[發明專利]一種金屬合金涂布基體的方法及其真空沉積裝置

在審

• 申請號: 202010424886.8
• 申請日: 2020-05-19
• 公開（公告）號: CN113684454A
• 公開（公告）日: 2021-11-23
• 發明（設計）人: 欒鑫;李山青;熊斐;汪義如;任三兵;金小禮
• 申請（專利權）人: 寶山鋼鐵股份有限公司
• 主分類號: C23C14/32
• 分類號: C23C14/32;C23C14/16
• 代理公司: 上海集信知識產權代理有限公司 31254
• 代理人: 周成

1.一種金屬合金涂布基體的方法，其特征在于，包括以下步驟：

1)真空室抽成真空，使多弧離子鍍表面預處理裝置、蒸發器上的噴嘴處于真空環境下；

2)真空室內通入惰性氣體，多弧離子鍍表面預處理裝置對基體進行沉積，在基體表面形成合金鍍層；

3)蒸發室抽成真空，蒸發器加熱，將金屬顆粒熔化蒸發，形成金屬蒸氣；

4)打開蒸發器上高溫閥；

5)金屬蒸氣經噴嘴入射至基體表面，再在基體表面的合金鍍層上形成鍍層。

2.如權利要求1所述的金屬合金涂布基體的方法，其特征在于：所述步驟1)中，真空室內的真空度達到10^-1～10Pa，所述步驟3)中，蒸發室內的真空度達到10^-2～10^-4Pa。

3.如權利要求1所述的金屬合金涂布基體的方法，其特征在于：所述步驟2)中，惰性氣體為氬氣。

4.如權利要求1所述的金屬合金涂布基體的方法，其特征在于：所述步驟2)中，多弧離子鍍表面預處理裝置的陰極靶為一種純金屬作為蒸發源。

5.如權利要求1所述的金屬合金涂布基體的方法，其特征在于：所述多弧離子鍍表面預處理裝置的工作電流為30～100A連續可調，工作電壓為0～1200V連續可調，沉積速率2500～50000nm/min。

6.如權利要求4所述的金屬合金涂布基體的方法，其特征在于：所述純金屬為鎂靶，純度為99.9％。

7.如權利要求1所述的金屬合金涂布基體的方法，其特征在于：所述步驟3)中，金屬顆粒為鋅顆粒，蒸發器加熱溫度≥419℃。

8.如權利要求1所述的金屬合金涂布基體的方法，其特征在于：所述步驟5)中，鍍層的厚度為1～10μm。

9.一種金屬合金涂布基體的真空沉積裝置，其特征在于：包括沿所述基體運行方向依次設置的真空室和蒸發室，所述真空室上連有氣體管道，所述真空室內部設有噴鍍機構和多弧離子鍍表面預處理裝置，所述蒸發室連接所述噴鍍機構，所述多弧離子鍍表面預處理裝置、所述噴鍍機構均設有一個或多個，所述裝置采用如權利要求1-9任一項所述的方法實現基體表面的單面鍍、雙面鍍或差厚鍍。

10.如權利要求9所述的金屬合金涂布基體的真空沉積裝置，其特征在于：所述噴鍍機構包括噴嘴，所述蒸發器的側部通過管道連接所述噴嘴，所述噴嘴位于所述真空室內，所述管道上設有高溫閥，

所述氣體管道與外部惰性氣體源相連。