/04;E02D27/42;E02D27/12;E02D27/52;E02D15/06
• 代理公司: 上海百一領(lǐng)御專利代理事務(wù)所(普通合伙) 31243
• 代理人: 王奎宇;楊孟娟

1.植入式嵌巖樁的“先樁法”內(nèi)插式導(dǎo)管架基礎(chǔ)施工系統(tǒng)，其特征在于，所述施工系統(tǒng)包括：鋼護(hù)筒、預(yù)制有樁芯封底混凝土的鋼管樁以及導(dǎo)管架；將所述鋼護(hù)筒沉樁至預(yù)設(shè)位置，預(yù)制有樁芯封底混凝土的所述鋼管樁植入所述鋼護(hù)筒內(nèi)側(cè)，所述鋼管樁底部、所述鋼管樁和嵌巖孔壁之間的第一環(huán)形空間、所述鋼管樁和覆蓋層之間的第二環(huán)形空間均預(yù)制有灌漿管線；

待所述第一環(huán)形空間和所述第二環(huán)形空間灌漿完成后，將所述導(dǎo)管架的樁腿柱插尖部位插入所述鋼管樁內(nèi)并與所述鋼管樁固定連接，在所述導(dǎo)管架和所述鋼管樁之間的第三環(huán)形空間預(yù)制有灌漿管線。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的施工系統(tǒng)，其特征在于，所述樁芯封底混凝土的底標(biāo)高高于所述鋼管樁樁底標(biāo)高200-500mm。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的施工系統(tǒng)，其特征在于，設(shè)置在所述樁芯封底混凝土底標(biāo)高以下的所述鋼管樁沿周向開設(shè)有多個孔洞。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的施工系統(tǒng)，其特征在于，所述鋼管樁底部預(yù)制與所述灌漿管線連通設(shè)置有三通管，所述三通管分別通向第一環(huán)形空間側(cè)以及所述鋼管樁底部內(nèi)側(cè)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的施工系統(tǒng)，其特征在于，設(shè)置在第一環(huán)形空間內(nèi)的所述灌漿管線的底標(biāo)高低于所述樁芯封底混凝土的底標(biāo)高。

6.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的施工系統(tǒng)，其特征在于，所述導(dǎo)管架的樁腿柱插尖部位下方設(shè)有內(nèi)封板。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的施工系統(tǒng)，其特征在于，所述樁腿柱插尖部位與所述內(nèi)封板以上的空間內(nèi)灌注第一灌漿料，所述導(dǎo)管架的樁腿柱和所述鋼管樁之間的空間內(nèi)灌注第二灌漿料，所述第一灌漿料的強(qiáng)度低于所述第二灌漿料的強(qiáng)度。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的施工系統(tǒng)，其特征在于，所述內(nèi)封板的安裝標(biāo)高在所述樁腿柱插尖部位標(biāo)高下方200-500mm。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至5任一項(xiàng)所述的施工系統(tǒng)，其特征在于，所述導(dǎo)管架的樁腿柱上還設(shè)有導(dǎo)向塊。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的施工系統(tǒng)，其特征在于，所述預(yù)制灌漿管線分多層布設(shè)，其中，每層所述灌漿管線包括一根主灌漿管線和至少一根備用灌漿管線。

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的施工系統(tǒng)，其特征在于，所述主灌漿管線和與其相鄰設(shè)置的所述備用灌漿管線的設(shè)置高度為0.5-1m，相鄰設(shè)置在所述灌漿管線之間的設(shè)置高度為0.5-1m。

12.根據(jù)權(quán)利要求1或2或3或4或5或10或11所述的施工系統(tǒng)，其特征在于，待所述第二環(huán)形空間灌漿結(jié)束后，拔出所述鋼護(hù)筒或者割除部分所述鋼護(hù)筒，其中，割除部分所述鋼護(hù)筒的位置可設(shè)置在所述鋼護(hù)筒上溢漿孔的上方。