[發明專利]一種適用于光譜分析儀器的自動清洗系統及方法在審
| 申請號: | 202010465650.9 | 申請日: | 2020-05-28 |
| 公開(公告)號: | CN111570454A | 公開(公告)日: | 2020-08-25 |
| 發明(設計)人: | 程澄;吳靜;王士峰;柴一荻;王文霞;馮亮 | 申請(專利權)人: | 蘇州國溯科技有限公司 |
| 主分類號: | B08B9/093 | 分類號: | B08B9/093;B08B9/46;G01N21/11 |
| 代理公司: | 無錫市匯誠永信專利代理事務所(普通合伙) 32260 | 代理人: | 許云峰 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市高*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 適用于 光譜 分析儀器 自動 清洗 系統 方法 | ||
1.一種適用于光譜分析儀器的自動清洗系統,包括比色皿,其特征在于包括:
管路,與比色皿相連,為比色皿的流量通道;
蠕動泵,設置在比色皿入口處的管路上,控制清洗液流速,將清洗液泵入比色皿內;
夾管閥,設置在比色皿入口處的管路上,控制清洗液流動;
檢測單元,對比色皿進行檢測;
控制模塊,與檢測單元、夾管閥、蠕動泵電氣線路連接,實現對檢測單元、夾管閥、蠕動泵之間的聯動控制;清洗時,調節清洗液雷諾數Re來提高水利剪切強度,使清洗液在比色皿內呈紊流狀態。
2.根據權利要求1所述的自動清洗系統,其特征在于:所述管路為聚四氟乙烯軟管,其內徑為2~5mm。
3.根據權利要求1所述的自動清洗系統,其特征在于:所述比色皿為石英材質,所述比色皿長度為20~40mm,所述比色皿的內部橫截面為正方形,邊長為5~10mm。
4.根據權利要求1所述的自動清洗系統,其特征在于:所述清洗液為水、兩性表面活性劑溶液、非離子表面活性劑溶液。
5.一種適用于光譜分析儀器的自動清洗方法,采用權利要求1~4的自動清洗系統,其特征在于包括如下步驟:
步驟1、夾管閥打開,蠕動泵運轉并將比色皿內的樣品排空;
步驟2、夾管閥打開,蠕動泵運轉引入清洗液進入比色皿內,并調整比色皿內清洗液雷諾數Re來強化水利剪切清洗;當Re>4000時,清洗液在比色皿內呈紊流狀態進行清洗;
雷諾數Re=ρvd/μ,其中:v、ρ、μ分別為清洗液的流速、清洗液的密度與清洗液的的黏性系數,d為管道截面當量直徑,單位為國際單位制基本單位;
步驟3、當清洗液清洗結束后,夾管閥打開,運轉引入純水進行清洗,并調整純水雷諾數Re<2300,使其處于層流狀態去除清洗液;
步驟4、純水對比色皿的清洗結束后,蠕動泵停轉,夾管閥關閉;
步驟5、啟動檢測單元,對比色皿內的水樣進行檢測,若達到清洗要求則達到清洗要求,執行步驟6;若未達到清洗要求,則執行步驟2;
步驟6、清洗完成。
6.根據權利要求5所述的自動清洗系統,其特征在于:步驟2中清洗時間t≧(50*比色皿的體積)/流量。
7.根據權利要求5所述的自動清洗系統,其特征在于:步驟3中清洗時間t≧(50*比色皿的體積)/流量。
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