[發明專利]光取出層及其制作方法、顯示面板有效
| 申請號: | 202010474977.2 | 申請日: | 2020-05-29 |
| 公開(公告)號: | CN111613734B | 公開(公告)日: | 2023-04-07 |
| 發明(設計)人: | 蔡雨;于泉鵬 | 申請(專利權)人: | 武漢天馬微電子有限公司;武漢天馬微電子有限公司上海分公司 |
| 主分類號: | H10K50/858 | 分類號: | H10K50/858;H10K59/50;H10K71/00 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 11258 | 代理人: | 娜拉 |
| 地址: | 430074 湖北省武*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 取出 及其 制作方法 顯示 面板 | ||
1.一種光取出層,其特征在于,包括:
襯底;
圖案化的第一界定層,設置于所述襯底,所述第一界定層包括在平行于所述襯底的平面內分布的多個第一凹槽,所述第一凹槽的側壁具有親水層;
介質單元,至少填充于所述第一凹槽內且具有背向所述襯底的第一表面,所述第一表面包括曲面,在垂直于所述襯底且過所述第一凹槽的中心線的截面內,所述第一表面朝向所述襯底凹入;
平坦化層,設置于所述第一界定層背向所述襯底一側的表面并覆蓋所述第一表面;
所述介質單元的折射率小于所述第一界定層的折射率,所述第一界定層小于所述平坦化層的折射率;所述介質單元為流體,且所述介質單元的折射率為1.0至1.4。
2.根據權利要求1所述的光取出層,其特征在于,所述第一界定層還包括位于相鄰所述第一凹槽之間的鏤空區域,所述平坦化層填充于所述鏤空區域。
3.根據權利要求2所述的光取出層,其特征在于,所述第一凹槽為貫穿所述第一界定層的鏤空結構,所述第一界定層包括多個擋墻,各所述擋墻圍繞所述第一凹槽設置,且相鄰所述擋墻之間通過所述鏤空區域間隔開。
4.根據權利要求3所述的光取出層,其特征在于,在垂直于所述襯底且過所述第一凹槽的中心線的截面內,所述擋墻的形狀呈腰為弧線的倒梯形。
5.根據權利要求1所述的光取出層,其特征在于,所述第一凹槽在垂直于所述襯底的方向上延伸,所述第一凹槽在過自身中心線上的橫截面形狀為正梯形、倒梯形、矩形及曲邊梯形中的一種或多種組合。
6.根據權利要求1所述的光取出層,其特征在于,所述第一表面中的曲面為球面、拋物面、雙曲面及橢球面中的一種或多種組合。
7.一種顯示面板,其特征在于,包括:
基板;
顯示層,設置于所述基板且具有背向所述基板的出光面,所述顯示層包括呈陣列排布的多個子像素,所述子像素朝向所述出光面出射光線;
根據權利要求1至6任一項所述的光取出層,所述光取出層設置于所述顯示層的所述出光面,且所述光取出層的襯底朝向所述顯示層。
8.根據權利要求7所述的顯示面板,其特征在于,所述光取出層包括第一介質單元,所述第一介質單元在所述基板上的正投影覆蓋并延伸超出所述子像素在所述基板上的正投影。
9.根據權利要求8所述的顯示面板,其特征在于,在垂直于所述基板且過所述光取出層的第一凹槽的中心線的截面內,所述第一介質單元的第一表面朝向所述基板凹入。
10.根據權利要求9所述的顯示面板,其特征在于,所述第一介質單元的所述第一表面包括第一平坦面及圍繞所述平坦面的第一曲面。
11.根據權利要求10所述的顯示面板,其特征在于,所述第一曲面在所述基板上的正投影覆蓋所述子像素在所述基板上的正投影。
12.根據權利要求7所述的顯示面板,其特征在于,所述光取出層包括第二介質單元,所述第二介質單元在所述基板上的正投影位于相鄰兩個所述子像素在所述基板上的正投影之間。
13.根據權利要求12所述的顯示面板,其特征在于,在垂直于所述基板且過所述光取出層的第一凹槽的中心線的截面內,所述第二介質單元的第一表面背向所述基板凸出。
14.根據權利要求12所述的顯示面板,其特征在于,在垂直于所述基板且過所述光取出層的第一凹槽的中心線的截面內,所述第二介質單元的形狀在平行于所述基板的方向上非對稱。
15.一種光取出層的制作方法,用于制備如權利要求1至6任一項所述的光取出層,其特征在于,包括:
在襯底上形成第一膜層并圖案化所述第一膜層以形成具有多個第一凹槽的第一界定層;
在所述第一凹槽內填充第一介質;
在所述第一界定層上形成第二膜層,所述第二膜層覆蓋所述第一界定層背向所述襯底一側的表面以及所述第一凹槽內的所述第一介質,所述第二膜層的折射率大于所述第一介質的折射率;
固化所述第二膜層以形成平坦化層,并形成背向所述襯底的表面包括曲面的介質單元。
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