[發(fā)明專利]顯示面板及其制作方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010461187.0 | 申請日: | 2020-05-27 |
| 公開(公告)號: | CN111564572B | 公開(公告)日: | 2023-04-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郭志林;張振宇 | 申請(專利權(quán))人: | 合肥維信諾科技有限公司 |
| 主分類號: | H10K50/844 | 分類號: | H10K50/844;H10K59/60;H10K71/00 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11258 | 代理人: | 娜拉 |
| 地址: | 230037 安徽省合*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 顯示 面板 及其 制作方法 | ||
1.一種顯示面板的制作方法,其特征在于,包括:
提供襯底,所述襯底具有第一區(qū)域和第二區(qū)域;
在所述襯底上形成第一層疊中間層并圖案化所述第一層疊中間層形成具有第一通孔的第一疊層,所述第一通孔暴露所述襯底的部分上表面,且所述第一通孔在所述襯底的正投影至少覆蓋所述第一區(qū)域;
在所述第一疊層背向所述襯底的表面及所述第一通孔內(nèi)形成第一有機層,至少去除所述第一疊層背向所述襯底一側(cè)表面上的部分所述第一有機層,所述第一通孔內(nèi)的所述第一有機層背向所述襯底的表面與所述第一疊層背向所述襯底的表面相平齊;在所述第一疊層上形成第二層疊中間層并圖案化所述第二層疊中間層形成具有第二通孔的第二疊層,所述第二通孔與所述第一通孔在軸向上相連通,且所述第二通孔的孔徑小于所述第一通孔的孔徑;
在所述第二疊層上形成第三層疊中間層,至少部分所述第三層疊中間層位于所述第二疊層背向所述襯底的表面以形成發(fā)光器件層,且至少部分所述第三層疊中間層位于所述第一通孔內(nèi)并與所述發(fā)光器件層斷開,所述發(fā)光器件層具有與所述第二通孔軸向上相連通的第三通孔,且所述發(fā)光器件層具有朝向所述第三通孔的斷面;
在所述發(fā)光器件層上形成封裝層,至少部分所述封裝層位于所述發(fā)光器件層背向所述襯底一側(cè)的表面且至少部分所述封裝層覆蓋所述發(fā)光器件層的所述斷面;
其中,還包括去除所述第一通孔內(nèi)的所述第一有機層的步驟。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,在所述形成具有第一通孔的第一疊層的步驟與所述形成具有第二通孔的第二疊層的步驟之間還包括:
所述第一有機層背向所述襯底的一側(cè)具有平整表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,所述第一有機層的材料為光刻膠。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,在所述形成第一有機層的步驟之后還包括固化所述第一有機層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,所述形成具有第二通孔的第二疊層的步驟,包括:
在所述第一疊層上形成第一金屬中間層,所述第一金屬中間層至少覆蓋所述第一通孔內(nèi)所述第一有機層背向所述襯底一側(cè)的表面;
在所述第一金屬中間層上形成第一光刻膠層并圖案化所述第一光刻膠層,使得所述第一光刻膠層至少對應(yīng)所述第二通孔鏤空設(shè)置;
以圖案化的所述第一光刻膠層為掩模圖案化所述第一金屬中間層,形成具有第一鏤空區(qū)域的第一金屬層,所述第一鏤空區(qū)域在所述襯底的正投影與所述第二通孔在所述襯底的正投影重合。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,所述第一金屬層還具有第二鏤空區(qū)域,所述第二鏤空區(qū)域圍繞所述第一鏤空區(qū)域的周向設(shè)置,使得位于所述第二鏤空區(qū)域與所述第一鏤空區(qū)域之間的所述第一金屬層與其他部分所述第一金屬層斷開。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,所述形成具有第二通孔的第二疊層的步驟還包括:
在所述圖案化所述第一金屬中間層的步驟之后,灰化去除所述第一通孔內(nèi)的所述第一有機層;
去除所述第一光刻膠層;
在所述第一金屬層上形成圖案化的第一平坦化層,所述第一平坦化層具有與所述第一金屬層的所述第一鏤空區(qū)域相對應(yīng)的第三鏤空區(qū)域,所述第二通孔包括所述第一鏤空區(qū)域和所述第三鏤空區(qū)域。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,所述第一光刻膠層的厚度大于等于4μm。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示面板的制作方法,其特征在于,所述形成發(fā)光器件層的步驟,包括:
在所述第一平坦化層上依次形成圖案化的第一電極層和圖案化的像素定義層,所述第一電極層和所述像素定義層對應(yīng)所述第三鏤空區(qū)域鏤空設(shè)置;
在所述像素定義層背向所述襯底的一側(cè)蒸鍍自發(fā)光材料,至少部分所述自發(fā)光材料位于所述像素定義層上形成自發(fā)光層,且至少部分所述自發(fā)光材料位于所述第一通孔內(nèi)并與所述自發(fā)光層斷開。
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