[發(fā)明專利]一種備件微弧脈沖等離子快速增材制造裝置及方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010423533.6 | 申請(qǐng)日: | 2020-05-19 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111558717B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-04-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 袁曉靜;關(guān)寧 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)人民解放軍火箭軍工程大學(xué) |
| 主分類號(hào): | B22F3/105 | 分類號(hào): | B22F3/105;C23C24/10;B33Y10/00;B33Y30/00;B33Y50/02 |
| 代理公司: | 北京睿智保誠(chéng)專利代理事務(wù)所(普通合伙) 11732 | 代理人: | 周新楣 |
| 地址: | 710025 *** | 國(guó)省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 備件 脈沖 等離子 快速 制造 裝置 方法 | ||
1.一種備件微弧脈沖等離子快速增材制造方法,其特征在于,為備件微弧脈沖等離子快速增材制造裝置的快速增材制造方法,該裝置包括噴槍軌跡控制機(jī)構(gòu)(1)、脈沖微弧等離子熔覆平臺(tái)(2)、變位機(jī)構(gòu)(3)、機(jī)電綜合控制臺(tái)(4)以及焊槍路徑規(guī)劃數(shù)控顯示臺(tái)(5);
噴槍軌跡控制機(jī)構(gòu)(1)用于微弧等離子熔覆噴槍(13)的運(yùn)動(dòng)軌跡控制,脈沖微弧等離子熔覆平臺(tái)(2)用于與微弧等離子熔覆噴槍(13)形成微弧等離子場(chǎng),實(shí)現(xiàn)微弧等離子流量控制、脈沖電流控制以及電壓控制,所述變位機(jī)構(gòu)(3)用于實(shí)現(xiàn)制造增材件位置和方向的調(diào)整控制,所述機(jī)電綜合控制臺(tái)(4)內(nèi)設(shè)獨(dú)立計(jì)算機(jī)儲(chǔ)存的備件模型庫(kù),機(jī)電綜合控制臺(tái)(4)通過(guò)與焊槍路徑規(guī)劃數(shù)控顯示臺(tái)(5)連接進(jìn)行模型數(shù)據(jù)輸入和輸出,焊槍路徑規(guī)劃數(shù)控顯示臺(tái)(5)用于控制和調(diào)節(jié)變位機(jī)構(gòu)(3)工作及控制微弧等離子沉積的工藝過(guò)程;
所述脈沖微弧等離子熔覆平臺(tái)(2)包括循環(huán)冷卻系統(tǒng)(11)、微弧等離子熔覆控制臺(tái)(12)、微弧等離子熔覆噴槍(13)、粉末輸送控制裝置(14)以及供氣裝置(15);
所述微弧等離子熔覆噴槍(13)固定于焊槍固定架(10)上,所述循環(huán)冷卻系統(tǒng)(11)與微弧等離子熔覆噴槍(13)連接實(shí)現(xiàn)冷卻水控制,在噴槍工作過(guò)程中起冷卻作用;所述粉末輸送控制裝置(14)實(shí)現(xiàn)送氣流量控制、粉末容器控制以及采用步進(jìn)電機(jī)進(jìn)行匯流控制;
所述供氣裝置(15)分兩路,一路連接粉末輸送控制裝置(14),并通過(guò)粉末輸送控制裝置(14)將粉末輸送到微弧等離子熔覆噴槍(13);另一路通過(guò)微弧等離子熔覆控制臺(tái)(12)與微弧等離子熔覆噴槍(13)連接,實(shí)現(xiàn)等離子場(chǎng)的形成;
所述機(jī)電綜合控制臺(tái)(4)包括數(shù)據(jù)模型輸入輸出模塊、微弧等離子熔覆控制模塊、變位機(jī)構(gòu)電機(jī)控制模塊以及集成顯示面板;
所述快速增材制造裝置的備件微弧脈沖等離子快速增材制造方法,包括如下步驟:
步驟1:根據(jù)備件快速制造需求,通過(guò)機(jī)電綜合控制臺(tái)(4)調(diào)出零件成形數(shù)據(jù)文件,利用USB傳輸至焊槍路徑規(guī)劃數(shù)控顯示臺(tái)(5)形成微弧等離子熔覆噴槍的路徑規(guī)劃數(shù)據(jù);設(shè)定噴槍移動(dòng)速度為15~20cm/min,每層堆積高度為0.1~0.2mm;
步驟2:檢查裝置的安全性,打開(kāi)供氣裝置(15),將氣體輸出壓力調(diào)整至0.2~0.5MPa,啟動(dòng)系統(tǒng)總電源,而后啟動(dòng)循環(huán)冷卻系統(tǒng)(11),啟動(dòng)脈沖微弧等離子熔覆平臺(tái)(2)控制開(kāi)關(guān),將電壓模式調(diào)整至脈沖模式,根據(jù)粉末材料沉積特性,調(diào)整電流參數(shù);其中,輸入電壓為AC220V,輸出電流為10~50A,電流脈沖為20~70ms,氣體延遲時(shí)間為2-7s,流量為0.4~0.9L/min,壓力為0.2~0.6MPa;
步驟3:?jiǎn)?dòng)變位機(jī)構(gòu)(3)控制電機(jī),將變位機(jī)構(gòu)調(diào)整至“0”位,利用噴槍軌跡控制機(jī)構(gòu)(1)將微弧等離子熔覆焊槍噴口調(diào)整至距離基準(zhǔn)面10mm~20mm之間;
步驟4:?jiǎn)?dòng)粉末輸送控制裝置(14)控制送粉速度;送粉氣壓力為0.2~0.6Mpa,速度為20~30r/min;
步驟5:?jiǎn)?dòng)焊槍路徑規(guī)劃數(shù)控顯示臺(tái)(5)焊槍按照規(guī)定軌跡進(jìn)行掃描熔覆;同時(shí),隨時(shí)觀察成型件沉積情況,根據(jù)沉積件熔池形成情況,利用機(jī)電綜合控制臺(tái)(4)調(diào)整焊槍與沉積表面之間的距離誤差;
步驟6:根據(jù)工藝特點(diǎn),進(jìn)行循環(huán)沉積,獲得滿足要求的備件配件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的備件微弧脈沖等離子快速增材制造方法,其特征在于:所述噴槍軌跡控制機(jī)構(gòu)(1)包括基底支撐架(6)、安裝在基底支撐架(6)上的滑軌數(shù)控掃描總成(7)、升降控制電機(jī)(8)、平移控制電機(jī)(9)和焊槍固定架(10),通過(guò)滑軌數(shù)控掃描總成(7)控制升降控制電機(jī)(8)和平移控制電機(jī)(9)工作,實(shí)現(xiàn)對(duì)焊槍固定架(10)的移動(dòng)軌跡控制。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的備件微弧脈沖等離子快速增材制造方法,其特征在于:所述變位機(jī)構(gòu)(3)包括回轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)(16)、傾斜驅(qū)動(dòng)電機(jī)(17)、三爪卡盤(pán)和基座(18),通過(guò)回轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)電機(jī)(16)驅(qū)動(dòng)三爪卡盤(pán)和基座(18)旋轉(zhuǎn),通過(guò)傾斜驅(qū)動(dòng)電機(jī)(17)驅(qū)動(dòng)三爪卡盤(pán)和基座(18)調(diào)整傾斜位置。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國(guó)人民解放軍火箭軍工程大學(xué),未經(jīng)中國(guó)人民解放軍火箭軍工程大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買(mǎi)此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010423533.6/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。





