[發(fā)明專利]一種滑動(dòng)壓緊反應(yīng)室機(jī)構(gòu)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010476937.1 | 申請(qǐng)日: | 2020-05-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111690527A | 公開(公告)日: | 2020-09-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 談?dòng)癯?/a>;郭振華;謝龍旭;翁丹容 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣東凱普生物科技股份有限公司;潮州凱普生物化學(xué)有限公司;廣州凱普生物科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C12M1/34 | 分類號(hào): | C12M1/34;C12M1/00 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標(biāo)代理有限公司 44102 | 代理人: | 任重 |
| 地址: | 521000 廣東省潮州市湘橋區(qū)*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 滑動(dòng) 壓緊 反應(yīng) 機(jī)構(gòu) | ||
1.一種滑動(dòng)壓緊反應(yīng)室機(jī)構(gòu),包括有機(jī)架,所述機(jī)架上設(shè)有反應(yīng)室(10),其特征在于,所述機(jī)架上設(shè)有驅(qū)動(dòng)裝置(1),所述機(jī)架上滑動(dòng)連接滑動(dòng)上蓋(12),所述滑動(dòng)上蓋(12)與驅(qū)動(dòng)裝置(1)連接,所述反應(yīng)室(10)上設(shè)有分隔組件(8),所述分隔組件(8)上設(shè)有凸起部(11),所述滑動(dòng)上蓋(12)上設(shè)有支撐部(13),所述支撐部(13)在滑動(dòng)上蓋(12)相對(duì)于機(jī)架滑動(dòng)的過程中擠壓凸起部(11)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的滑動(dòng)壓緊反應(yīng)室機(jī)構(gòu),其特征在于,所述機(jī)架包括有底板(5)及設(shè)于底板(5)相對(duì)的兩側(cè)的支板(4),所述支板(4)上設(shè)有與滑動(dòng)上蓋(12)連接的滑槽,所述支板(4)與滑動(dòng)上蓋(12)滑動(dòng)連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的滑動(dòng)壓緊反應(yīng)室機(jī)構(gòu),其特征在于,所述驅(qū)動(dòng)裝置(1)通過固定板(3)與支板(4)連接,所述滑動(dòng)上蓋(12)與驅(qū)動(dòng)裝置(1)通過第一傳動(dòng)件(18)連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的滑動(dòng)壓緊反應(yīng)室機(jī)構(gòu),其特征在于,所述驅(qū)動(dòng)裝置(1)連接有第二傳動(dòng)件(19),所述第二傳動(dòng)件(19)連接有蓋體(14),所述蓋體(14)在隨第二傳動(dòng)件(19)運(yùn)動(dòng)時(shí)能遮擋反應(yīng)室(10)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的滑動(dòng)壓緊反應(yīng)室機(jī)構(gòu),其特征在于,所述蓋體(14)相對(duì)的兩側(cè)設(shè)有朝向底板、與支板配合的翼板。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的滑動(dòng)壓緊反應(yīng)室機(jī)構(gòu),其特征在于,所述底板(5)設(shè)有風(fēng)扇(6),所述風(fēng)扇(6)的出風(fēng)口朝向反應(yīng)室(10)。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的滑動(dòng)壓緊反應(yīng)室機(jī)構(gòu),其特征在于,所述支板(4)之間設(shè)有漏液槽(9),所述漏液槽(9)設(shè)有漏液孔。
8.根據(jù)權(quán)利要求4所述的滑動(dòng)壓緊反應(yīng)室機(jī)構(gòu),其特征在于,所述固定板(3)上設(shè)有光耦(2),所述第一傳動(dòng)件(18)和第二傳動(dòng)件(19)運(yùn)動(dòng)過程中能觸發(fā)光耦(2)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的滑動(dòng)壓緊反應(yīng)室機(jī)構(gòu),其特征在于,所述第一傳動(dòng)件(18)設(shè)有擋片(15),所述擋片(15)在運(yùn)動(dòng)過程中能觸發(fā)光耦(2)。
10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的滑動(dòng)壓緊反應(yīng)室機(jī)構(gòu),其特征在于,所述底板(5)上設(shè)有與反應(yīng)室(10)連接的限位塊(7)。
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