[發明專利]一種石英坩堝回收處理裝置

在審

• 申請號: 202010430065.5
• 申請日: 2020-05-20
• 公開（公告）號: CN111423134A
• 公開（公告）日: 2020-07-17
• 發明（設計）人: 馬瑞雪
• 申請（專利權）人: 馬瑞雪
• 主分類號: C03C19/00
• 分類號: C03C19/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發明涉及一種化工領域，尤其涉及一種石英坩堝回收處理裝置。本發明要解決的技術問題是提供一種石英坩堝回收處理裝置。一種石英坩堝回收處理裝置，包括支架，控制屏，電機，位置調節機構，內壁清理機構，底壁清理機構和儲料艙；支架左端中頂部設置有控制屏。本發明達到了對石英坩堝長期使用后由于析晶遺留下的晶層進行刮除，同時通過酸液與石英坩堝內壁的二氧化鋇涂層反應，將二氧化鋇涂層剔除，并且將石英坩堝底壁由于長期灼燒導致的黑色雜質層進行刮除，留下可再次回收利用的石英坩堝原料的效果。

技術領域

本發明涉及一種化工領域，尤其涉及一種石英坩堝回收處理裝置。

背景技術

石英坩堝，具有高純度、耐溫性強、尺寸大精度高、保溫性好、節約能源、質量穩定等優點，應用越來越廣泛，石英坩堝可在1450度以下使用，分透明和不透明兩種，用電弧法制的半透明石英坩堝是拉制大直徑單晶硅，發展大規模集成電路必不可少的基礎材料。

石英坩堝是利用高純石英砂經過熔制而成，石英坩堝實際上已經成為Si02含量極高、Fe203等雜質含量極低的非晶態Si02，具有熱膨脹系數小、抗熱振穩定性強、透明度高等優點。在生產過程中每生產1噸石英坩堝要有0.25噸的廢石英坩堝。因此，綜合利用這些石英坩堝廢料制備高附加值的產品不僅可以解決企業污染難題，而且可以創造較高的經濟價值。

目前坩堝生產涂層技術已被大多數廠家使用就是在普通石英砂溶制的坩堝表面涂上一層二氧化鋇溶液使其形成致密層，但是在石英坩堝回收時需將二氧化鋇致密層去除得到純石英砂，并且在石英坩堝使用時會產生析晶現象，析晶通常發生在石英坩堝的表層，會在表層形成一層晶層，同時石英坩堝底壁長期受高溫灼燒，會在底壁形成一層黑色雜質層，在回收時需將晶層及黑色雜質層去除后，但是在現有技術中一般直接對石英坩堝進行破碎處理，從而導致在碎砂中混有大量雜質，使回收得到的石英砂質量低下，并且達不到使用標準。

目前需要研發一種石英坩堝回收處理裝置，來克服上述缺點。

發明內容

本發明為了克服目前坩堝生產涂層技術已被大多數廠家使用就是在普通石英砂溶制的坩堝表面涂上一層二氧化鋇溶液使其形成致密層，但是在石英坩堝回收時需將二氧化鋇致密層去除得到純石英砂，并且在石英坩堝使用時會產生析晶現象，析晶通常發生在石英坩堝的表層，會在表層形成一層晶層，同時石英坩堝底壁長期受高溫灼燒，會在底壁形成一層黑色雜質層，在回收時需將晶層及黑色雜質層去除后，但是在現有技術中一般直接對石英坩堝進行破碎處理，從而導致在碎砂中混有大量雜質，使回收得到的石英砂質量低下，并且達不到使用標準的缺點，本發明要解決的技術問題是提供一種石英坩堝回收處理裝置。

本發明由以下具體技術手段所達成：

一種石英坩堝回收處理裝置，包括支架，控制屏，電機，位置調節機構，內壁清理機構，底壁清理機構和儲料艙；支架左端中頂部設置有控制屏；支架內右底部設置有電機；支架內中底部設置有位置調節機構；支架內頂部設置有內壁清理機構；支架內右底部設置有底壁清理機構，并且底壁清理機構右端底部與電機相連接，而且底壁清理機構左端底部和頂端右部均與位置調節機構相連接，而且底壁清理機構頂端右部與內壁清理機構相連接；支架內底端中部與儲料艙進行焊接。