[發明專利]一種應用于先進控制系統的線寬控制方法

在審

• 申請號: 202010425461.9
• 申請日: 2020-05-19
• 公開（公告）號: CN111427242A
• 公開（公告）日: 2020-07-17
• 發明（設計）人: 許博聞;李琛;時雪龍;燕燕;李立人
• 申請（專利權）人: 上海集成電路研發中心有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;H01L21/027
• 代理公司: 上海天辰知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31275
• 代理人: 吳世華;馬盼

1.一種應用于先進控制系統的線寬控制方法，其特征在于，包括如下步驟：

S01：設置第1次曝光的原始曝光能量E_exp(1)，并進行曝光；

S02：第1次曝光完成之后，計算第1次曝光的實際曝光能量E_l(1)以及預測曝光能量E_p(1)，且E_p(1)＝E(1)/f(1)；

S03：重復步驟S01-S02，設置第x次曝光的原始曝光能量E_exp(x)等于第x-1次曝光的預測曝光能量E_p(x-1)，并進行曝光，再計算第x次曝光的實際曝光能量E_l(x)以及預測曝光能量E_p(x)；直至完成整個曝光過程；

其中，實際曝光能量E_l(x)根據第x次曝光的原始曝光能量以及線寬進行計算；E(x)表示采用平均方法計算出的初始預測曝光能量，f(x)為單調遞增的調整公式，f(x)∈(0,1)，且隨著x的增大，f(x)趨近于1，x為大于0的整數。

2.根據權利要求1所述的一種應用于先進控制系統的線寬控制方法，其特征在于，所述步驟S02中實際曝光能量E_l(x)＝[E_exp(x)-Slop×(CD_target–CD_measure)]×(SSC₀/SSC_m)；其中，CD_target和CD_measure分別為第x次曝光的線寬目標值和線寬測量值，SSC₀和SSC_m為曝光設備位置傳感系數的初始值和測量值，Slop為線寬和曝光能量的轉換系數。

3.根據權利要求1所述的一種應用于先進控制系統的線寬控制方法，其特征在于，所述調整公式f(x)＝1-Q^x，Q為調整系數，且Q∈(0,1)。

4.根據權利要求1所述的一種應用于先進控制系統的線寬控制方法，其特征在于，所述步驟S02中初始預測曝光能量E(x)＝E_l(x)×(1-K)+E_p(x-1)×K；其中，K為平均系數，K∈(0,1)。

5.根據權利要求4所述的一種應用于先進控制系統的線寬控制方法，其特征在于，所述調整公式f(x)＝1-K^x。

6.根據權利要求4所述的一種應用于先進控制系統的線寬控制方法，其特征在于，所述平均系數K＝(1-B)×D，其中，B為權重系數，D為時間系數。

7.根據權利要求6所述的一種應用于先進控制系統的線寬控制方法，其特征在于，所述時間系數D＝C[t-(t-1)]，C(t)＝exp(-t/T)，T表示整個曝光過程的持續時間，且第x次曝光的時刻為開始曝光之后的第t時刻。

8.根據權利要求1所述的一種應用于先進控制系統的線寬控制方法，其特征在于，所述第一次曝光的原始曝光能量E_exp(1)＝0。