[發明專利]一種Ho3+ 在審
| 申請號: | 202010504010.4 | 申請日: | 2020-06-05 |
| 公開(公告)號: | CN111925117A | 公開(公告)日: | 2020-11-13 |
| 發明(設計)人: | 王鵬飛;趙海燕;易雅婷;王順賓 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱工程大學 |
| 主分類號: | C03C3/32 | 分類號: | C03C3/32;C03C4/12;C03B11/00;C03B25/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 150001 黑龍江省哈爾濱市南崗區*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 ho base sup | ||
1.一種Ho3+摻雜的ZBYA氟化物玻璃,其特征是,所述ZBYA氟化物玻璃的原料和摻雜離子濃度的摩爾百分比為50ZrF4–33BaF2–(10-x)YF3–7AlF3)–xHoF3(x=0.1,0.2,0.5,1,2,3,4,5,7,9),主要由以下步驟制備而成:
步驟一:將高純度的原料按配比稱量好,在研磨缽中充分混合;
步驟二:然后將混合料裝入鉑金坩堝中,置于手套箱850℃高溫爐內熔融;
步驟三:將溶體玻璃倒在預熱過的黃銅模具上,壓制成前驅體玻璃樣品;
步驟四:將樣品置于退火爐中進行退火處理,以消除玻璃中的應力,冷卻至室溫得到一種Ho3+摻雜的ZBYA氟化物玻璃。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于哈爾濱工程大學,未經哈爾濱工程大學許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010504010.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- <100>N<SUP>-</SUP>/N<SUP>+</SUP>/P<SUP>+</SUP>網狀埋層擴散拋光片
- 零50電力L<SUP>2</SUP>C<SUP>2</SUP>專用接口<SUP></SUP>
- 高保真打印輸出L<SUP>*</SUP>a<SUP>*</SUP>b<SUP>*</SUP>圖像的方法
- 在硅晶片上制備n<sup>+</sup>pp<sup>+</sup>型或p<sup>+</sup>nn<sup>+</sup>型結構的方法
- <sup>79</sup>Se、<sup>93</sup>Zr、<sup>107</sup>Pd聯合提取裝置
- <sup>79</sup>Se、<sup>93</sup>Zr、<sup>107</sup>Pd聯合提取裝置
- <sup>182</sup>Hf/<sup>180</sup>Hf的測定方法
- 五環[5.4.0.0<sup>2</sup>,<sup>6</sup>.0<sup>3</sup>,<sup>10</sup>.0<sup>5</sup>,<sup>9</sup>]十一烷二聚體的合成方法
- 含煙包裝袋中Li<sup>+</sup>、Na<sup>+</sup>、NH<sub>4</sub><sup>+</sup>、K<sup>+</sup>、Mg<sup>2+</sup>、Ca<sup>2+</sup>離子的含量測定方法
- <base:Sup>68





