[發明專利]電子設備

有效

• 申請號: 202010431961.3
• 申請日: 2020-05-20
• 公開（公告）號: CN113708054B
• 公開（公告）日: 2023-04-04
• 發明（設計）人: 儲嘉慧;陳鑫
• 申請（專利權）人: 華為技術有限公司
• 主分類號: H01Q1/36
• 分類號: H01Q1/36;H01Q1/52;H01Q1/24
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 熊永強;李稷芳

本申請提供一種電子設備，包括收容于外殼內的天線和金屬結構，在第一方向上，所述金屬結構、至少部分所述天線及部分所述外殼依次排列；所述金屬結構設有非封閉的開槽，在所述第一方向上，所述開槽貫穿所述金屬結構；所述金屬結構包括在所述第一方向上正對所述天線的第一表面，所述天線在所述第一表面上的垂直投影為天線投影區，所述開槽從所述第一表面的邊緣向所述第一表面的內部延伸且經過所述天線投影區，以使得在所述天線工作狀態下，所述第一表面上形成與所述天線上的電流同向的感應電流。使用本申請所述電子設備，由于所述金屬結構上非封閉開槽的存在，減小了感應電流對所述天線磁場的不良影響，有效提高了所述天線的工作性能。

技術領域

本申請涉及通信技術領域，尤其涉及一種具有天線的電子設備。

背景技術

隨著通信技術的發展，電子設備的功能越來越多，電子設備內部器件和通信天線也越來越多，而為了保證電子設備的輕薄性，需對各種內部器件和通信天線的占用空間進行壓縮，這樣會使得電子設備內部的金屬結構與天線之間的間距較小，而由楞次定律可知，在靠近天線的金屬結構上會產生感應電流，且金屬結構上的感應電流方向與天線上的電流方向相反，這樣會在一定程度上削弱天線的工作性能。

因此，急需一種電子設備，能夠改變金屬結構上感應電流對天線磁場的不良影響，有效提高天線的工作性能。

發明內容

本申請提供一種電子設備，能夠改變其內部金屬結構上感應電流對天線磁場的不良影響，從而有效提高天線的工作性能。

本申請所述電子設備包括外殼、收容于外殼內的天線和金屬結構，在第一方向上，所述金屬結構、至少部分所述天線及部分所述外殼依次排列；所述天線貼合至所述金屬結構，或者所述金屬結構和所述天線之間均為絕緣介質；絕緣介質可以為空氣，即天線相對金屬結構可視為懸浮狀架構，絕緣介質也可以為非金屬結構件，可以理解的是，天線和金屬結構之間不包括其它的金屬件；所述金屬結構設有非封閉的開槽，在所述第一方向上，所述開槽貫穿所述金屬結構；所述金屬結構包括在所述第一方向上正對所述天線的第一表面，所述天線在所述第一表面上的垂直投影為天線投影區，所述開槽從所述第一表面的邊緣向所述第一表面的內部延伸且經過所述天線投影區。在所述天線工作狀態下，所述第一表面上形成與所述天線上的電流同向的感應電流。開槽在第一方向上貫穿金屬結構可以理解為，在金屬結構上設通槽，且此通槽為沿第一方向貫通金屬結構的形態，即在第一方向上，切掉部分金屬結構，以改變天線工作狀態下在金屬結構上的電流分布。開槽“所述開槽從所述第一表面的邊緣向所述第一表面的內部延伸且經過所述天線投影區”可以理解為：所述開槽與所述天線投影區相交，且所述開槽在所述第一表面的邊緣處形成開口，所述開槽遠離所述開口的一端位于所述天線投影區遠離所述開口的一側，即天線投影區的相對的兩側均有部分所述開槽。也可以理解為天線跨過或者跨越了開槽的至少一部分。

其中，所述第一表面可以為所述金屬結構上的任一外表面，在此不對所述第一表面在所述金屬結構上的位置進行具體的限定，而主要是對所述第一表面和所述天線之間的相對位置關系進行說明。其中，所述第一表面朝向所述外殼，所述天線位于所述第一表面和所述外殼之間，同時，在沿垂直于所述第一表面的方向進行觀察，所述天線和所述金屬結構之間存在至少部分重疊。可以理解的是，在所述第一方向上，所述金屬結構、至少部分所述天線及部分所述外殼依次排列，在此結構下，所述第一表面在第一方向上正對所述天線。

其中，在所述第一方向上，也就是垂直于所述第一表面的方向上，所述開槽貫穿所述金屬結構，可以理解的是，若所述開槽在所述第一方向上未貫穿所述金屬結構，在所述金屬結構上，所述開槽未貫穿的位置，感應電流的流動方向不會發生改變，仍會沿著原方向進行流動，也就無法改善感應電流對所述天線磁場的不良影響。在所述第一表面上，所述開槽從所述第一表面的邊緣向所述第一表面的內部延伸，在此結構下，所述開槽的邊緣與所述第一表面的邊緣相連通，以使所述開槽為非封閉開槽。在下文中，對于相關位置關系的描述均可以進行相同的理解。