[發(fā)明專利]一種涂布方法和涂布系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010449093.1
• 申請日: 2020-05-25
• 公開（公告）號: CN113448173B
• 公開（公告）日: 2022-03-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 熊超超;李瑤
• 申請（專利權(quán)）人: 重慶康佳光電技術(shù)研究院有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 深圳市君勝知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44268
• 代理人: 徐凱凱;劉芙蓉

1.一種涂布方法，其特征在于，包括：

提供一基板，在所述基板之上滴第一液體，所述第一液體包括光刻膠；

在所述第一液體之上滴第二液體，其中，所述第一液體與所述第二液體之間互不相溶，且所述第一液體的密度大于所述第二液體的密度；

旋轉(zhuǎn)所述基板使所述第一液體在所述基板的表面擴散以及使所述第二液體在所述第一液體的表面擴散。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布方法，其特征在于，所述在所述基板之上滴第一液體之后且在所述第一液體之上滴第二液體之前還包括：

旋轉(zhuǎn)所述基板使所述第一液體在所述基板的表面擴散至第一面積。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的涂布方法，其特征在于，所述涂布方法還包括：

去除所述第一液體的表面的所述第二液體。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的涂布方法，其特征在于，所述去除所述第一液體的表面的所述第二液體包括：

對所述第一液體和所述第二液體進行烘烤，使所述第二液體從所述第一液體的表面揮發(fā)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布方法，其特征在于，所述第一液體的沸點大于所述第二液體的沸點。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的涂布方法，其特征在于，所述第二液體包括全氟辛烷、四氫呋喃和甲基乙基酮。

7.一種涂布系統(tǒng)，其特征在于，包括：

基板；

第一液體注入裝置，用于向所述基板之上滴第一液體，所述第一液體包括光刻膠；

第二液體注入裝置，用于向所述基板之上滴第二液體；其中，所述第二液體與所述第一液體之間互不相溶，且所述第一液體的密度大于所述第二液體的密度；

基板旋轉(zhuǎn)裝置，用于驅(qū)動所述基板旋轉(zhuǎn)，以使所述第一液體在所述基板的表面擴散以及使所述第二液體在所述第一液體的表面擴散。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的涂布系統(tǒng)，其特征在于，還包括：

基板烘烤裝置，用于對所述第一液體和所述第二液體進行烘烤。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的涂布系統(tǒng)，其特征在于，所述第二液體包括全氟辛烷、四氫呋喃和甲基乙基酮。