[發明專利]一種基于碲烯的偏振光光電探測器及其制備方法和應用在審
| 申請號: | 202010431621.0 | 申請日: | 2020-05-20 |
| 公開(公告)號: | CN111668325A | 公開(公告)日: | 2020-09-15 |
| 發明(設計)人: | 張晗;高珊 | 申請(專利權)人: | 深圳大學 |
| 主分類號: | H01L31/0272 | 分類號: | H01L31/0272;H01L31/119;H01L31/18 |
| 代理公司: | 廣州專才專利代理事務所(普通合伙) 44679 | 代理人: | 曾嘉儀 |
| 地址: | 518060 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 偏振光 光電 探測器 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種基于碲烯的偏振光光電探測器,其特征在于,包括襯底和設置于襯底上的碲烯層、以及設置于碲烯層上的源電極和漏電極,所述源電極與漏電極設置成通過碲烯層間接連接;
所述碲烯層的厚度小于等于20nm。
2.如權利要求1所述的基于碲烯的偏振光光電探測器,其特征在于,所述襯底為二氧化硅襯底,所述二氧化硅襯底的厚度為200~500nm。
3.如權利要求1所述的基于碲烯的偏振光光電探測器,其特征在于,還包括基底層,所述基底層為n型或者p型摻雜的硅制成的硅基底層。
4.如權利要求3所述的基于碲烯的偏振光光電探測器,其特征在于,所述硅基底層的厚度為300~500μm,所述硅基底層的電阻率為1~10Ω·cm。
5.如權利要求1所述的基于碲烯的偏振光光電探測器,其特征在于,所述源電極及漏電極均包括鉻層和金層,所述鉻層設于碲烯層與金層之間;
其中,所述鉻層的厚度為5~10nm,所述金層的厚度為40~100nm。
6.一種基于碲烯的偏振光光電探測器的制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
制備襯底和碲烯層:提供襯底和碲烯的乙醇分散液,將碲烯的乙醇分散液滴加到襯底上、干燥,制得襯底和碲烯層;
制備電極圖案:在襯底上旋涂光刻膠PMMA、烘干,使用電子束對光刻膠進行曝光后,顯影得到電極圖案,所述電極圖案設于碲烯層上,且電極圖案用于暴露碲烯層的表面;
制備基于碲烯的偏振光光電探測器:在電極圖案處沉積電極且電極與碲烯層連接,制得基于碲烯的偏振光光電探測器。
7.如權利要求6所述的基于碲烯的偏振光光電探測器的制備方法,其特征在于,在制備襯底和碲烯層步驟中,所述襯底為二氧化硅襯底,且所述二氧化硅襯底上設有p型或n型摻雜的硅基底;
用滴管取若干滴碲烯的乙醇分散液滴至二氧化硅襯底上,用氮氣吹干,制得襯底和碲烯層。
8.如權利要求6所述的基于碲烯的偏振光光電探測器的制備方法,其特征在于,在制備電極圖案步驟中,在二氧化硅襯底上旋涂光刻膠PMMA,轉速為300~4000轉/分鐘,旋涂9~60秒,轉移至加熱板上烘干1~5分鐘,烘干溫度為80~150攝氏度;
使用電子束對涂有光刻膠的二氧化硅襯底進行曝光,再通過顯影技術得到電極圖案。
9.如權利要求6所述的基于碲烯的偏振光光電探測器的制備方法,其特征在于,在制備基于碲烯的偏振光光電探測器步驟中,通過熱蒸鍍的方法在電極圖案處先后蒸鍍5~10nm的鉻和40~100nm的金;
將蒸鍍得到的電極放入丙酮中浸泡,同時加熱10~20分鐘,加熱溫度設為30~50攝氏度,后取出樣品、氮氣吹干,制得基于碲烯的偏振光光電探測器。
10.如權利要求1-5任一項所述的基于碲烯的偏振光光電探測器在偏振光探測上的應用。
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H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





