[發明專利]用于識別建筑物訪問機構的方法、設備和計算機程序產品在審
| 申請號: | 202010440200.4 | 申請日: | 2020-05-22 |
| 公開(公告)號: | CN111984875A | 公開(公告)日: | 2020-11-24 |
| 發明(設計)人: | 奧萊·亨利·德呂姆 | 申請(專利權)人: | 赫爾環球有限公司 |
| 主分類號: | G06F16/9537 | 分類號: | G06F16/9537;G06F16/2458;G06F16/248;G06F16/29;G01C21/20 |
| 代理公司: | 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 張娜;李榮勝 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 識別 建筑物 訪問 機構 方法 設備 計算機 程序 產品 | ||
1.一種繪制系統,包括:
存儲器,其包括地圖數據;以及
處理電路系統,其被配置為:
接收探測數據點,從多個探測設備中的探測設備接收每個探測數據點,每個探測設備包括一個或多個傳感器并且與用戶相關聯,其中每個探測數據點包括與相應探測設備相關聯的位置信息和軌跡信息;
確定所述探測數據點中的每個探測數據點的位置;
確定建筑物的第一邊的探測數據點候選,其中所述建筑物的所述第一邊的所述探測數據點候選具有在所述建筑物的所述第一邊的緩沖區內的位置;
確定所述探測數據點候選中的進入或離開所述建筑物的探測數據點;
根據進入或離開所述建筑物的所述探測數據點生成所述建筑物的所述第一邊的探測密度直方圖,其中,所述探測密度直方圖表示跨越所述建筑物的所述第一邊的寬度的多個位置中的每個位置處的探測數據點的容量;
對所述探測密度直方圖應用去卷積方法以獲得多模態直方圖;
根據所述多模態直方圖確定多個統計上顯著的峰,其中每個統計上顯著的峰表示所述建筑物的所述第一邊中的所述建筑物的訪問機構;以及
基于計算出的所述建筑物的訪問機構來提供用于導航輔助的數據。
2.根據權利要求1所述的繪制系統,其中,被配置為根據所述多模態直方圖確定多個統計上顯著的峰的所述處理電路系統包括被配置為進行以下操作的處理電路系統:
根據所述多模態直方圖,確定每個統計上顯著的峰離所述建筑物的所述第一邊上的參考點的距離。
3.根據權利要求2所述的繪制系統,其中,被配置為根據所述多模態直方圖確定多個統計上顯著的峰的所述處理電路系統包括還被配置為進行以下操作的處理電路系統,其中,每個統計上顯著的峰表示所述建筑物的所述第一邊中的所述建筑物的訪問機構:
生成所述建筑物的所述第一邊的透視圖;
識別所述透視圖中的所述建筑物的所述第一邊中的訪問機構;以及
使用所生成的透視圖與所識別的訪問機構來提供導航輔助。
4.根據權利要求1所述的繪制系統,其中,被配置為生成所述建筑物的所述第一邊的探測密度直方圖的處理電路系統包括被配置為執行以下操作的處理電路系統,其中所述建筑物的所述第一邊的探測密度直方圖表示跨越所述第一邊的寬度的多個位置中的每個位置處的探測數據點的容量:
根據選定的面元大小,將所述第一邊的寬度細分成多個面元;
將進入和離開所述建筑物的所述探測數據點中的每個探測數據點歸到所述多個面元中的與相應探測數據點離所述建筑物的所述第一邊上的參考點的距離相對應的相應面元;以及
基于跨越所述第一邊的所述寬度的每個面元中的探測數據點的容量,生成所述探測密度直方圖。
5.根據權利要求1所述的繪制系統,其中,所述去卷積方法包括最大熵方法。
6.根據權利要求1所述的繪制系統,其中,被配置為將去卷積方法應用于所述探測密度直方圖以獲得多模態直方圖的處理電路系統包括被配置為執行以下操作的處理電路系統:
使用點擴散函數對所述建筑物的所述第一邊的所述緩沖區內的所述探測數據點的位置誤差建模;
使用所述點擴散函數將所述去卷積方法應用于所述探測密度直方圖;以及
生成所述建筑物的所述第一邊的所述多模態直方圖。
7.根據權利要求1所述的繪制系統,其中,被配置為針對所述探測數據點候選確定進入或離開所述建筑物的探測數據點的處理電路系統包括被配置為執行以下操作的處理電路系統:
基于指示所述建筑物的所述第一邊的交叉的相應探測軌跡,識別通過所述建筑物的所述第一邊進入或離開所述建筑物的探測數據點。
8.根據權利要求7所述的繪制系統,其中所述處理電路系統還被配置為基于所述探測軌跡與所述建筑物的所述第一邊交叉的方向來區分所述建筑物的訪問機構作為入口或出口。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于赫爾環球有限公司,未經赫爾環球有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010440200.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:處理紗線和/或纖維條所需氣流的監測方法和紡紗機單元
- 下一篇:低溫冷卻系統





