[發(fā)明專利]基于掃頻式射流器的渦輪葉頂主動(dòng)流動(dòng)控制方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010439258.7
• 申請日: 2020-05-22
• 公開（公告）號: CN111691929A
• 公開（公告）日: 2020-09-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 陳紹文;李偉航;孟慶鶴;王松濤
• 申請（專利權(quán)）人: 哈爾濱工業(yè)大學(xué)
• 主分類號: F01D17/00
• 分類號: F01D17/00;F01D11/08;F01D5/12;F01D5/18;F01D9/02;F01D25/24
• 代理公司: 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201
• 代理人: 石茵汀

1.一種基于掃頻式射流器的渦輪葉頂主動(dòng)流動(dòng)控制方法，其特征在于，包括以下步驟：

獲取渦輪內(nèi)的三維流場結(jié)構(gòu)以及各個(gè)渦系的作用頻率；

根據(jù)高性能渦輪的三維流動(dòng)特征選取滿足條件的掃頻式射流器；以及

建立葉柵內(nèi)渦系結(jié)構(gòu)頻率與所述掃頻式射流器頻率之間的關(guān)聯(lián)，分析非定常射流對渦輪葉柵內(nèi)泄漏渦以及通道渦的作用規(guī)律及作用機(jī)理，以發(fā)出控制指令。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述滿足條件為尺寸、掃掠頻率和噴射位置均滿足對應(yīng)預(yù)設(shè)條件。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，還包括：

在葉頂機(jī)匣不同的位置布置相應(yīng)掃頻式射流器，以使得不同掃頻射流位置控制葉頂內(nèi)不同區(qū)域的泄漏流體。