[發(fā)明專利]一種高溫高Bs 在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010424648.7 | 申請日: | 2020-05-19 |
| 公開(公告)號: | CN111689770A | 公開(公告)日: | 2020-09-22 |
| 發(fā)明(設計)人: | 顧張新;邢冰冰;李小龍;張強原;繆思敏;宋巖巖 | 申請(專利權)人: | 天通控股股份有限公司 |
| 主分類號: | C04B35/38 | 分類號: | C04B35/38;C04B35/622;C04B35/64;H01F1/34;H01F1/36;H01F41/02 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 314412 浙江*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 高溫 base sub | ||
本發(fā)明提供了一種高溫高Bs低損耗軟磁鐵氧體材料及其制備方法,鐵氧體材料由主成分和副成分組成,所述主成分以各自氧化物計算分別為Fe2O3:56.5 mol%~57.5mol%,ZnO:7.0 mol%~9.0mol%,NiO:3.5 mol%~5.0mol%,余量為MnO;所述副成分包括CaCO3、Nb2O5、Li2CO3和MgO中的一種或幾種。其制備方法包括配料、混合、預燒、砂磨、造粒、成型、燒結。本發(fā)明主要選用高鐵配方,在主成分中添加NiO,并控制主成分、副成分的組成含量,特別是添加比磁化強度較高的Li2CO3、MgO添加劑以及采用低溫致密化燒結工藝,使軟磁鐵氧體材料同時具備高溫高Bs、低損耗的性能。
技術領域
本發(fā)明屬于軟磁鐵氧體材料技術領域,具體涉及一種高溫高Bs低損耗軟磁鐵氧體材料及其制備方法。
背景技術
隨著個人電腦、信息家電、汽車電子等的飛速發(fā)展,對電子器件提出了小型化、扁平化的要求。提高磁心高溫飽和磁通密度Bs,有利于縮小變換器體積,確保電子器件在高溫等復雜條件下正常運行。同時,材料的高溫功耗不宜過高,為避免功耗帶來的溫升急劇增加,要求功耗呈負溫度系數(shù),并且功耗最低點的溫度要高于工作溫度,這樣電子器件在工作溫度工作都處于低損耗狀態(tài),防止了功耗和功耗帶來的溫升之間的惡性循環(huán)。
近年來,高溫高Bs低損耗軟磁鐵氧體材料,已成為磁材業(yè)界關注的熱點。
在中國公開的專利CN101090017A 中,公開了一種高飽和磁通密度低損耗MnZn功率鐵氧體及其制備方法,該發(fā)明涉及一種高飽和磁通密度低損耗MnZn功率鐵氧體及其制備方法;該發(fā)明通過精確控制材料的成分和制備方法,研制出功耗谷點在90℃,在100kHz,200mT的條件下功耗小于等于260mW/cm3,在1000A/m,50Hz的條件下25℃的飽和磁通密度大于等于530mT,在1000A/m,50Hz的條件下100℃的飽和磁通密度大于等于420mT的MnZn功率鐵氧體。
在中國公開的專利CN102054552A中,公開了一種NiMnZn鐵氧體材料,由主成分和副成分組成,其特征在于:所述的主成分原料為:Fe2O3 53.2~55.7mol%,ZnO 2~11mol%,NiO 0~2.5mol%但不包括0,余量為MnO;所述的副成分原料以主成分原料總重量計包括:SiO2 50~200ppm,CaCO3 200~1500ppm,ZrO2 50~500ppm,Nb2O5 50~500ppm和Na2O5 0~300ppm。該發(fā)明還提供了所述的NiMnZn鐵氧體材料的制備方法,其中燒結工序中在1000℃~1300℃的升溫階段升溫速率為4-7℃/分鐘,氧分壓濃度為0.2%以下;保溫溫度為1300-1350℃,燒結的時間為2-8個小時。該發(fā)明提供的鐵氧體磁心,在100℃下的飽和磁通密度在450mT以上,100℃下的損耗在320KW/m3以下。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于天通控股股份有限公司,未經天通控股股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010424648.7/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種三氮唑硫(硒)酮衍生物的制備方法
- 下一篇:一種軟件化雷達通用通信中間件
- 一種Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-Yb<sub>2</sub>O<sub>3</sub>改性的La<sub>2</sub>Zr<sub>2</sub>O<sub>7</sub>-(Zr<sub>0.92</sub>Y<sub>0.08</sub>)O<sub>1.96</sub>復相熱障涂層材料
- 無鉛[(Na<sub>0.57</sub>K<sub>0.43</sub>)<sub>0.94</sub>Li<sub>0.06</sub>][(Nb<sub>0.94</sub>Sb<sub>0.06</sub>)<sub>0.95</sub>Ta<sub>0.05</sub>]O<sub>3</sub>納米管及其制備方法
- 磁性材料HN(C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>)<sub>3</sub>·[Co<sub>4</sub>Na<sub>3</sub>(heb)<sub>6</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>6</sub>]及合成方法
- 磁性材料[Co<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(hmb)<sub>4</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub>]·(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub> 及合成方法
- 一種Bi<sub>0.90</sub>Er<sub>0.10</sub>Fe<sub>0.96</sub>Co<sub>0.02</sub>Mn<sub>0.02</sub>O<sub>3</sub>/Mn<sub>1-x</sub>Co<sub>x</sub>Fe<sub>2</sub>O<sub>4</sub> 復合膜及其制備方法
- Bi<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-TeO<sub>2</sub>-SiO<sub>2</sub>-WO<sub>3</sub>系玻璃
- 熒光材料[Cu<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(mtyp)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>COO)<sub>2</sub>(H<sub>2</sub>O)<sub>3</sub>]<sub>n</sub>及合成方法
- 一種(Y<sub>1</sub>-<sub>x</sub>Ln<sub>x</sub>)<sub>2</sub>(MoO<sub>4</sub>)<sub>3</sub>薄膜的直接制備方法
- 熒光材料(CH<sub>2</sub>NH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>ZnI<sub>4</sub>
- Li<sub>1.2</sub>Ni<sub>0.13</sub>Co<sub>0.13</sub>Mn<sub>0.54</sub>O<sub>2</sub>/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>復合材料的制備方法





