[發(fā)明專利]一種臭氣處理裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010469854.X | 申請(qǐng)日: | 2020-05-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111545029A | 公開(公告)日: | 2020-08-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 方盼盼;言佳穎;文定;潘玉剛;張贊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳麥格米特電氣股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | B01D53/76 | 分類號(hào): | B01D53/76;B01D53/00 |
| 代理公司: | 長(zhǎng)沙朕揚(yáng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 43213 | 代理人: | 楊斌 |
| 地址: | 518057 廣東省深圳市南山區(qū)高新區(qū)北區(qū)*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 臭氣 處理 裝置 | ||
1.一種臭氣處理裝置,其特征在于,所述臭氣處理裝置包括外殼(10)、微波發(fā)生組件和設(shè)置在所述外殼(10)內(nèi)部的氣體反應(yīng)腔(1),所述氣體反應(yīng)腔(1)內(nèi)平行設(shè)置有n個(gè)隔板(2),所述隔板(2)將氣體反應(yīng)腔(1)分隔成n+1個(gè)腔室(3),其中,n為整數(shù)且n≥1;所述每個(gè)腔室(3)內(nèi)均設(shè)置有微波紫外激發(fā)組件;所述相鄰腔室(3)之間設(shè)置有連通口(12),相鄰的所述連通口(12)間隔設(shè)置在腔室(3)的上端或下端;所述氣體反應(yīng)腔(1)靠近外殼(10)兩側(cè)的首尾兩個(gè)腔室(3)分別設(shè)置有進(jìn)風(fēng)口(4)和出風(fēng)口(5)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的臭氣處理裝置,其特征在于,所述進(jìn)風(fēng)口(4)和出風(fēng)口(5)均與各自相鄰的連通口(12)間隔設(shè)置在腔室(3)的上端或下端。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的臭氣處理裝置,其特征在于,所述微波紫外激發(fā)組件為一組平行于所述隔板(2)設(shè)置的無極紫外燈管(6)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的臭氣處理裝置,其特征在于,所述無極紫外燈管(6)由所述腔室(3)的上端延伸至腔室(3)的下端。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的臭氣處理裝置,其特征在于,所述微波發(fā)生組件包括設(shè)置相連接的電源(7)和縫隙天線(8);所述縫隙天線(8)緊貼于外殼(10)設(shè)置在所述外殼(10)的頂部。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的臭氣處理裝置,其特征在于,所述外殼(10)在氣體反應(yīng)腔(1)之上圍成一特定高度的空腔(13)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的臭氣處理裝置,其特征在于,所述縫隙天線(8)在水平方向上由所述氣體反應(yīng)腔(1)的第一個(gè)腔室的上方延伸至最后一個(gè)腔室的上方,且所述縫隙天線(8)上開設(shè)有n+1個(gè)縫隙(14),所述n+1個(gè)縫隙(14)對(duì)應(yīng)設(shè)置在n+1個(gè)腔室(3)的正上方。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的臭氣處理裝置,其特征在于,所述外殼(10)的頂部設(shè)置有兩組微波發(fā)生組件。
9.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的臭氣處理裝置,其特征在于,所述進(jìn)風(fēng)口(4)和出風(fēng)口(5)內(nèi)設(shè)置有金屬網(wǎng)(9)。
10.根據(jù)權(quán)利要求1-7任一項(xiàng)所述的臭氣處理裝置,其特征在于,所述隔板(2)采用不吸收且可透過微波的材料制成;所述外殼(10)采用不吸收且可反射微波的材料制成。
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