[發明專利]反應處理容器在審
| 申請號: | 202010435643.4 | 申請日: | 2020-05-21 |
| 公開(公告)號: | CN111500436A | 公開(公告)日: | 2020-08-07 |
| 發明(設計)人: | 竹內秀光;川口磨;福澤隆 | 申請(專利權)人: | 日本板硝子株式會社 |
| 主分類號: | C12M1/38 | 分類號: | C12M1/38;C12M1/34;C12M1/12;C12M1/02;C12M1/00 |
| 代理公司: | 北京三友知識產權代理有限公司 11127 | 代理人: | 韓香花;崔成哲 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 反應 處理 容器 | ||
1.一種反應處理容器,其包括基板、以及被形成于上述基板的主表面的槽狀的流路;
該反應處理容器的特征在于,
上述流路包含蛇行狀流路、以及與上述蛇行狀流路相鄰的制動流路;
上述制動流路的截面積大于上述蛇行狀流路的截面積。
2.如權利要求1所述的反應處理容器,其特征在于,
在將上述蛇行狀流路的截面積記為Sr,將上述制動流路的截面積記為Sb時,截面積比Sb/Sr為1<Sb/Sr≦1.8的范圍內。
3.如權利要求2所述的反應處理容器,其特征在于,
上述截面積比Sb/Sr為1.02≦Sb/Sr≦1.5的范圍內。
4.如權利要求2所述的反應處理容器,其特征在于,
上述截面積比Sb/Sr為1.02≦Sb/Sr≦1.2的范圍內。
5.如權利要求1~4的任何一項所述的反應處理容器,其特征在于,
上述蛇行狀流路及上述制動流路包括開口部、底面、以及從上述底面向上述開口部擴大的錐狀的側面。
6.如權利要求5所述的反應處理容器,其特征在于,
上述蛇行狀流路具有0.55mm~0.95mm的開口寬度、0mm~0.95mm的底面寬度、0.5mm~0.9mm的深度、以及0°~45°的錐角;
上述制動流路具有0.65mm~1.05mm的開口寬度、0mm~1.05mm的底面寬度、0.5mm~0.9mm的深度、以及0°~45°的錐角。
7.如權利要求5或6所述的反應處理容器,其特征在于,
上述底面與上述側面的連接部為曲面狀。
8.如權利要求7所述的反應處理容器,其特征在于,
上述連接部的曲率半徑為0.2mm~0.38mm。
9.如權利要求1~8的任何一項所述的反應處理容器,其特征在于,
上述蛇行狀流路包含彎曲部;
上述彎曲部的曲率半徑為0.3mm~10mm。
10.一種反應處理容器,其包括基板、以及被形成于上述基板的主表面的槽狀的流路;
該反應處理容器的特征在于,
上述流路包含蛇行狀流路、以及受激發光的照射,以從在上述流路內流動的樣品中檢測熒光的檢測流路;
上述檢測流路的截面積大于上述蛇行狀流路的截面積。
11.如權利要求10所述的反應處理容器,其特征在于,
在將上述蛇行狀流路的截面積記為Sr,將上述檢測流路的截面積記為Sd時,截面積比Sd/Sr為1<Sd/Sr≦1.8的范圍內。
12.如權利要求11所述的反應處理容器,其特征在于,
上述截面積比Sd/Sr為1.02≦Sd/Sr≦1.5的范圍內。
13.如權利要求11所述的反應處理容器,其特征在于,
上述截面積比Sd/Sr為1.02≦Sd/Sr≦1.2的范圍內。
14.如權利要求10~13的任何一項所述的反應處理容器,其特征在于,
上述蛇行狀流路及上述檢測流路包括開口部、底面、以及從上述底面向上述開口部擴大的錐狀的側面。
15.如權利要求14所述的反應處理容器,其特征在于,
上述蛇行狀流路具有0.55mm~0.95mm的開口寬度、0mm~0.95mm的底面寬度、0.5mm~0.9mm的深度、以及0°~45°的錐角;
上述檢測流路具有0.7mm~1.2mm的開口寬度、0.15mm~1.2mm的底面寬度、0.5mm~1.2mm的深度、以及0°~45°的錐角。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于日本板硝子株式會社,未經日本板硝子株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010435643.4/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





