[發明專利]粉體干壓模具及粉體干壓方法

在審

• 申請號: 202010426717.8
• 申請日: 2020-05-19
• 公開（公告）號: CN111496980A
• 公開（公告）日: 2020-08-07
• 發明（設計）人: 徐哲;蔣先軍;劉海強
• 申請（專利權）人: 萬津實業（赤壁）有限公司
• 主分類號: B28B7/00
• 分類號: B28B7/00;C03B19/00
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 侯武嬌

1.一種粉體干壓模具，其特征在于，包括：

底模，設有成型凹槽；

上模組件，包括底面干壓上模及立面干壓上模；所述底面干壓上模能夠與所述成型凹槽相配合，所述底面干壓上模的外徑小于所述成型凹槽的內徑以使所述底面干壓上模與所述成型凹槽配合時形成立面成型間隙；所述立面干壓上模能夠套設于所述底面干壓上模的外側且至少部分裝配于所述立面成型間隙。

2.如權利要求1所述的粉體干壓模具，其特征在于，所述底面干壓上模的厚度大于所述成型凹槽的深度；所述立面干壓上模能夠套設于所述底面干壓上模的外側且部分裝配于所述立面成型間隙；

所述上模組件還包括上模外框，所述上模外框能夠套設于所述立面干壓上模凸出于所述底模的外側區域且與所述底模相貼合。

3.如權利要求2所述的粉體干壓模具，其特征在于，所述底模包括底模基體及凸臺，所述底模基體包括邊緣部及被所述邊緣部圍繞的中心部，所述凸臺設于所述中心部上，所述成型凹槽設于所述凸臺上；

所述上模外框能夠與所述底模的所述凸臺及所述邊緣部相貼合。

4.如權利要求3所述的粉體干壓模具，其特征在于，所述上模外框具有外框基體，所述外框基體設有用于與所述底面干壓上模配合的第一中心孔，所述外框基體的一表面圍繞所述第一中心孔設有凹陷部，所述凹陷部用于與所述底模的凸臺相貼合，所述外框基體的邊沿用于與所述邊緣部相貼合。

5.如權利要求3所述的粉體干壓模具，其特征在于，所述凸臺的形狀為方形或圓形。

6.如權利要求2所述的粉體干壓模具，其特征在于，所述底模、所述底面干壓上模、所述立面干壓上模及所述上模外框的材質各自獨立地選自金屬、石墨及陶瓷材料中的一種。

7.如權利要求1至6任一項所述的粉體干壓模具，其特征在于，所述立面干壓上模具有用于與所述底面干壓上模配合的第二中心孔；

所述立面干壓上模沿所述第二中心孔的軸向包括第一端和第二端，所述第一端用于裝配于所述立面成型間隙且所述第二端凸出于所述底模；在自所述第一端至所述第二端的方向上，所述第一端的壁厚保持不變，所述第二端的壁厚逐漸增大。

8.如權利要求7所述的粉體干壓模具，其特征在于，在自所述第一端至所述第二端的方向上，所述第二中心孔的內徑保持不變，所述立面干壓上模的所述第一端的外徑保持不變，所述第二端的外徑逐漸增大。

9.如權利要求1至6任一項所述的粉體干壓模具，其特征在于，所述成型凹槽的底壁與側壁呈倒角設置，所述底面干壓上模的與所述成型凹槽配合的端部的底壁與側壁也呈倒角設置。

10.如權利要求1至6任一項所述的粉體干壓模具，其特征在于，所述成型凹槽的形狀為方形或圓形。

11.一種粉體干壓方法，其特征在于，采用如權利要求1至10任一項所述的粉體干壓模具進行，所述粉體干壓方法包括如下步驟：

將一部分的粉料裝填在所述底模的成型凹槽內，然后將所述底面干壓上模裝配于填充有粉料的所述成型凹槽內，并將所述立面干壓上模套設于所述底面干壓上模的外側且至少部分裝配于所述立面成型間隙，將裝填有粉料的粉體干壓模具進行保壓處理，完成底面干壓成型；

在所述底面干壓成型之后將所述立面干壓上模拆除，將另一部分的粉料裝填在所述立面成型間隙內，再重新裝配所述立面干壓上模，將裝填有粉料的粉體干壓模具進行保壓處理，完成立面干壓成型。

12.如權利要求11所述的粉體干壓方法，其特征在于，所述的粉體干壓模具含有上模外框時，所述底面干壓成型的步驟中，在所述保壓處理的步驟之前還包括如下步驟：

將所述上模外框套設于所述立面干壓上模凸出于所述底模的外側區域且與所述底模相貼合。