[發(fā)明專利]快刀伺服系統(tǒng)和電雕系統(tǒng)及電雕控制方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010468884.9
• 申請日: 2020-05-28
• 公開（公告）號: CN111722584B
• 公開（公告）日: 2021-11-05
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 賈松濤
• 申請（專利權(quán)）人: 固高科技股份有限公司
• 主分類號: G05B19/18
• 分類號: G05B19/18
• 代理公司: 廣州華進聯(lián)合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 黃麗

1.一種快刀伺服系統(tǒng)，其特征在于，包括：

雕刻頭；

移動單元，用于帶動所述雕刻頭沿版輥的軸向運動；

輔助運動機構(gòu)，用于帶動所述雕刻頭沿垂直于所述版輥的圓柱面運動；

控制系統(tǒng)，包括：

用于驅(qū)動所述移動單元的移動單元驅(qū)動模塊；

雕刻頭驅(qū)動模塊，用于驅(qū)動所述雕刻頭的刀尖垂直于所述版輥的圓柱面往復運動；

輔助運動機構(gòu)驅(qū)動模塊，用于在所述雕刻頭開始雕刻起雕點之前，驅(qū)動所述雕刻頭向靠近版輥的方向移動且移動距離a1小于所述起雕點的穴深；還用于在雕刻頭響應進入穩(wěn)定狀態(tài)后，驅(qū)動所述雕刻頭向遠離版輥的方向移動距離a2，距離a1的絕對值等于距離a2的絕對值。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的快刀伺服系統(tǒng)，其特征在于，還包括主軸模塊，所述主軸模塊包括主軸和主軸動力單元，所述主軸動力單元用于通過所述主軸帶動所述版輥轉(zhuǎn)動。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的快刀伺服系統(tǒng)，其特征在于，還包括靠頭模塊，所述靠頭模塊包括靠頭電機和靠頭，所述靠頭電機用于帶動所述靠頭將所述雕刻頭的刀尖壓在所述版輥表面。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的快刀伺服系統(tǒng)，其特征在于，所述輔助運動機構(gòu)包括壓電電機驅(qū)動或音圈電機驅(qū)動的運動臺。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的快刀伺服系統(tǒng)，其特征在于，所述雕刻頭驅(qū)動模塊通過輸出雕刻頭指令驅(qū)動所述雕刻頭的刀尖垂直于所述版輥的圓柱面往復運動，所述雕刻頭指令包括直流指令和交流指令，所述直流指令用于決定所述雕刻頭在版輥表面雕刻的網(wǎng)穴深度，所述交流指令用于決定所述雕刻頭的刀尖垂直于所述版輥的圓柱面往復運動的周期。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的快刀伺服系統(tǒng)，其特征在于，所述輔助運動機構(gòu)驅(qū)動模塊還用于在所述直流指令的幅值突變時，提前于所述突變驅(qū)動所述雕刻頭向所述突變對應的雕刻頭移動方向移動。

7.一種電雕系統(tǒng)，其特征在于，包括：

雕刻頭；

移動單元，用于帶動所述雕刻頭沿版輥的軸向運動；

輔助運動機構(gòu)，用于帶動所述雕刻頭沿垂直于所述版輥的圓柱面運動；

控制系統(tǒng)，包括：

用于驅(qū)動所述移動單元的移動單元驅(qū)動模塊；

雕刻頭驅(qū)動模塊，用于驅(qū)動所述雕刻頭的刀尖垂直于所述版輥的圓柱面往復運動；

輔助運動機構(gòu)驅(qū)動模塊，用于在所述雕刻頭開始雕刻起雕點之前，驅(qū)動所述雕刻頭向靠近版輥的方向移動距離c1；還用于在雕刻頭響應進入穩(wěn)定狀態(tài)后，驅(qū)動所述雕刻頭向遠離版輥的方向移動距離c2，距離c1的絕對值等于距離c2的絕對值。

8.一種電雕控制方法，包括：

輔助運動機構(gòu)在雕刻頭驅(qū)動模塊驅(qū)動雕刻頭開始雕刻起雕點之前，將所述雕刻頭向靠近版輥的方向移動，且移動距離c1小于所述起雕點的穴深；

雕刻頭驅(qū)動模塊驅(qū)動雕刻頭的刀尖垂直于所述版輥的圓柱面往復運動，以雕刻網(wǎng)穴；

輔助運動機構(gòu)在雕刻頭響應進入穩(wěn)定狀態(tài)后，將所述雕刻頭向遠離版輥的方向移動距離c2，距離c1的絕對值等于距離c2的絕對值；

移動單元帶動所述雕刻頭沿版輥的軸向運動。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的電雕控制方法，其特征在于，還包括通過主軸帶動所述版輥轉(zhuǎn)動的步驟。