[發明專利]一種全聚焦成像方法及裝置

有效

• 申請號: 202010436969.9
• 申請日: 2020-05-21
• 公開（公告）號: CN111766306B
• 公開（公告）日: 2023-06-27
• 發明（設計）人: 蔡慶生;韓松;駱琦;李振寧
• 申請（專利權）人: 廣州多浦樂電子科技股份有限公司
• 主分類號: G01N29/44
• 分類號: G01N29/44;G01N29/06;G01N29/00;G06T5/00
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 郭浩輝;麥小嬋

1.一種全聚焦成像方法，其特征在于，包括：

根據預設的排列規則重排所有陣元，并通過對所述所有陣元進行次序激勵，生成每一陣元對應的一次成像圖；

采用低通濾波器對所有所述一次成像圖進行Z軸方向降噪處理，得到若干個預處理圖像，包括：利用小波降噪濾波器采用小波分解方法對所有所述一次成像圖的低頻信號和高頻偽像進行分解，利用希爾伯特變換得到每一所述一次成像圖的偽像能量譜，將所述偽像能量譜自動轉換成所述小波降噪濾波器的軟閾值；通過所述軟閾值對所有所述一次成像圖進行優化，得到若干個所述預處理圖像，其中所述軟閾值根據以下軟閾值確定公式得到：

其中，x?為小波分解的系數，?a?為調節參數，T為軟閾值；當時，則?f(?x)?在?x?=?±?T?處連續可微；為奇函數，曲線光滑且單調遞增；

將若干個所述預處理圖像進行累加求和得到合成圖像，并將所述合成圖像根據灰度值顯示全聚焦成像。

2.如權利要求1所述的全聚焦成像方法，其特征在于，所述將若干個所述預處理圖像進行累加求和得到合成圖像，并將所述合成圖像根據灰度值顯示全聚焦成像，具體包括：

對所述合成圖像進行希爾伯特變換，并在完成希爾變換后根據灰度值將所述合成圖像顯示全聚焦成像。

3.一種全聚焦成像裝置，其特征在于，包括成像生成模塊、降噪處理模塊和成像顯示模塊；

所述成像生成模塊，用于根據預設的排列規則重排所有陣元，并通過對所述所有陣元進行次序激勵，生成每一陣元對應的一次成像圖；

所述降噪處理模塊，用于采用低通濾波器對所有所述一次成像圖進行Z軸方向降噪處理，得到若干個預處理圖像；具體用于：利用小波降噪濾波器采用小波分解方法對所有所述一次成像圖的低頻信號和高頻偽像進行分解，利用希爾伯特變換得到每一所述一次成像圖的偽像能量譜，將所述偽像能量譜自動轉換成所述小波降噪濾波器的軟閾值；通過所述軟閾值對所有所述一次成像圖進行優化，得到若干個所述預處理圖像，其中所述軟閾值根據以下軟閾值確定公式得到：

其中，x?為小波分解的系數，?a?為調節參數，T為軟閾值；當時，則?f(?x)?在?x?=?±?T?處連續可微；為奇函數，曲線光滑且單調遞增；

所述成像顯示模塊，用于將若干個所述預處理圖像進行累加求和得到合成圖像，并將所述合成圖像根據灰度值顯示全聚焦成像。

4.如權利要求3所述的一種全聚焦成像裝置，其特征在于，所述成像顯示模塊，包括用于：

對所述合成圖像進行希爾伯特變換，并在完成希爾變換后根據灰度值將所述合成圖像顯示全聚焦成像。