[發(fā)明專利]一種納米銀原位法消毒抗菌無(wú)紡布及其制備方法和應(yīng)用

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010465050.2
• 申請(qǐng)日: 2020-05-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111472179A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-07-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 雷震;余雪玲;全曉冬;趙亮;丁軼
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 珠海納金科技有限公司
• 主分類號(hào): D06N3/18
• 分類號(hào): D06N3/18;D06N3/00;D06N3/04;D06N3/14
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 44202
• 代理人: 盧澤明

1.一種納米銀原位法消毒抗菌無(wú)紡布，包括無(wú)紡布層(1)，其特征在于：

所述無(wú)紡布層(1)的上表面和下表面分別附著粘接有上側(cè)納米銀顆粒聚氨酯層(2)和下側(cè)納米銀顆粒聚氨酯層(3)，上側(cè)納米銀顆粒聚氨酯層(2)、無(wú)紡布層(1)和下側(cè)納米銀顆粒聚氨酯層(3)形成由上及下依次層狀疊加的復(fù)合結(jié)構(gòu)，所述無(wú)紡布層(1)采用清水潤(rùn)濕后、上下側(cè)表面分別附著粘結(jié)還原及氧化原料劑經(jīng)恒溫恒濕反應(yīng)、并經(jīng)蒸發(fā)烘干后上下側(cè)表面形成上側(cè)納米銀顆粒聚氨酯層(2)和下側(cè)納米銀顆粒聚氨酯層(3)；

所述上側(cè)納米銀顆粒聚氨酯層(2)和下側(cè)納米銀顆粒聚氨酯層(3)中的納米銀顆粒均勻分布于對(duì)應(yīng)的聚氨酯層中。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米銀原位法消毒抗菌無(wú)紡布，其特征在于，所述無(wú)紡布層的厚度為50-250μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米銀原位法消毒抗菌無(wú)紡布，其特征在于，所述上側(cè)納米銀顆粒聚氨酯層(2)和下側(cè)納米銀顆粒聚氨酯層(3)的厚度均為10-50μm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的一種納米銀原位法消毒抗菌無(wú)紡布，其特征在于，所述上側(cè)納米銀顆粒聚氨酯層(2)和下側(cè)納米銀顆粒聚氨酯層(3)中納米銀顆粒的粒徑為10-30nm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的一種納米銀原位法消毒抗菌無(wú)紡布的制備方法，其特征在于，通過(guò)無(wú)紡布依次通過(guò)清水池、還原池、氧化池、反應(yīng)箱和隧道爐，制得納米銀殺毒抗菌無(wú)紡布，具體包括以下步驟：

(1)、設(shè)備及材料準(zhǔn)備

準(zhǔn)備的普通無(wú)紡布，以及加工過(guò)程需要的清水池、還原池、氧化池、反應(yīng)箱和隧道爐；

(2)、制備處理

a、將普通無(wú)紡布通過(guò)清水池進(jìn)行潤(rùn)濕；

b、還原池處理

還原池中的原料及按重量比計(jì)的份量：

將潤(rùn)濕的無(wú)紡布通過(guò)還原池中均勻混合配比的還原原料劑中，使還原原料劑均勻附著在無(wú)紡布的兩側(cè)表面上；

c、氧化池處理

氧化池原料以及按重量比計(jì)的份量：

將附著還原原料劑的無(wú)紡布通過(guò)氧化池中均勻混合配比的氧化原料劑中，使氧化原料劑均勻附著在無(wú)紡布的兩側(cè)表面上并與還原原料劑有效混合接觸；

d、反應(yīng)箱處理

反應(yīng)箱為恒溫恒濕箱，溫度控制在30-80℃，濕度控制在60-95％的區(qū)間，有利于還原原料劑與氧化原料劑反應(yīng)的完全進(jìn)行；

d、隧道爐處理

反應(yīng)箱內(nèi)，由于水性聚氨酯和乙基纖維素，生成的納米銀可以更穩(wěn)固的附著在無(wú)紡布上，不易脫落，再經(jīng)過(guò)80-120℃的隧道爐，將多余的水分蒸發(fā)掉，最終制備成納米銀原位法消毒抗菌無(wú)紡布。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～4任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的一種納米銀原位法消毒抗菌無(wú)紡布的應(yīng)用，其特征在于，該納米銀原位法消毒抗菌無(wú)紡布在手術(shù)衣、防護(hù)服、消毒包布、口罩、尿片、民用抹布、擦拭布、濕面巾、魔術(shù)毛巾、柔巾卷、美容用品、衛(wèi)生巾、衛(wèi)生護(hù)墊、一次性衛(wèi)生用布、醫(yī)用一次性床單、手術(shù)單以及手術(shù)桌用布中的應(yīng)用。