[發(fā)明專(zhuān)利]一種陰極輥精密研磨拋光方法

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010428167.3
• 申請(qǐng)日: 2020-05-20
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN111761418A
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-10-13
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 包能遠(yuǎn);禹澤海;王永軍;李巖;李旭東;李睿
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 金川集團(tuán)股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): B24B1/00
• 分類(lèi)號(hào): B24B1/00
• 代理公司: 中國(guó)有色金屬工業(yè)專(zhuān)利中心 11028
• 代理人: 范威

本發(fā)明公開(kāi)了一種陰極輥精密研磨拋光方法，包括：研磨環(huán)境為密閉無(wú)塵，用純水浸泡拋光輪；采用粒度為60目拋光輪、120目拋光輪依次進(jìn)行表面粗磨；采用粒度為320目拋光輪、600目拋光輪依次進(jìn)行表面精磨；對(duì)經(jīng)精磨的陰極輥進(jìn)行表面清洗；采用粒度為800目拋光輪、1000目拋光輪依次對(duì)陰極輥進(jìn)行表面精拋；對(duì)陰極輥進(jìn)行表面清洗。本發(fā)明工藝所形成的陰極輥，表面粗糙度在0.2μm以下，具有一定鏡面效果，生產(chǎn)運(yùn)行周期長(zhǎng)，產(chǎn)品晶體致密。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及研磨拋光領(lǐng)域，具體涉及一種陰極輥精密研磨拋光方法。

背景技術(shù)

鋰電銅箔是鋰離子電池負(fù)極集流體的主要材料，其厚度、均一性、物理性能、表面性能等指標(biāo)直接影響到鋰離子電池的循環(huán)性能、能量密度等指標(biāo)。由于陰極輥表面是銅箔結(jié)晶生長(zhǎng)的唯一基體，輥面的質(zhì)量不僅與銅箔光面的表觀質(zhì)量有直接關(guān)系，而且對(duì)銅箔的內(nèi)在質(zhì)量和毛面的微觀形態(tài)有間接影響，所以陰極輥的表面拋光質(zhì)量和潔凈程度是銅箔生產(chǎn)的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。

傳統(tǒng)研磨拋光工藝分為二種，一種以純水為拋光液，采用不同粒度(320目、600目、800目)PVA拋光輪作為工作介質(zhì)，在不同壓力、不同轉(zhuǎn)速下研磨拋光，該方法雖然能達(dá)到一定的陰極輥表面光潔、粗糙度低的效果，但是在銅箔生產(chǎn)過(guò)程中，主要存在輥面氧化快、運(yùn)行壽命短、銅箔結(jié)晶粗大，細(xì)微磨料附著于輥面難以清除等問(wèn)題；另一種以有機(jī)物組成水溶液為化學(xué)拋光液，陰極輥浸泡于其中，采用1000目磨料的拋光刷拋光，在一定壓力和轉(zhuǎn)速下的研磨拋光，該方法主要存在化學(xué)拋光液對(duì)鈦陰極輥的表面潤(rùn)濕作用下降，去除氧化層的能力變?nèi)酰瑨伖庑Ч睿瘜W(xué)拋光液濃度過(guò)高，容易在陰極輥上形成殘留，難于清洗，極易造成生箔溶液系統(tǒng)所受污染，上述兩種方法均無(wú)法生產(chǎn)出高品質(zhì)超薄鋰電銅箔產(chǎn)品。

發(fā)明內(nèi)容

針對(duì)上述已有技術(shù)存在的不足，本發(fā)明提供一種陰極輥精密研磨拋光方法。

本發(fā)明是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的。

一種陰極輥精密研磨拋光方法，其特征在于，所述方法步驟包括：

(1)在密閉無(wú)塵環(huán)境中放置研磨床，利用純水浸泡粒度分別為60目、120目、320目、600目、800目、1000目拋光輪，直到徹底浸透，將待處理陰極輥置于陰極輥轉(zhuǎn)動(dòng)架上；

(2)采用經(jīng)浸泡過(guò)的粒度為60目拋光輪、120目拋光輪依次對(duì)陰極輥進(jìn)行表面粗磨；

(3)采用經(jīng)浸泡過(guò)的粒度為320目拋光輪、600目拋光輪依次對(duì)經(jīng)步驟(2)得到的陰極輥進(jìn)行表面精磨；

(4)對(duì)經(jīng)步驟(3)得到的陰極輥進(jìn)行表面清洗；

(5)采用經(jīng)浸泡過(guò)的粒度為800目拋光輪、1000目拋光輪依次對(duì)經(jīng)步驟(4)得到的陰極輥進(jìn)行表面精拋；

(6)對(duì)經(jīng)步驟(5)得到的陰極輥進(jìn)行表面清洗。

進(jìn)一步地，所述步驟(2)研磨壓力為0.14MPa～0.16MPa，陰極輥轉(zhuǎn)速為8～10r/min，拋光輪轉(zhuǎn)速為350～450r/min，拋光輪平移速度為80～100mm/min。

進(jìn)一步地，所述步驟(3)研磨壓力為0.12MPa～0.14MPa，陰極輥轉(zhuǎn)速為8～10r/min，拋光輪轉(zhuǎn)速為350～450r/min，拋光輪平移速度為70～100mm/min。

進(jìn)一步地，所述步驟(5)研磨壓力為0.10MPa～0.12MPa，陰極輥轉(zhuǎn)速8～10r/min，拋光輪轉(zhuǎn)速為350～450r/min，拋光輪平移速度為50～60mm/min。

進(jìn)一步地，所述步驟(4)和步驟(6)表面清洗均為：依次采用百潔布、海綿、洗滌劑、稀硫酸銅溶液對(duì)陰極輥進(jìn)行表面清洗。

進(jìn)一步地，所述稀硫酸銅溶液濃度(按質(zhì)量百分比計(jì))為20％。

進(jìn)一步地，所述純水電導(dǎo)率≤1.0μs/cm。