[發明專利]產生遮罩的方法及執行此方法的投影裝置

在審

• 申請號: 202010475157.5
• 申請日: 2020-05-29
• 公開（公告）號: CN113747130A
• 公開（公告）日: 2021-12-03
• 發明（設計）人: 林奇葳;彭健鈞;涂勛城
• 申請（專利權）人: 中強光電股份有限公司
• 主分類號: H04N9/31
• 分類號: H04N9/31
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 劉佳斐

1.一種產生遮罩的方法，用于投影裝置，其特征在于，所述產生遮罩的方法包括：

投射第一圖樣至投影面，其中所述投影面包括非平面區域，且所述第一圖樣包括多個第一直線；

對呈現有所述第一圖樣的所述投影面拍攝第一影像；

在所述第一影像中找出至少第一特定線段，其中各所述第一特定線段包括至少一第一轉折點；

當判定所述第一影像中的所述至少一第一轉折點適合用于描繪第一輪廓，則依據所述至少一第一轉折點描繪所述第一輪廓；以及

當判定所述第一輪廓匹配于所述非平面區域的區域輪廓，則基于所述第一輪廓產生第一遮罩圖樣，其中所述第一遮罩圖樣用以遮蔽所述第一輪廓的外部區域。

2.根據權利要求1所述的產生遮罩的方法，其特征在于，當判定所述第一影像中的所述至少一第一轉折點不適合用于描繪所述第一輪廓，或者，當判定所述第一輪廓未匹配于所述非平面區域的所述區域輪廓，則所述產生遮罩的方法還包括：

投射第二圖樣至所述投影面，其中所述第二圖樣包括多個第二直線，其中所述多個第二直線的其中之一不平行于所述多個第一直線的其中之一；

對呈現有所述第二圖樣的所述投影面拍攝第二影像；

在所述第二影像中找出至少一第二特定線段，其中各所述第二特定線段包括至少一第二轉折點；

當判定所述第一影像中的所述至少一第一轉折點及所述第二影像中的所述至少一第二轉折點適合用于描繪一第二輪廓，則依據所述第一影像中的所述至少一第一轉折點及所述第二影像中所述至少一第二轉折點描繪所述第二輪廓；以及

當判定所述第二輪廓匹配于所述非平面區域的所述區域輪廓，基于所述第二輪廓產生第二遮罩圖樣，其中所述第二遮罩圖樣用以遮蔽所述第二輪廓的外部區域。

3.根據權利要求2所述的產生遮罩的方法，其特征在于，所述多個第一直線之間存在第一間距，所述多個第二直線之間存在第二間距，且當判定所述第二輪廓未匹配于所述非平面區域的所述區域輪廓，則所述產生遮罩的方法還包括：

投射第三圖樣至所述投影面，其中所述第三圖樣包括多個第三直線，其中各所述第三直線平行于各所述第一直線，且所述多個第一直線之間的所述第一間距大于所述多個第三直線之間的第三間距；

對呈現有所述第三圖樣的所述投影面拍攝第三影像；

在所述第三影像中找出至少一第三特定線段，其中各所述第三特定線段包括至少一第三轉折點；

投射一第四圖樣至所述投影面，其中所述第四圖樣包括多個第四直線，其中各所述第四直線平行于各所述第二直線，且所述多個第二直線之間的所述第二間距大于所述多個第四直線之間的第四間距；

對呈現有所述第四圖樣的所述投影面拍攝第四影像；

在所述第四影像中找出至少一第四特定線段，其中各所述第四特定線段包括至少一第四轉折點；

當判定所述第三影像中的所述至少一第三轉折點及所述第四影像中的所述至少一第四轉折點適合用于描繪第三輪廓，則依據所述第三影像中的所述至少一第三轉折點及所述第四影像中的所述至少一第四轉折點描繪所述第三輪廓；以及

當判定所述第三輪廓匹配于所述非平面區域的所述區域輪廓，基于所述第三輪廓產生一第三遮罩圖樣，其中所述第三遮罩圖樣用以遮蔽所述第三輪廓的外部區域。

4.根據權利要求1所述的產生遮罩的方法，其特征在于，所述第一圖樣還包括多個第二直線，其中所述多個第二直線的其中之一不平行于所述多個第一直線的其中之一，且所述產生遮罩的方法還包括：

在所述第一影像中找出至少一第二特定線段，其中各所述第二特定線段包括至少一第二轉折點；以及

當判定所述第一影像中的所述至少一第一轉折點及所述至少一第二轉折點適合用于描繪所述第一輪廓，則依據所述第一影像中的所述至少一第一轉折點及所述至少一第二轉折點描繪所述第一輪廓。

5.根據權利要求1所述的產生遮罩的方法，其特征在于，所述至少一第一轉折點的數量為至少三個，且依據所述至少一第一轉折點描繪所述第一輪廓的步驟包括：

將所述至少三個第一轉折點其中各相鄰的兩者連接以形成封閉線段，并以所述封閉線段作為所述第一輪廓。