[發明專利]一種有機酸陰離子插層水滑石的制備方法有效
| 申請號： | 202010426741.1 | 申請日： | 2020-05-19 |
| 公開（公告）號： | CN111875492B | 公開（公告）日： | 2023-03-21 |
| 發明（設計）人： | 宋宇飛;張分地;林長亙;陳偉 | 申請（專利權）人： | 北京化工大學 |
| 主分類號： | C07C53/10 | 分類號： | C07C53/10;C07C51/41;C07C59/08;C07C59/06;C07C57/04;C07C53/122;C07C53/16;C07C63/70;C07C63/04;C07C63/26;C07C201/12;C07C205/57;C07C55/06;C07C5 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 有機酸 陰離子 插層水 滑石 制備 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種有機酸陰離子插層水滑石的制備方法，其特征在于，所述的制備方法的具體步驟為：將碳酸根水滑石分散在醇溶劑中；將冰醋酸稀釋在醇溶劑中；將有機酸稀釋在醇溶劑中；首先將得到的冰醋酸的醇溶液逐滴加入到劇烈攪拌的碳酸根水滑石分散液中，室溫下攪拌反應10-30分鐘后，再將得到的有機酸的醇溶液也逐滴加入到劇烈攪拌的碳酸根水滑石分散液中，室溫下攪拌反應10-30分鐘，待反應結束后，將所得產物過濾、醇溶劑洗滌、真空干燥，得到有機酸陰離子插層水滑石；所述的有機酸為有機磺酸、有機膦酸。
2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述的醇溶劑為甲醇、乙醇、異丙醇、正丙醇中一種或幾種。
3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述的有機酸加入的物質的量的計算公式為：f＝[COOH]/(2×[CO32-]，f表示有機酸加入的物質的量。
4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述的碳酸根水滑石的尺寸為10納米-9微米，且隨著碳酸根水滑石尺寸的減小，更易于交換反應。
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