[發(fā)明專利]形成半導(dǎo)體器件的方法以及系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010466810.1
• 申請(qǐng)日: 2020-05-28
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112233984A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-01-15
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 凡卡塔·史瑞帕西·沙珊卡·普雷塔帕;陳俊宏;鄭文豪
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 臺(tái)灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L21/50
• 分類號(hào): H01L21/50;H01L21/67
• 代理公司: 北京德恒律治知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11409
• 代理人: 章社杲;李偉

1.一種形成半導(dǎo)體器件的方法，包括：

接收形成在晶圓的表面上的多個(gè)部件的第一布局?jǐn)?shù)據(jù)，所述表面包括在第一劃分層級(jí)下的多個(gè)格柵區(qū)域；

確定在所述第一劃分層級(jí)下的所述多個(gè)格柵區(qū)域中的每個(gè)的初始圖案密度值；

通過(guò)調(diào)整所述多個(gè)格柵區(qū)域中的第一格柵區(qū)域的初始圖案密度值來(lái)獲取所述第一格柵區(qū)域的計(jì)劃圖案密度值，所述第一格柵區(qū)域的所述初始圖案密度值基于所述第一劃分層級(jí)下的所述多個(gè)格柵區(qū)域中的第二格柵區(qū)域的初始圖案密度值；

基于所述計(jì)劃圖案密度值來(lái)確定所述第一格柵區(qū)域的第二布局?jǐn)?shù)據(jù)；以及

至少部分地基于所述第一格柵區(qū)域的所述第二布局?jǐn)?shù)據(jù)在所述晶圓的所述表面上形成所述多個(gè)部件。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，基于所述第一布局?jǐn)?shù)據(jù)來(lái)確定所述初始圖案密度值。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中，基于關(guān)于所述第一格柵區(qū)域和與所述第一格柵區(qū)域相鄰的外圍區(qū)域的所述第一布局?jǐn)?shù)據(jù)來(lái)確定所述初始圖案密度值。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，基于第二劃分層級(jí)下的第三格柵區(qū)域的圖案密度值來(lái)確定所述初始圖案密度值，并且所述第三格柵區(qū)域與所述第一格柵區(qū)域重疊。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，所述第三格柵區(qū)域包含所述第一格柵區(qū)域。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其中，所述第三格柵區(qū)域包含在所述第一格柵區(qū)域中。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，基于所述計(jì)劃圖案密度值來(lái)確定所述第一格柵區(qū)域的所述第二布局?jǐn)?shù)據(jù)包括：確定所述第一格柵區(qū)域中的部件的表面面積。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其中，獲取所述多個(gè)格柵區(qū)域中的所述第一格柵區(qū)域的所述計(jì)劃圖案密度值還包括：將部件添加到所述第一格柵區(qū)域中。

9.一種形成半導(dǎo)體器件的系統(tǒng)，包括：

晶圓處理工具，配置為在晶圓表面上形成多個(gè)連接部件；

數(shù)據(jù)庫(kù)，配置為存儲(chǔ)所述多個(gè)連接部件的設(shè)計(jì)數(shù)據(jù)；以及

基于處理器的控制器，可操作的控制所述晶圓處理工具以在所述晶圓表面上形成所述多個(gè)連接部件，包括以下動(dòng)作：

在第一劃分層級(jí)下將所述晶圓表面劃分為第一多個(gè)格柵區(qū)域；

確定所述第一多個(gè)格柵區(qū)域中的第一格柵區(qū)域的第一圖案密度值；

基于所述第一多個(gè)格柵區(qū)域中的第二格柵區(qū)域的第二圖案密度值來(lái)調(diào)整所述第一格柵區(qū)域的所述第一圖案密度值；

基于調(diào)整后的所述第一格柵區(qū)域的所述第一圖案密度值來(lái)確定所述第一格柵區(qū)域的布局?jǐn)?shù)據(jù)；和

至少部分地基于所述第一格柵區(qū)域的所述布局?jǐn)?shù)據(jù)來(lái)控制所述晶圓處理工具，以在所述晶圓的所述表面上形成所述多個(gè)連接部件。

10.一種形成半導(dǎo)體器件的方法，包括：

接收形成在第一襯底的表面上的多個(gè)離散導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的第一布局?jǐn)?shù)據(jù)，所述多個(gè)離散導(dǎo)電結(jié)構(gòu)包括形成在所述表面上的第一格柵區(qū)域中的第一離散導(dǎo)電結(jié)構(gòu)；

確定所述第一格柵區(qū)域的圖案密度值；

確定所述第一離散導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的高度值；

基于所述第一離散導(dǎo)電結(jié)構(gòu)的所述高度值來(lái)調(diào)整所述第一格柵區(qū)域的所述圖案密度值；

基于調(diào)整后的圖案密度值來(lái)確定所述第一格柵區(qū)域的布局；以及

至少部分地基于所述第一格柵區(qū)域的所述布局在所述表面上形成所述多個(gè)離散導(dǎo)電結(jié)構(gòu)。