[發明專利]一種輕小型機載大視場面陣擺掃熱紅外成像系統

有效

• 申請號: 202010440803.4
• 申請日: 2020-05-22
• 公開（公告）號: CN111562021B
• 公開（公告）日: 2023-03-03
• 發明（設計）人: 姚祎;王躍明;郁洪軒;韓貴丞;莊曉瓊;王晟瑋;張長興;張東
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海技術物理研究所
• 主分類號: G01J5/53
• 分類號: G01J5/53;G01J5/48;G01J5/28;G01J5/08;G01J5/0806;G01J5/00
• 代理公司: 上海滬慧律師事務所 31311
• 代理人: 郭英

1.一種輕小型機載大視場面陣擺掃熱紅外成像系統，包括擺鏡組件(1)，光學組件(2)，探測器組件(3)，黑體組件(4)，電子學組件(5)，框架結構(6)，其特征在于：

所述的光學組件(2)為折轉式構型，結構呈U型布局；所述擺鏡組件(1)位于光學組件(2)的前端，所述黑體組件(4)位于其正上方，且黑體面與光學系統入瞳重合，由擺鏡轉動實現系統成像和機上定標；成像時，外部輻射經由所述擺鏡組件(1)和光學組件(2)會聚于探測器組件(3)，定標時，擺鏡轉動朝上與黑體面呈45°，使黑體充滿視場；每個掃描周期內，分別通過擺鏡的兩個反射面進行多次對地成像和一次黑體數據采集，不同掃描周期可獲取不同溫度的黑體數據來對圖像進行絕對輻射定標；電子學組件(5)側放于探測器組件(3)左側；框架結構(6)用于固定以上各組件；

所述的黑體組件(4)包括面源黑體(4-1)、半導體制冷器(4-2)、黑體隔熱支撐(4-3)、散熱翅片(4-4)、風扇(4-5)、測溫電阻(4-6)、黑體支撐座(4-7)，黑體組件(4)采用輻射均勻、發射率高的面源黑體(4-1)，半導體制冷器(4-2)外輪廓與所述面源黑體(4-1)相同，上下表面薄涂導熱硅脂，分別與所述面源黑體(4-1)的背面和所述散熱翅片(4-4)的背面緊貼，實現加熱和制冷復合控溫；所述黑體隔熱支撐(4-3)由低熱導率材料加工而成，內側面粘貼高反射率鋁箔，與所述面源黑體(4-1)外側面粘貼的鋁箔之間形成薄空氣層，所述風扇(4-5)固定于所述散熱翅片(4-4)中心，純銅翅片沿徑向均布在所述風扇(4-5)周圍。

2.根據權利要求1所述的一種輕小型機載大視場面陣擺掃熱紅外成像系統，其特征在于：所述的擺鏡組件(1)包括擺鏡、步進電機、軸系結構、光柵編碼器，擺鏡為一體化構型的雙面反射鏡，材料為鋁。

3.根據權利要求1所述的一種輕小型機載大視場面陣擺掃熱紅外成像系統，其特征在于：所述的光學組件(2)為折轉式構型，包括透鏡組1中的第1片透鏡(2-1)、第2片透鏡(2-2)、反射鏡(2-3)、透鏡組2中的第3片透鏡(2-4)和第4片透鏡(2-5)，所述的反射鏡(2-3)為一體化構型的鋁鏡，第3片透鏡(2-4)為球面鏡，材料為硫化鋅，其余透鏡面均為高次非球面，材料為鍺。