[發(fā)明專(zhuān)利]用于裝飾機(jī)械部件的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010504610.0 | 申請(qǐng)日: | 2020-06-05 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112442714B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-10-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | A·奈圖希爾;F·邦塔茲 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 柯馬杜股份有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C25D5/12 | 分類(lèi)號(hào): | C25D5/12;C25D5/02;C25D5/48;C25D7/00;G04B19/10;G04B19/18;G04B37/22 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務(wù)所 11247 | 代理人: | 劉敏;吳鵬 |
| 地址: | 瑞士勒*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 用于 裝飾 機(jī)械 部件 方法 | ||
1.一種用于裝飾機(jī)械部件的至少一個(gè)待裝飾表面(4)的方法,包括以下步驟:
-提供待裝飾的機(jī)械部件,在該機(jī)械部件上按照確定的厚度和輪廓產(chǎn)生至少一個(gè)裝飾元件(2a,2b);
-在所述機(jī)械部件的待裝飾表面(4)上沉積厚度至少等于待產(chǎn)生的裝飾元件(2a,2b)的厚度的掩蔽層(6);
-在所述掩蔽層(6)中形成至少一個(gè)開(kāi)口(14a,14b),所述至少一個(gè)開(kāi)口與所述機(jī)械部件的待裝飾表面(4)上待產(chǎn)生所述裝飾元件(2a,2b)的部位重合,所述開(kāi)口(14a,14b)的輪廓與待產(chǎn)生的裝飾元件(2a,2b)的輪廓相同,并與待裝飾的所述機(jī)械部件一起限定一容積;
-通過(guò)填充材料填充由所述掩蔽層(6)和所述機(jī)械部件的待裝飾表面(4)限定的容積,以產(chǎn)生所述裝飾元件(2a,2b);以及
-去除所述掩蔽層(6)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的裝飾方法,其特征在于,所述填充材料是晶態(tài)金屬或非晶態(tài)金屬。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的裝飾方法,其特征在于,所述非晶態(tài)金屬是非晶態(tài)鉑合金、非晶態(tài)鈀合金或非晶態(tài)鋯合金。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的裝飾方法,其特征在于,所述裝飾方法包括以下步驟:穿過(guò)在所述掩蔽層(6)中形成的開(kāi)口(14a,14b)在所述機(jī)械部件的待裝飾表面(4)中蝕刻腔室(16)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的裝飾方法,其特征在于,利用激光束同時(shí)蝕刻所述掩蔽層(6)中的所述開(kāi)口(14a,14b)和待裝飾的所述機(jī)械部件中的所述腔室(16)。
6.根據(jù)權(quán)利要求4和5中任一項(xiàng)所述的裝飾方法,其特征在于,在所述機(jī)械部件的待裝飾表面(4)中蝕刻的所述腔室(16)的深度基本上等于200μm。
7.根據(jù)權(quán)利要求4至6中任一項(xiàng)所述的裝飾方法,其特征在于,在所述機(jī)械部件的待裝飾表面(4)中蝕刻的所述腔室(16)包括用于錨固由所述填充材料形成的裝飾元件(2a,2b)的錨固裝置。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的裝飾方法,其特征在于,所述腔室(16)由壁(20)界定,所述壁的至少一個(gè)面(18)隨著該壁(20)遠(yuǎn)離所述機(jī)械部件的所述待裝飾表面(4)逐漸偏離垂直于所述機(jī)械部件的待裝飾表面(4)的平面(P)。
9.根據(jù)權(quán)利要求7和8中任一項(xiàng)所述的裝飾方法,其特征在于,在所述腔室(16)的底部(24)中鉆出至少一個(gè)圓錐形孔(22),所述圓錐形孔(22)朝向所述機(jī)械部件的與所述待裝飾表面(4)相對(duì)的后表面(26)向外擴(kuò)開(kāi)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的裝飾方法,其特征在于,在沉積所述掩蔽層(6)之前,在所述機(jī)械部件的待裝飾表面(4)上沉積結(jié)合層(8)。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的裝飾方法,其特征在于,所述結(jié)合層(8)由在其上沉積有金層(12)的鉻層(10)形成。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制造方法,其特征在于,所述鉻層(10)和所述金層(12)各自具有基本上等于50nm的厚度。
13.根據(jù)權(quán)利要求10至12中的一項(xiàng)所述的制造方法,其特征在于,通過(guò)電鍍生長(zhǎng)將所述結(jié)合層(8)和所述掩蔽層(6)沉積在所述機(jī)械部件的待裝飾表面(4)上。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的制造方法,其特征在于,所述掩蔽層(6)由銀、銅或鎳制成。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的制造方法,其特征在于,所述掩蔽層的厚度至少等于400μm。
該專(zhuān)利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)。該專(zhuān)利全部權(quán)利屬于柯馬杜股份有限公司,未經(jīng)柯馬杜股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專(zhuān)利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010504610.0/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專(zhuān)利網(wǎng)。
- 上一篇:圖像形成裝置
- 下一篇:渦輪發(fā)動(dòng)機(jī)的發(fā)電





