[發明專利]基于掃頻式射流器的渦輪葉頂主動流動控制方法在審
| 申請號： | 202010439258.7 | 申請日： | 2020-05-22 |
| 公開（公告）號： | CN111691929A | 公開（公告）日： | 2020-09-22 |
| 發明（設計）人： | 陳紹文;李偉航;孟慶鶴;王松濤 | 申請（專利權）人： | 哈爾濱工業大學 |
| 主分類號： | F01D17/00 | 分類號： | F01D17/00;F01D11/08;F01D5/12;F01D5/18;F01D9/02;F01D25/24 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 石茵汀 |
| 地址： | 150001 黑龍*** | 國省代碼： | 黑龍江;23 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 基于 掃頻式 射流 渦輪 主動 流動 控制 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種基于掃頻式射流器的渦輪葉頂主動流動控制方法，其特征在于，包括以下步驟：
獲取渦輪內的三維流場結構以及各個渦系的作用頻率；
根據高性能渦輪的三維流動特征選取滿足條件的掃頻式射流器；以及
建立葉柵內渦系結構頻率與所述掃頻式射流器頻率之間的關聯，分析非定常射流對渦輪葉柵內泄漏渦以及通道渦的作用規律及作用機理，以發出控制指令。
2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述滿足條件為尺寸、掃掠頻率和噴射位置均滿足對應預設條件。
3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，還包括：
在葉頂機匣不同的位置布置相應掃頻式射流器，以使得不同掃頻射流位置控制葉頂內不同區域的泄漏流體。
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