[發明專利]一種分峰擬合解耦化學反應過程或物質化學結構的方法在審
| 申請號： | 202010445496.9 | 申請日： | 2020-05-24 |
| 公開（公告）號： | CN111707574A | 公開（公告）日： | 2020-09-25 |
| 發明（設計）人： | 石磊;張瑞榮;劉振宇;劉清雅 | 申請（專利權）人： | 北京化工大學 |
| 主分類號： | G01N5/04 | 分類號： | G01N5/04;G01N24/08;G01N21/65;G01N23/2273 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 100029 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 擬合 化學反應 過程 物質 化學 結構 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種分峰擬合解耦化學反應過程或物質結構特性的方法，其特征在于：依據化學反應特征或物質結構譜圖特征確定分峰解耦函數和分峰的限制條件，依據擬合度R2和子峰之間的重疊度共同判斷擬合結果的可信度。
2.如權利要求1所述的子峰的半峰寬不大于原始譜圖峰底寬度除以子峰個數的1.5倍，即相鄰兩個子峰峰值點之間的距離值不小于這兩個子峰函數標準偏差值σ的平均值。
3.如權利要求1所述的重疊度定義為：或各字母含義見專利說明書圖2。
4.如權利要求1所述的擬合結果的可信度通過擬合度R2和子峰之間的重疊度共同判斷，可信度好的擬合結果要求R2盡可能高的前提下，重疊度盡可能低。
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