[發明專利]一種超強激光驅動多輻射源的同軸測量系統

在審

• 申請號: 202010466419.1
• 申請日: 2020-05-28
• 公開（公告）號: CN111487668A
• 公開（公告）日: 2020-08-04
• 發明（設計）人: 滕建;鄧志剛;齊偉;王為武;于明海;單連強;田超;張天奎;張鋒;袁宗強
• 申請（專利權）人: 中國工程物理研究院激光聚變研究中心
• 主分類號: G01T1/36
• 分類號: G01T1/36;G01T1/29
• 代理公司: 北京高沃律師事務所 11569
• 代理人: 杜陽陽

1.一種超強激光驅動多輻射源的同軸測量系統，其特征在于，包括：多輻射源角分布測量模塊、電子-質子譜儀模塊、伽瑪濾片堆棧譜儀模塊以及瞄準激光組件；

所述瞄準激光組件發射的激光依次穿過所述伽馬濾片堆棧譜儀模塊、所述電子-質子譜儀模塊以及所述多輻射源角分布測量模塊，形成光軸入射到靶面，使得所述多輻射源角分布測量模塊、所述電子-質子譜儀模塊、所述伽瑪濾片堆棧譜儀模塊和所述瞄準激光組件發射的激光同軸。

2.根據權利要求1所述的超強激光驅動多輻射源的同軸測量系統，其特征在于，所述多輻射源角分布測量模塊內設有堆棧組；

所述堆棧組包括：依次排列的CR39膜片、RCF膜片、鋁膜、多層RCF膜片組以及多組電子記錄板；所述電子記錄板包括依次設置的鉭片和IP板；所述RCF膜片、鋁膜、多層RCF膜片組以及多組電子記錄板的中心均設置有通孔，多個所述通孔同軸設置；所述CR39膜片的面積小于所述RCF膜片面積的四分之一。

3.根據權利要求2所述的超強激光驅動多輻射源的同軸測量系統，其特征在于，所述多輻射源角分布測量模塊還包括裝配盒和第一調節支架；所述堆棧組設置在所述裝配盒中；所述第一調節支架用于支撐所述裝配盒。

4.根據權利要求2所述的超強激光驅動多輻射源的同軸測量系統，其特征在于，所述RCF膜片、所述鋁膜、所述多層RCF膜片組、所述鉭片和所述IP板的橫截面相等。

5.根據權利要求1所述的超強激光驅動多輻射源的同軸測量系統，其特征在于，所述電子-質子譜儀模塊包括準直器、二極磁鐵和探測器組件；所述準直器包括依次疊放的質子準直器和電子準直器；所述質子準直器的準直孔為啞鈴型；所述電子準直器的準直孔的橫截面為長方形；所述質子準直器的準直孔與所述電子準直器的準直孔相對設置；所述二極磁鐵位于所述準直器的一側；所述二極磁鐵用于使帶電粒子發生偏轉；所述探測器組件包括質子信號記錄板和電子信號記錄板；所述質子信號記錄板位于所述光軸的一側；所述電子信號記錄板位于所述光軸的另一側；帶電粒子從所述準直器的另一側穿過所述準直器，在所述二極磁鐵的作用下偏轉到所述探測器組件上。

6.根據權利要求5所述的超強激光驅動多輻射源的同軸測量系統，其特征在于，所述電子信號記錄板包括電子信號探測器夾具和電子IP板，所述電子信號探測器夾具用于固定所述電子IP板；所述質子信號記錄板包括質子IP板、楔形濾片和質子信號探測器夾具；所述質子IP板的一側設置有所述楔形濾片；所述質子IP板的另一側設置有所述質子信號探測器夾具；所述楔形濾片在臨近所述光軸的一側厚度大。

7.根據權利要求5所述的超強激光驅動多輻射源的同軸測量系統，其特征在于，所述電子-質子譜儀模塊還包括：第一屏蔽盒和第一調節平臺；所述第一調節平臺用于支撐所述第一屏蔽盒；所述準直器、二極磁鐵和探測器組件設置在所述第一屏蔽盒中。

8.根據權利要求1所述的超強激光驅動多輻射源的同軸測量系統，其特征在于，所述伽瑪濾片堆棧譜儀模塊包括伽瑪濾片堆棧；所述伽瑪濾片堆棧包括多個依次排列的伽瑪濾片組；所述伽瑪濾片組包括依次設置的IP板和鉭片。

9.根據權利要求8所述的超強激光驅動多輻射源的同軸測量系統，其特征在于，所述伽瑪濾片堆棧譜儀模塊還包括第二屏蔽盒和第二調節平臺；所述第二調節平臺用于支撐所述第二屏蔽盒；所述第二屏蔽盒內設有所述伽瑪濾片堆棧。

10.根據權利要求1所述的超強激光驅動多輻射源的同軸測量系統，其特征在于，所述瞄準激光組件具體包括：激光筆和第二調節支架；所述第二調節支架用于支撐所述激光筆。