[發明專利]一種真空蒸鍍系統及真空蒸鍍方法

有效

• 申請號: 202010429257.4
• 申請日: 2020-05-20
• 公開（公告）號: CN111549319B
• 公開（公告）日: 2022-03-29
• 發明（設計）人: 梁豐;牛晶華;戴銘志;李巍
• 申請（專利權）人: 武漢天馬微電子有限公司;武漢天馬微電子有限公司上海分公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/54;C23C14/04
• 代理公司: 北京晟睿智杰知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11603
• 代理人: 于淼

1.一種真空蒸鍍系統，其特征在于，包括：

蒸鍍基板，所述蒸鍍基板包括蒸鍍面；

移動載臺，所述移動載臺上設置有M個蒸發源和M個角度限制單元，其中M為大于等于2的整數，所述蒸鍍面為所述蒸鍍基板的靠近所述蒸發源的表面；所述蒸發源包括蒸鍍材料，不同所述蒸發源包含的所述蒸鍍材料不同；所述角度限制單元包括一第一開口，在垂直于所述蒸鍍基板所在平面的方向上，所述第一開口位于所述蒸發源與所述蒸鍍基板之間；所述蒸鍍材料在所述蒸鍍基板上的蒸鍍范圍由所述第一開口限定；

至少一個信號發射單元，所述信號發射單元向所述蒸鍍范圍內發射第一紅外信號，所述第一紅外信號經過蒸鍍材料后形成第二紅外信號；

至少一個信號探測單元，所述信號探測單元接收所述第二紅外信號，并通過所述第二紅外信號分析所述蒸鍍范圍內所包含的蒸鍍材料；

第一驅動單元，所述第一驅動單元與所述角度限制單元電連接，當所述蒸鍍范圍內包含N種蒸鍍材料時，通過所述第一驅動單元驅動所述角度限制單元運動，調節所述蒸鍍范圍，其中N為小于M的整數。

2.根據權利要求1所述的真空蒸鍍系統，其特征在于，還包括：

第二驅動單元，所述第二驅動單元與所述移動載臺電連接，所述第二驅動單元驅動所述移動載臺沿第一方向移動。

3.根據權利要求2所述的真空蒸鍍系統，其特征在于，還包括：

位置傳感器，所述位置傳感器位于所述蒸鍍基板遠離所述移動載臺的一側；

所述位置傳感器檢測所述第一紅外信號在所述蒸鍍基板所在平面上的位置。

4.根據權利要求1所述的真空蒸鍍系統，其特征在于，所述角度限制單元包括底部、兩個側部和至少一個角度限制部，所述角度限制部在所述底部所在平面上的正投影位于所述底部所限定的范圍內；所述第一驅動單元驅動所述角度限制部和/或所述側部運動調節所述蒸鍍范圍。

5.根據權利要求1所述的真空蒸鍍系統，其特征在于，還包括：

掩膜板，所述掩膜板位于所述蒸鍍基板的蒸鍍面上；所述掩膜板包括多個第二開口，所述蒸鍍材料在所述第二開口位置沉積。

6.根據權利要求5所述的真空蒸鍍系統，其特征在于，還包括：

支撐機構，所述支撐機構固定于所述真空蒸鍍系統內，所述支撐機構位于所述掩膜板靠近所述移動載臺的一側；所述支撐機構包括挖空部以及圍繞所述挖空部的支撐部，所述挖空部在所述支撐機構所在平面上的正投影位于所述掩膜板在所述支撐機構所在平面上的正投影所限定的范圍內；所述支撐部用于支撐所述掩膜板。

7.根據權利要求6所述的真空蒸鍍系統，其特征在于，

所述信號發射單元包括第一信號發射單元和第二信號發射單元，所述第一信號發射單元和所述第二信號發射單元位于所述蒸鍍基板靠近所述移動載臺的一側；沿第一方向上，所述第一信號發射單元和所述第二信號發射單元分別位于所述移動載臺的相對兩側。

8.根據權利要求7所述的真空蒸鍍系統，其特征在于，

所述信號探測單元包括第一信號探測單元和第二信號探測單元，所述第一信號探測單元和所述第二信號探測單元位于所述蒸鍍基板靠近所述移動載臺的一側；沿第一方向上，所述第一信號探測單元和所述第二信號探測單元分別位于所述移動載臺的相對兩側。

9.根據權利要求8所述的真空蒸鍍系統，其特征在于，還包括：

第一反射單元和第二反射單元，所述第一反射單元和所述第二反射單元固定于所述支撐部靠近所述移動載臺的表面；沿第一方向上，所述第一反射單元和所述第二反射單元分別位于所述挖空部的相對兩側；

所述第一反射單元包括第一反射面，所述第一信號發射單元和所述第一信號探測單元均位于所述第一反射面遠離所述蒸鍍基板的一側；

所述第二反射單元包括第二反射面，所述第二信號發射單元和所述第二信號探測單元均位于所述第二反射面遠離所述蒸鍍基板的一側。