[發(fā)明專利]一種用于不規(guī)則多面體一爐法鍍膜的鍍膜裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010440849.6 | 申請日: | 2020-05-22 |
| 公開(公告)號: | CN111501001B | 公開(公告)日: | 2022-05-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 沈清;李旭光 | 申請(專利權(quán))人: | 無錫奧夫特光學(xué)技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/50 | 分類號: | C23C14/50;C23C16/458 |
| 代理公司: | 無錫派爾特知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32340 | 代理人: | 楊立秋 |
| 地址: | 214000 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 不規(guī)則 多面體 一爐法 鍍膜 裝置 | ||
1.一種用于不規(guī)則多面體一爐法鍍膜的鍍膜裝置,其特征在于,所述用于不規(guī)則多面體一爐法鍍膜的鍍膜裝置包括工件盤(1),所述工件盤(1)的底部中心轉(zhuǎn)動連接有第一連桿(2),所述第一連桿(2)的底端固定連接有擋板(3),頂端穿過所述工件盤(1)并通過第二連桿(4)連接有夾具(5),且所述第二連桿(4)至少有一端為鉸接,所述夾具(5)用于放置待鍍膜的多面體工件(6),所述夾具(5)遠(yuǎn)離所述第二連桿(4)的一側(cè)固定連接有第三連桿(7),所述第三連桿(7)與外部電機(jī)的輸出軸固定連接;所述工件盤(1)上還開有若干個窗口(8),所述窗口(8)與所述多面體工件(6)所需鍍膜面的形狀、大小一一對應(yīng);所述工件盤(1)為一端開口的圓柱形殼體,所述工件盤(1)的側(cè)壁上開有若干個定位槽(9),所述定位槽(9)與所述窗口(8)的位置一一對應(yīng),所述第三連桿(7)的遠(yuǎn)端穿過所述定位槽(9)與外部電機(jī)連接;所述第三連桿(7)的遠(yuǎn)端固定連接有定位螺母(10),且所述定位螺母(10)的外徑大于所述定位槽(9)的寬度;所述第三連桿(7)的外表面活動套設(shè)有彈簧(11),所述彈簧(11)的初始狀態(tài)為壓縮狀態(tài),且其兩端分別抵在所述夾具(5)和所述工件盤(1)的內(nèi)壁;所述定位螺母(10)通過螺紋連接在所述第三連桿(7)遠(yuǎn)端的外表面;
還包括如下鍍膜方法:需要鍍膜時,將待鍍膜的所述多面體工件(6)放置在所述夾具(5)內(nèi),并將其待鍍膜的面朝向所述夾具(5)的底面,托起所述第三連桿(7),并相對所述工件盤(1)轉(zhuǎn)動,使所述夾具(5)的底面擱置在所需用的所述窗口(8)上,旋轉(zhuǎn)所述擋板(3),露出所需用的所述窗口(8);即可對所述多面體工件(6)的一面進(jìn)行鍍膜;
當(dāng)一面鍍完后,開啟外部電機(jī),翻轉(zhuǎn)所述夾具(5);重復(fù)上述步驟,直至對所述多面體工件(6)完成鍍膜操作;當(dāng)對不同形狀的多面體工件進(jìn)行鍍膜時,換用相應(yīng)大小、形狀的所述夾具(5),并通過調(diào)節(jié)所述定位螺母10,使所述夾具(5)的各個面對準(zhǔn)相應(yīng)的所述窗口(8),并重復(fù)上述步驟。
2.如權(quán)利要求1所述的一種用于不規(guī)則多面體一爐法鍍膜的鍍膜裝置,其特征在于,所述第二連桿(4)和所述第三連桿(7)分別位于所述夾具(5)上的兩個相對的棱或面上。
3.如權(quán)利要求1所述的一種用于不規(guī)則多面體一爐法鍍膜的鍍膜裝置,其特征在于,所述擋板(3)為扇形。
4.如權(quán)利要求1所述的一種用于不規(guī)則多面體一爐法鍍膜的鍍膜裝置,其特征在于,所述夾具(5)為框架結(jié)構(gòu),且其形狀、大小與待鍍膜的所述多面體工件(6)一致,所述夾具(5)的一面鉸接有放置板(50),其他面的棱邊均為角鋼。
5.如權(quán)利要求4所述的一種用于不規(guī)則多面體一爐法鍍膜的鍍膜裝置,其特征在于,所述多面體工件(6)為三棱柱,所述放置板(50)設(shè)置在所述夾具(5)的側(cè)面,所述放置板(50)與所述第三連桿(7)固定連接,所述放置板(50)相對的棱邊與所述第二連桿(4)鉸接。
6.如權(quán)利要求5所述的一種用于不規(guī)則多面體一爐法鍍膜的鍍膜裝置,其特征在于,所述工件盤(1)上開有4個所述窗口(8)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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