[發(fā)明專利]一種硅納米線復(fù)合CsPbBr3 在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010460292.2 | 申請(qǐng)日: | 2020-05-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111540832A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-08-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曹蘊(yùn)清;朱平;黎思越;吳真龍;單丹;曾祥華 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 揚(yáng)州大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L51/42 | 分類號(hào): | H01L51/42;H01L51/48 |
| 代理公司: | 南京蘇科專利代理有限責(zé)任公司 32102 | 代理人: | 董旭東;徐素柏 |
| 地址: | 225009 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 納米 復(fù)合 cspbbr base sub | ||
1.一種硅納米線復(fù)合CsPbBr3量子點(diǎn)有機(jī)雜化的太陽(yáng)能電池,包括太陽(yáng)能電池硅片,其特征在于,所述太陽(yáng)能電池硅片單面刻蝕有硅納米線、所述硅納米線外側(cè)的外層依次旋涂有的CsPbBr3量子點(diǎn)和有機(jī)物,所述有機(jī)物的表面鍍有束狀銀電極,所述太陽(yáng)能電池硅片的背面鍍有鋁電極。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅納米線復(fù)合CsPbBr3量子點(diǎn)有機(jī)雜化的太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述太陽(yáng)能電池硅片為n型單晶硅片,單面刻蝕通過(guò)氫氟酸和硝酸銀的混合液刻蝕處理形成,具體過(guò)程為:將清洗干凈的單晶硅片浸泡在氫氟酸和硝酸銀混合溶液中,室溫下刻蝕5~10min;然后,將刻蝕后的硅片置于稀硝酸中浸泡15~20min,以除去表面的殘留反應(yīng)物,最后取出硅片用去離子水洗凈、再烘干后得到垂直分布的硅納米線陣列基底。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅納米線復(fù)合CsPbBr3量子點(diǎn)有機(jī)雜化的太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述有機(jī)物為2,2',7,7'-四[N,N-二(4-甲氧基苯基)氨基]-9,9'-螺二芴的氯苯溶液。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅納米線復(fù)合CsPbBr3量子點(diǎn)有機(jī)雜化的太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述2,2',7,7'-四[N,N-二(4-甲氧基苯基)氨基]-9,9'-螺二芴的氯苯溶液的質(zhì)量體積濃度為:70~75mg/mL。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅納米線復(fù)合CsPbBr3量子點(diǎn)有機(jī)雜化的硅片,其特征在于,所述刻蝕的混合液中氫氟酸和硝酸銀的物質(zhì)的量濃度分別為5 M/L和0.02 M/L,所述稀硝酸的物質(zhì)的量的濃度為10 M/L。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅納米線復(fù)合CsPbBr3量子點(diǎn)有機(jī)雜化的太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述CsPbBr3量子點(diǎn)的旋涂液通過(guò)如下步驟配制:
(1)將Cs2CO3固體與油酸和十八烯混合,在真空條件加熱干燥,然后在氮?dú)獗Wo(hù)下加熱至Cs2CO3完全反應(yīng),在氮?dú)獗Wo(hù)下自然冷卻至室溫,制備銫油酸鹽前驅(qū)液;
(2)將粉末狀固體PbBr2與十八烯混合,真空干燥后通氮?dú)猓⑷虢?jīng)無(wú)水硫酸鈉干燥過(guò)的油胺和油酸待PbBr2完全溶解后升溫并快速注入步驟1制得的銫油酸鹽前驅(qū)液,進(jìn)行反應(yīng),然后用冰水浴冷卻至室溫,制得CsPbBr3膠體量子點(diǎn)溶液;
(3)將步驟(2)制得的CsPbBr3膠體量子點(diǎn)溶液于離心分離機(jī)中以18000~20000r/min轉(zhuǎn)速離心沉淀,去除上層清液,取沉淀層加入有機(jī)溶劑,重新溶解得到濃度為1.5mg~2.5/mL的CsPbBr3膠體量子點(diǎn)墨水。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅納米線復(fù)合CsPbBr3量子點(diǎn)有機(jī)雜化的太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述硅納米線旋涂CsPbBr3量子點(diǎn)的過(guò)程依次包括低速段和高速段,所述低速段的轉(zhuǎn)速為1000~1200r/min,時(shí)間為8~10s;所述高速段的轉(zhuǎn)速為3000~3200r/min,時(shí)間為50~60s,最終CsPbBr3量子點(diǎn)薄膜的厚度為10~30 nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅納米線復(fù)合CsPbBr3量子點(diǎn)有機(jī)雜化的太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述有機(jī)物的旋涂為中速旋涂,轉(zhuǎn)速為1800~2000r/min,時(shí)間為50~60s。
9.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅納米線復(fù)合CsPbBr3量子點(diǎn)有機(jī)雜化的太陽(yáng)能電池,其特征在于,所述銀電極和鋁電極分別通過(guò)真空電阻蒸發(fā)鍍膜設(shè)備蒸鍍,最終所述銀電極的厚度400nm,鋁電極厚度600nm。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的太陽(yáng)能電池,其特征在于,蒸鍍電極時(shí)的真空度為10-4Pa,蒸鍍時(shí)間50~60s。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能,或者適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的,如有機(jī)發(fā)光二極管
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