[發(fā)明專利]支撐條及掩膜版有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010475484.0 | 申請日: | 2020-05-29 |
| 公開(公告)號: | CN111647846B | 公開(公告)日: | 2022-02-22 |
| 發(fā)明(設計)人: | 臧公正;李文星;李偉麗 | 申請(專利權)人: | 昆山國顯光電有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司: | 北京華進京聯(lián)知識產(chǎn)權代理有限公司 11606 | 代理人: | 劉葛 |
| 地址: | 215300 江蘇省*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 支撐 掩膜版 | ||
本發(fā)明涉及一種支撐條及掩膜版,具有支撐區(qū)和夾持區(qū),支撐條包括:本體,設于支撐區(qū);異形部,設于支撐區(qū),且位于本體在第一方向上的至少一側;以及夾持部,設于夾持區(qū),且沿第二方向位于本體的兩端;其中,本體具有與第二方向平行的第一中軸線,夾持部具有與第二方向平行的第二中軸線,支撐區(qū)具有與第二方向平行的第一形心主軸;在第一方向上,第二中軸線位于第一中軸線指向第一形心主軸的一側;第一方向與第二方向相互垂直且均位于本體所在的平面上。軸力的作用線與第一形心主軸之間的距離減小,從而使軸力的作用線與整個支撐條的第二形心主軸之間的距離減小,偏心距減小,相應地,彎矩減小,從而減小了支撐條在非拉伸方向的偏移量。
技術領域
本發(fā)明涉及蒸鍍技術領域,特別是涉及一種支撐條及掩膜版。
背景技術
隨著科技的進步與信息時代的不斷發(fā)展,人們對顯示器的各項性能要求也在逐漸提高。其中,有機發(fā)光二極管(OLED)由于具有驅動電壓低、主動發(fā)光、視角寬、效率高、響應速度快、易實現(xiàn)全彩色大面積壁掛式顯示和柔性顯示的等諸多特點而逐漸取代液晶顯示器。
在OLED制造技術中,掩膜版由于可以有效控制有機材料沉積在基板上的位置,成為蒸鍍過程中至關重要的部件。掩膜版一般包括框架、支撐條及掩膜條,支撐條固定于框架上起到支撐掩膜條及遮擋掩膜條間隙和蒸鍍開孔的作用,掩膜條上開設有蒸鍍開口以用于蒸鍍。
相關技術中,在張網(wǎng)過程中,支撐條兩端受到拉力作用時,會在非拉伸方向發(fā)生偏移,從而導致遮擋效果較差,進而導致蒸鍍后形成的屏體顯示不良。
發(fā)明內容
基于此,有必要提供一種可改善上述問題的支撐條及掩膜版。
根據(jù)本申請的一個方面提供一種支撐條,具有支撐區(qū)和夾持區(qū),所述支撐條包括:
本體,位于所述支撐區(qū);
異形部,位于所述支撐區(qū),且設于所述本體在第一方向上的至少一側;以及
夾持部,位于所述夾持區(qū),且沿第二方向設于所述本體的兩端;
其中,所述本體具有與所述第二方向平行的第一中軸線,所述夾持部具有與所述第二方向平行的第二中軸線,所述支撐區(qū)具有與所述第二方向平行的第一形心主軸;
在所述第一方向上,所述第二中軸線位于所述第一中軸線指向所述第一形心主軸的一側;
所述第一方向與所述第二方向相互垂直且均位于所述本體所在的平面上。
在其中一個實施例中,所述異形部包括:
凸起部,沿所述第一方向延伸;和/或
凹陷部,沿所述第一方向延伸。
在其中一個實施例中,所述異形部包括多個所述凸起部,全部所述凸起部均位于所述本體沿所述第一方向的同一側;和/或
所述異形部包括多個所述凹陷部,全部所述凹陷部均位于所述本體沿所述第一方向的同一側。
在其中一個實施例中,所述異形部包括多個所述凸起部及多個所述凹陷部,全部所述凸起部均位于所述本體沿所述第一方向的其中一側,全部所述凹陷部均位于所述本體沿所述第一方向的其中另一側;在所述第一方向上,所述第二中軸線位于所述第一形心主軸指向所述凸起部的一側。
在其中一個實施例中,所述夾持部包括:
第一夾持部,設于所述本體沿所述第二方向的一端;及
第二夾持部,設于所述本體沿所述第二方向的另一端;
其中,所述本體具有與所述第一方向平行的第三中軸線,所述第一夾持部與所述第二夾持部兩者以所述第三中軸線為基準對稱設置。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于昆山國顯光電有限公司,未經(jīng)昆山國顯光電有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010475484.0/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





