[發(fā)明專利]一種高音發(fā)聲裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010469464.2
• 申請(qǐng)日: 2020-05-28
• 公開（公告）號(hào): CN111601221A
• 公開（公告）日: 2020-08-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 薄云飛;張迪;周勇
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 歌爾股份有限公司
• 主分類號(hào): H04R9/02
• 分類號(hào): H04R9/02;H04R9/06;H04R1/28;G10K11/162;G10K11/165;G10K11/172
• 代理公司: 北京博雅睿泉專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 11442
• 代理人: 柳巖

本申請(qǐng)公開了一種高音發(fā)聲裝置。該高音發(fā)聲裝置包括：框架結(jié)構(gòu)，所述框架結(jié)構(gòu)包括盆架，所述盆架具有容納槽，所述容納槽的上方形成有承載臺(tái)；磁路系統(tǒng)，所述磁路系統(tǒng)包括中心磁性部件，所述中心磁性部件上具有貫通的通孔，所述磁路系統(tǒng)設(shè)置在所述承載臺(tái)上；振動(dòng)組件，所述振動(dòng)組件包括振膜，所述振膜的邊緣與所述框架結(jié)構(gòu)形成連接，所述振膜遮住所述中心磁性部件的通孔，所述振膜經(jīng)過所述通孔與所述容納槽連通；吸音材料，所述吸音材料設(shè)置在所述容納槽中。本申請(qǐng)的一個(gè)技術(shù)效果在于擴(kuò)大了高音發(fā)聲裝置后聲腔的空間。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)屬于電聲換能技術(shù)領(lǐng)域，具體地，本申請(qǐng)涉及一種高音發(fā)聲裝置。

背景技術(shù)

隨著電聲換能技術(shù)的發(fā)展，發(fā)聲裝置被廣泛應(yīng)用于人們的日常生活中。不僅專用的影音設(shè)備上搭載有發(fā)聲裝置，例如車輛載具、建筑內(nèi)也可以設(shè)置有發(fā)聲裝置，便于日常使用。

在本領(lǐng)域技術(shù)中，可以針對(duì)所要產(chǎn)生的聲音頻段的不同以及音量的不同，設(shè)計(jì)不同類型的發(fā)聲裝置，以達(dá)到更好的聲學(xué)效果。例如，本領(lǐng)域中現(xiàn)有的大型低音揚(yáng)聲器和高音揚(yáng)聲器可以作為家用音響、車載音響等產(chǎn)品。

高音揚(yáng)聲器因自身的聲學(xué)性能要求，其整體結(jié)構(gòu)相對(duì)于低音揚(yáng)聲器更小。本領(lǐng)域技術(shù)人員為了使高音揚(yáng)聲器能夠滿足狹小裝配空間的要求，進(jìn)一步對(duì)高音揚(yáng)聲器做了緊湊化設(shè)計(jì)。這種設(shè)計(jì)方式壓縮了高音揚(yáng)聲器的后腔空間。在高音揚(yáng)聲器振動(dòng)發(fā)聲時(shí)，后腔中的空氣會(huì)因振動(dòng)、溫度等因素出現(xiàn)氣壓增大的現(xiàn)象。這回造成后腔中的空氣更容易發(fā)聲共振，進(jìn)而影響高音揚(yáng)聲器的聲學(xué)性能。

發(fā)明內(nèi)容

本申請(qǐng)的一個(gè)目的是提供一種改進(jìn)的高音發(fā)聲裝置。

根據(jù)本申請(qǐng)的一個(gè)方面，提供了一種高音發(fā)聲裝置，包括：

框架結(jié)構(gòu)，所述框架結(jié)構(gòu)包括盆架，所述盆架具有容納槽，所述容納槽的上方形成有承載臺(tái)；

磁路系統(tǒng)，所述磁路系統(tǒng)包括中心磁性部件，所述中心磁性部件上具有貫通的通孔，所述磁路系統(tǒng)設(shè)置在所述承載臺(tái)上；

振動(dòng)組件，所述振動(dòng)組件包括振膜，所述振膜的邊緣與所述框架結(jié)構(gòu)形成連接，所述振膜遮住所述中心磁性部件的通孔，所述振膜經(jīng)過所述通孔與所述容納槽連通；

吸音材料，所述吸音材料設(shè)置在所述容納槽中。

可選地，所述吸音材料具有鏤空孔，所述鏤空孔與所述通孔的位置對(duì)應(yīng)。

可選地，所述鏤空孔的直徑小于所述通孔的直徑。

可選地，所述吸音材料為吸音泡棉或非發(fā)泡吸音材料。

可選地，所述容納槽的底面上形成有導(dǎo)聲凸起，所述導(dǎo)聲凸起沿著所述通孔的軸向向靠近所述振膜的方向凸起延伸，所述吸音材料設(shè)置在所述導(dǎo)聲凸起周圍。

可選地，所述導(dǎo)聲凸起的側(cè)表面呈傾斜的弧形表面。

可選地，所述導(dǎo)聲凸起具有弧形的頂面。

可選地，所述導(dǎo)聲凸起沿所述通孔的徑向的尺寸小于所述通孔的直徑。

可選地，所述導(dǎo)聲凸起的高度低于所述容納槽的深度。

可選地，框架結(jié)構(gòu)包括上殼，所述上殼扣合在所述盆架上，所述磁路系統(tǒng)位于所述上殼內(nèi)，所述上殼具有出聲孔，所述振膜的遠(yuǎn)離所述磁路系統(tǒng)的一側(cè)與所述出聲孔連通。

本申請(qǐng)的技術(shù)效果在于，增大了高音發(fā)聲裝置內(nèi)的聲腔體積，改善高音發(fā)聲裝置的聲學(xué)性能。

通過以下參照附圖對(duì)本申請(qǐng)的示例性實(shí)施例的詳細(xì)描述，本申請(qǐng)的其它特征及其優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得清楚。

附圖說明

被結(jié)合在說明書中并構(gòu)成說明書的一部分的附圖示出了本申請(qǐng)的實(shí)施例，并且連同其說明一起用于解釋本申請(qǐng)的原理。