[發(fā)明專利]集成存儲(chǔ)器在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010460066.4 | 申請(qǐng)日: | 2020-05-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112447754A | 公開(kāi)(公告)日: | 2021-03-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | K·M·考爾道;A·法魯辛;劉海濤;K·D·普拉爾 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 美光科技公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/11568 | 分類號(hào): | H01L27/11568;H01L27/11573;H01L27/11521;H01L27/11526 |
| 代理公司: | 北京律盟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287 | 代理人: | 王龍 |
| 地址: | 美國(guó)愛(ài)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 集成 存儲(chǔ)器 | ||
本申請(qǐng)案涉及集成存儲(chǔ)器。一些實(shí)施例包含具有存儲(chǔ)器單元的組合件,所述存儲(chǔ)器單元具有作用區(qū),所述作用區(qū)包含一對(duì)源極/漏極區(qū)之間的主體區(qū)。電荷存儲(chǔ)材料鄰近于所述主體區(qū)。導(dǎo)電柵極鄰近于所述電荷存儲(chǔ)材料。空穴再充電布置經(jīng)配置以在空穴從所述主體區(qū)到所述電荷存儲(chǔ)材料的注入期間補(bǔ)充所述主體區(qū)內(nèi)的空穴。所述空穴再充電布置包含異質(zhì)結(jié)構(gòu)作用區(qū),所述異質(zhì)結(jié)構(gòu)作用區(qū)包括具有與所述主體區(qū)不同的組合物的至少一個(gè)源極/漏極區(qū),及/或包含將所述主體區(qū)與空穴儲(chǔ)存區(qū)耦合的延伸部。字線與所述導(dǎo)電柵極耦合。第一比較數(shù)字線與所述源極/漏極區(qū)中的一者耦合,且第二比較數(shù)字線與所述源極/漏極區(qū)中的另一者耦合。
技術(shù)領(lǐng)域
集成存儲(chǔ)器。
背景技術(shù)
存儲(chǔ)器是一種類型的集成電路,且在計(jì)算機(jī)系統(tǒng)中用于存儲(chǔ)數(shù)據(jù)。存儲(chǔ)器可制作為個(gè)別存儲(chǔ)器單元的一或多個(gè)陣列。可使用數(shù)字線(其也可稱為位線、數(shù)據(jù)線、感測(cè)線或數(shù)據(jù)/感測(cè)線)及存取線(其也可稱為字線)寫(xiě)入到存儲(chǔ)器單元或從其讀取。數(shù)字線可沿著陣列的列導(dǎo)電地互連存儲(chǔ)器單元,且存取線可沿著陣列的行導(dǎo)電地互連存儲(chǔ)器單元。
存儲(chǔ)器單元可為易失性或非易失性的。非易失性存儲(chǔ)器單元可在延長(zhǎng)的周期內(nèi)存儲(chǔ)數(shù)據(jù),包含關(guān)閉計(jì)算機(jī)時(shí)。易失性存儲(chǔ)器耗散且因此需要刷新/重寫(xiě),有時(shí)每秒刷新/重寫(xiě)多次。無(wú)論如何,存儲(chǔ)器單元經(jīng)配置而以至少兩種不同的可選擇狀態(tài)保持或存儲(chǔ)存儲(chǔ)器。在二進(jìn)制系統(tǒng)中,狀態(tài)被視為“0”或“1”。在其它系統(tǒng)中,至少一些個(gè)別存儲(chǔ)器單元可經(jīng)配置以存儲(chǔ)多于兩個(gè)電平或狀態(tài)的信息。
期望開(kāi)發(fā)出經(jīng)改進(jìn)的存儲(chǔ)器單元。
發(fā)明內(nèi)容
在一個(gè)方面中,本申請(qǐng)案提供一種集成組合件,其包括:存儲(chǔ)器單元,所述存儲(chǔ)器單元包括作用區(qū),所述作用區(qū)包含第一源極/漏極區(qū)、第二源極/漏極區(qū)以及所述第一源極/漏極區(qū)與所述第二源極/漏極區(qū)之間的主體區(qū);所述第一源極/漏極區(qū)及所述第二源極/漏極區(qū)為n摻雜區(qū);電荷存儲(chǔ)材料,其鄰近所述主體區(qū);導(dǎo)電柵極,其鄰近所述電荷存儲(chǔ)材料;空穴再充電布置,其經(jīng)配置以在空穴從所述主體區(qū)到所述電荷存儲(chǔ)材料的注入期間補(bǔ)充所述主體區(qū)內(nèi)的空穴;所述空穴再充電布置包含異質(zhì)結(jié)構(gòu)作用區(qū),所述異質(zhì)結(jié)構(gòu)作用區(qū)包括具有與所述主體區(qū)不同的組合物的所述第一源極/漏極區(qū)及所述第二源極/漏極區(qū)中的至少一者,及/或所述空穴再充電布置包含將所述主體區(qū)與空穴儲(chǔ)存區(qū)耦合的延伸部;字線,其與所述導(dǎo)電柵極耦合;第一比較數(shù)字線,其與所述第一源極/漏極區(qū)耦合;及第二比較數(shù)字線,其與所述第二源極/漏極區(qū)耦合。
在另一方面中,本申請(qǐng)案進(jìn)一步提供一種存儲(chǔ)器單元,其包括:作用區(qū),所述作用區(qū)包含第一源極/漏極區(qū)、第二源極/漏極區(qū)以及所述第一源極/漏極區(qū)與所述第二源極/漏極區(qū)之間的主體區(qū);所述主體區(qū)包括與所述第一源極/漏極區(qū)及所述第二源極/漏極區(qū)中的至少一者不同的半導(dǎo)體組合物,以使得能夠通過(guò)所述主體區(qū)與所述第一源極/漏極區(qū)及所述第二源極/漏極區(qū)中的所述至少一者之間的帶間隧穿補(bǔ)充所述主體區(qū)內(nèi)的載流子;電荷存儲(chǔ)材料,其鄰近所述主體區(qū);及導(dǎo)電柵極材料,其鄰近所述電荷存儲(chǔ)材料。
在仍另一方面中,本申請(qǐng)案進(jìn)一步提供一種集成組合件,其包括:存儲(chǔ)器單元,所述存儲(chǔ)器單元包括垂直延伸的作用區(qū),所述垂直延伸的作用區(qū)包含第一源極/漏極區(qū)、第二源極/漏極區(qū)以及所述第一源極/漏極區(qū)與所述第二源極/漏極區(qū)之間的主體區(qū);所述主體區(qū)包括與所述第一源極/漏極區(qū)及所述第二源極/漏極區(qū)兩者不同的半導(dǎo)體組合物;所述作用區(qū)沿著橫截面具有一對(duì)相對(duì)側(cè)壁;第一絕緣區(qū),其沿著所述相對(duì)側(cè)壁中的每一者;電荷存儲(chǔ)材料,其鄰近所述第一絕緣區(qū);第二絕緣區(qū),其鄰近所述電荷存儲(chǔ)材料;導(dǎo)電柵極材料,其鄰近所述第二絕緣區(qū);第一比較數(shù)字線,其與所述第一源極/漏極區(qū)耦合;第二比較數(shù)字線,其與所述第二源極/漏極區(qū)耦合;所述作用區(qū)的由所述導(dǎo)電柵極材料重疊的一部分為所述作用區(qū)的柵控部分;所述主體區(qū)的所述半導(dǎo)體組合物沿著第一過(guò)渡區(qū)過(guò)渡到所述源極/漏極區(qū)中的一者的所述半導(dǎo)體組合物;所述第一過(guò)渡區(qū)在所述作用區(qū)的所述柵控部分內(nèi);且所述主體區(qū)的所述半導(dǎo)體組合物沿著第二過(guò)渡區(qū)過(guò)渡到所述源極/漏極區(qū)中的另一者的所述半導(dǎo)體組合物;所述第二過(guò)渡區(qū)在所述作用區(qū)的所述柵控部分內(nèi)。
附圖說(shuō)明
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- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無(wú)源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門(mén)適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無(wú)源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門(mén)適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過(guò)這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門(mén)適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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