[發明專利]激光共聚焦測高方法

有效

• 申請號: 202010467720.4
• 申請日: 2020-05-28
• 公開（公告）號: CN111366088B
• 公開（公告）日: 2020-09-04
• 發明（設計）人: 馬雙雙;李夢夢
• 申請（專利權）人: 嘉興景焱智能裝備技術有限公司
• 主分類號: G01B11/06
• 分類號: G01B11/06;G01B11/30
• 代理公司: 上海霖睿專利代理事務所(普通合伙) 31391
• 代理人: 黃燕石;陳得宗

1.一種激光共聚焦測高方法，應用激光共聚焦測高系統實現，所述激光共聚焦測高系統包括共聚焦直線光路和激光光源，所述共聚焦直線光路包括成像CMOS、成像后鏡組、第一分光棱鏡、主鏡組和待測物面，所述激光光源通過照明后鏡組向第一分光棱鏡發射平行光，所述激光的入射方向與共聚焦直線光路垂直，在所述激光光源與照明后鏡組之間設置雙孔模塊，所述雙孔模塊包括并排布置的第二分光棱鏡和第三分光棱鏡，所述激光光源、第二分光棱鏡和第一分光棱鏡位于同一激光光路上，當待測物面的反射光線經過雙孔模塊的第二分光棱鏡時，反射光線進行第一次分光，一部分光經過雙孔模塊的第三分光棱鏡進行第二次分光，在第三分光棱鏡的透光光路和分光光路上，分別設置正離焦測試PMT和負離焦測試PMT，在正離焦測試PMT的光路上的正離焦位置設置正離焦小孔，在負離焦測試PMT的光路上的負離焦位置設置負離焦小孔，

其特征在于：包括如下步驟：

（1）在待測物面位置設置平面標定板，調節平面標定板的水平位置，使正離焦測試PMT和負離焦測試PMT表面能量數值最大，將平面標定板的位置定為零點；

（2）將待測物面置于零點；

（3）通過測高系統獲取待測物面的表面信息；

（4）根據正離焦測試PMT和負離焦測試PMT的能量信息發生的變化，判斷待測物面的表面狀態：

a:當正離焦測試PMT上能量不變而負離焦測試PMT上能量變小，則待測物面的表面為凹陷；

b:當負離焦測試PMT上能量不變而正離焦測試PMT上能量變小，則待測物面的表面為凸起。

2.根據權利要求1所述的激光共聚焦測高方法，其特征在于：在步驟（1）中，還包括計算檢測精度的步驟：調節平面標定板得到最佳焦面，記當時位置為d0,d0位置的正離焦測試PMT或負離焦測試PMT的表面能量值E0，再調整標定板位置至d1，記錄d1位置正離焦測試PMT或負離焦測試PMT的表面能量值E1，則在平面標定板的移動位置范圍內測高系統的檢測精度為σ=（E1-E0）/(d1-d0)。