[發明專利]陣列基板及其制作方法、顯示面板

有效

• 申請號: 202010430729.8
• 申請日: 2020-05-20
• 公開（公告）號: CN111540844B
• 公開（公告）日: 2023-05-23
• 發明（設計）人: 齊永蓮;曲連杰;趙合彬;張珊;尤楊;呂振華;石廣東;春曉改
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: H10K50/82
• 分類號: H10K50/82;H10K71/60;H10K59/10
• 代理公司: 北京律智知識產權代理有限公司 11438
• 代理人: 王輝;闞梓瑄

本發明涉及顯示技術領域，提出一種陣列基板及其制作方法、顯示面板，該陣列基板制作方法，包括：提供一陣列基板半成品，陣列基板半成品包括襯底基板、位于襯底基板一側的發光層、以及位于發光層背離襯底基板一側的公共陰極層；在公共陰極層背離襯底基板的一側形成高分子化合物層；對高分子化合物層進行局部光照，以使高分子化合物層的光照部生成羧酸根，其中，高分子化合物層的光照部在襯底基板的正投影與發光層在襯底基板的正投影不交疊；對光照后的高分子化合物層進行金屬陽離子摻雜，以使聚高分子化合物層的光照部形成導體部。該陣列基板制作方法，能夠在公共陰極上形成圖案化的導體部，該導體部可以作為輔助陰極降低公共陰極上的電位差。

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種陣列基板及其制作方法、顯示面板。

背景技術

在頂發射OLED顯示面板中，顯示面板陰極通常采用公共陰極的設置方式，然而，由于公共陰極僅部分與低電平信號端連接，且公共陰極自身存在壓降，因此，公共陰極上的電位并不均勻。

需要說明的是，在上述背景技術部分發明的信息僅用于加強對本發明的背景的理解，因此可以包括不構成對本領域普通技術人員已知的現有技術的信息。

發明內容

本發明的目的在于提供一種陣列基板及其制作方法、顯示面板，該陣列基板制作方法能夠解決陣列基板中公共陰極電位不均勻的技術問題。

本發明的其他特性和優點將通過下面的詳細描述變得顯然，或部分地通過本發明的實踐而習得。

根據本發明的一個方面，提供一種陣列基板制作方法，該方法包括：

提供一陣列基板半成品，所述陣列基板半成品包括襯底基板、位于所述襯底基板一側的發光層、以及位于所述發光層背離所述襯底基板一側的公共陰極層。

在所述公共陰極層背離所述襯底基板的一側形成高分子化合物層；

對所述高分子化合物層進行局部光照，以使所述高分子化合物層的光照部生成羧酸根，其中，所述高分子化合物層的光照部在所述襯底基板的正投影與所述發光層在所述襯底基板的正投影不交疊。

對光照后的所述高分子化合物層進行金屬陽離子摻雜，以使所述聚高分子化合物層的光照部形成導體部。

本公開一種示例性實施例中，所述高分子化合物層由聚酯類材料組成。

本公開一種示例性實施例中，所述高分子化合物層厚度為1～3um。

本公開一種示例性實施例中，對所述高分子化合物層進行局部光照，包括：利用掩膜版對所述高分子化合物層進行局部紫外線照射。

本公開一種示例性實施例中，所述紫外線的功率為700-1000W，照射時長為10-30min。

本公開一種示例性實施例中，所述金屬陽離子包括金屬銀離子。

本公開一種示例性實施例中，對光照后的所述高分子化合物層進行金屬陽離子摻雜，包括，在光照后的所述高分子化合物層上旋涂或者打印一層含有金屬陽離子的鹽溶液。

本公開一種示例性實施例中，所述方法還包括：在所述高分子化合物層背離襯底基板的一側形成封裝薄膜；在所述封裝薄膜背離所述襯底基板的一側形成玻璃蓋板。

本公開一種示例性實施例中，在所述高分子化合物層背離襯底基板的一側形成封裝薄膜之前還包括：剝離所述高分子化合物層的非光照部。