[發明專利]一種采用淺埋暗挖法從樁撐支護體系明挖基坑破壁進洞的施工方法

有效

• 申請號: 202010428730.7
• 申請日: 2020-05-20
• 公開（公告）號: CN111677515B
• 公開（公告）日: 2022-01-28
• 發明（設計）人: 史宣陶;林剛;徐劍旋;張建祥;柴家遠;周明亮;李輝;倪安斌;朱宏海;彭健海
• 申請（專利權）人: 中鐵二院工程集團有限責任公司
• 主分類號: E21D9/00
• 分類號: E21D9/00;E21D11/14;E21D15/00;E21D11/18;E21D11/10;E02D17/04;E02D5/22;E02D9/00
• 代理公司: 成都惠迪專利事務所(普通合伙) 51215
• 代理人: 王建國

1.一種采用淺埋暗挖法從樁撐支護體系明挖基坑破壁進洞的施工方法，包括如下步驟：

①明挖基坑(A)分層開挖并架設支撐后，準備施工淺埋暗挖隧道(B)；

②在淺埋暗挖隧道(B)第一層初期支護(22)拱部外側打設大管棚(21)；

③破除淺埋暗挖隧道(B)拱部上臺階(1)對應的鉆孔樁(11)，拱部上臺階(1)開挖完成后，施作該部分對應的第一層初期支護(22)，并在第一層初期支護(22)中部設置支撐在上部預留核心土(3)上的臨時豎撐(24)；

④破除隧道拱部右臺階(2a)和隧道拱部左臺階(2b)對應處的鉆孔樁(11)，開挖該部分土體，接長第一層初期支護(22)；

⑤開挖上部預留核心土(3)，接長支撐在下部預留核心土(5)上的臨時豎撐(24)；

⑥開挖隧道下部右臺階(4a)和隧道下部左臺階(4b)土體，接長第一層初期支護(22)，下部預留核心土(5)；

⑦一次性施作第二層初期支護(23)，拆除臨時豎撐(24)，開挖下部預留核心土(5)，完成淺埋暗挖隧道(B)全斷面破除基坑側壁進洞施工。

2.如權利要求1所述一種采用淺埋暗挖法從樁撐支護體系明挖基坑破壁進洞的施工方法，其特征是：所述明挖基坑(A)采用鉆孔樁(11)和對撐(12)支護體系，在與暗挖接口處設置板撐(13)。

3.如權利要求1所述一種采用淺埋暗挖法從樁撐支護體系明挖基坑破壁進洞的施工方法，其特征是：所述淺埋暗挖隧道(B)進洞范圍內的鉆孔樁(11)應采用分段靜力破除。

4.如權利要求1所述一種采用淺埋暗挖法從樁撐支護體系明挖基坑破壁進洞的施工方法，其特征是：所述第一層初期支護(22)采用施工速度和強度生成快的鋼架噴射混凝土。

5.如權利要求1所述一種采用淺埋暗挖法從樁撐支護體系明挖基坑破壁進洞的施工方法，其特征是：所述第二層初期支護(23)采用現澆鋼筋混凝土結構，同時第二層初期支護(23)的鋼筋穿過臨時豎撐(24)，待其澆筑并達到設計強度后，在第二層初期支護(23)拱頂位置切除臨時豎撐(24)。