[發(fā)明專利]質(zhì)控物質(zhì)選擇方法及裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010441346.0
• 申請(qǐng)日: 2020-05-22
• 公開（公告）號(hào): CN111521575B
• 公開（公告）日: 2023-03-14
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 伊芹
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 國(guó)家地質(zhì)實(shí)驗(yàn)測(cè)試中心
• 主分類號(hào): G01N21/31
• 分類號(hào): G01N21/31;G01N21/17;G01N21/55
• 代理公司: 北京智橋聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11560
• 代理人: 金光恩

本發(fā)明公開了一種質(zhì)控物質(zhì)選擇方法及裝置，所述方法包括：分別對(duì)被測(cè)樣品和可選質(zhì)控物質(zhì)進(jìn)行非接觸成像處理，得到高光譜圖像；采集高光譜圖像中被測(cè)樣品的光譜數(shù)據(jù)和可選質(zhì)控物質(zhì)的光譜數(shù)據(jù)；將被測(cè)樣品的光譜數(shù)據(jù)作為目標(biāo)數(shù)據(jù)，將可選質(zhì)控物質(zhì)的光譜數(shù)據(jù)作為對(duì)比數(shù)據(jù)，對(duì)所述目標(biāo)數(shù)據(jù)和所述對(duì)比數(shù)據(jù)進(jìn)行相似性比較分析，得到比較分析結(jié)果；根據(jù)所述比較分析結(jié)果選出目標(biāo)質(zhì)控物質(zhì)。利用本發(fā)明，可以提高質(zhì)控物質(zhì)選擇的準(zhǔn)確性及效率，從而達(dá)到提高未知樣品分析準(zhǔn)確度的目的。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)質(zhì)量控制技術(shù)，具體涉及一種質(zhì)控物質(zhì)選擇方法 及裝置。

背景技術(shù)

現(xiàn)代地質(zhì)行業(yè)對(duì)巖石礦物進(jìn)行成份分析，多需依賴于標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)進(jìn)行質(zhì) 量控制，選擇原則是樣品與標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的基體相似度，相似度越高，越有利 于提高分析結(jié)果的準(zhǔn)確性?，F(xiàn)有的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)選擇多依賴實(shí)驗(yàn)人員的主觀判 斷，即根據(jù)檢驗(yàn)檢測(cè)項(xiàng)目的實(shí)際要求，和現(xiàn)有標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)的適用要求進(jìn)行選 擇。如，分析黃土樣品中銅含量，需首先選擇黃土類標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)，并從中選擇銅含量與被分析樣品銅含量相近的標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)。而實(shí)際情況是，在未對(duì)被 分析樣品進(jìn)行分析前，人工無(wú)法判斷哪種標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)銅含量與被分析樣品銅 含量相近；若選擇所有黃土類標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)與樣品一同分析，勢(shì)必會(huì)造成不必 要的浪費(fèi)?，F(xiàn)亟需一種高效環(huán)保的質(zhì)控/標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)選擇方法，既能較為準(zhǔn)確 的指導(dǎo)質(zhì)控/標(biāo)準(zhǔn)物質(zhì)選擇，又能避免污染和浪費(fèi)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種質(zhì)控物質(zhì)選擇方法及裝置，以提高質(zhì)控物質(zhì)選擇的準(zhǔn) 確性及效率。

為此，本發(fā)明提供如下技術(shù)方案：

一種質(zhì)控物質(zhì)選擇方法，所述方法包括：

分別對(duì)被測(cè)樣品和可選質(zhì)控物質(zhì)進(jìn)行非接觸成像處理，得到高光譜圖 像；

采集高光譜圖像中被測(cè)樣品的光譜數(shù)據(jù)和可選質(zhì)控物質(zhì)的光譜數(shù)據(jù)；

將被測(cè)樣品的光譜數(shù)據(jù)作為目標(biāo)數(shù)據(jù)，將可選質(zhì)控物質(zhì)的光譜數(shù)據(jù)作 為對(duì)比數(shù)據(jù)，對(duì)所述目標(biāo)數(shù)據(jù)和所述對(duì)比數(shù)據(jù)進(jìn)行相似性比較分析，得到 比較分析結(jié)果；

根據(jù)所述比較分析結(jié)果選出目標(biāo)質(zhì)控物質(zhì)。

可選地，所述分別對(duì)被測(cè)樣品和可選質(zhì)控物質(zhì)進(jìn)行非接觸成像處理， 得到高光譜圖像包括：

利用高光譜成像系統(tǒng)分別對(duì)被測(cè)樣品和可選質(zhì)控物質(zhì)進(jìn)行非接觸成像 處理，得到高光譜圖像。

可選地，所述對(duì)所述目標(biāo)數(shù)據(jù)和所述對(duì)比數(shù)據(jù)進(jìn)行相似性比較分析， 得到比較分析結(jié)果包括：

分別對(duì)所述目標(biāo)數(shù)據(jù)和所述對(duì)比數(shù)據(jù)進(jìn)行修正處理，得到修正后的數(shù) 據(jù)；

確定所述被測(cè)樣品和可選質(zhì)控物質(zhì)高光譜成像圖中的感興趣區(qū)域；

根據(jù)所述修正后的數(shù)據(jù)確定所述被測(cè)樣品的感興趣區(qū)域的平均光譜曲 線和所述可選質(zhì)控物質(zhì)的感興趣區(qū)域的平均光譜曲線；

利用所述光譜曲線進(jìn)行相似性比較分析，得到比較分析結(jié)果。

可選地，所述分別對(duì)所述目標(biāo)數(shù)據(jù)和所述對(duì)比數(shù)據(jù)進(jìn)行修正處理包括：

分別對(duì)所述目標(biāo)數(shù)據(jù)和所述對(duì)比數(shù)據(jù)進(jìn)行校正，所述校正包括：輻射 校正和黑白校正；

將校正后的數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為相對(duì)反射率數(shù)據(jù)，對(duì)所述相對(duì)反射率數(shù)據(jù)進(jìn)行 最小噪聲分離變換。

可選地，所述利用所述光譜曲線進(jìn)行相似性比較分析，得到比較分析 結(jié)果包括：

計(jì)算被測(cè)樣品光譜曲線與空白樣品光譜曲線各波段一階導(dǎo)數(shù)距離，并 選出其中的最大值作為被測(cè)樣品光譜曲線的最大一階導(dǎo)數(shù)距離；

計(jì)算可選質(zhì)控物質(zhì)光譜曲線與所述空白樣品光譜曲線各波段一階導(dǎo)數(shù) 距離，并選出其中的最大值作為可選質(zhì)控物質(zhì)光譜曲線的最大一階導(dǎo)數(shù)距 離；