[發明專利]基板處理系統有效
| 申請號: | 202010423057.8 | 申請日: | 2018-04-13 |
| 公開(公告)號: | CN111564389B | 公開(公告)日: | 2023-08-29 |
| 發明(設計)人: | 張志皇 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/677;H01L21/68 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286 | 代理人: | 習瑞恒;李盛泉 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 處理 系統 | ||
1.一種基板處理系統,包括:
第一腔室,同時搬入或搬出至少兩個基板;
基板對齊單元,布置于所述第一腔室內,使所述至少兩個基板以預定的間隔隔開的方式對齊;
多個第二腔室,處理在所述第一腔室得到對齊的所述至少兩個基板;以及
基板搬送單元,將對齊的所述至少兩個基板從所述第一腔室搬送至所述第二腔室,
其中,所述基板對齊單元包括:
基板支撐臺,支撐沿第一方向相互隔開布置的所述至少兩個基板中的第一基板及第二基板;
第一邊角支撐部,支撐所述第一基板的邊角;
第二邊角支撐部,支撐所述第二基板的邊角;以及
間隔擴張部,能夠沿第二方向移動,且插入所述第一基板與所述第二基板之間的空間,通過旋轉而能夠將所述第一基板的一側面和所述第二基板的一側面同時推動,
所述第一方向是與所述第一基板或所述第二基板的多個側面中的一個側面平行的方向,
所述第二方向是在水平面上與所述第一方向交叉并與不平行于所述一個側面的另一側面平行的方向。
2.如權利要求1所述的基板處理系統,其中,
所述第一邊角支撐部及所述第二邊角支撐部具有與所述第一基板及所述第二基板的所述邊角分別對應的形狀。
3.如權利要求1所述的基板處理系統,其中,
所述基板搬送單元包括:
第一支撐桿,支撐所述至少兩個基板;以及
第一驅動部,結合于所述第一支撐桿,且移動所述第一支撐桿。
4.如權利要求1所述的基板處理系統,其中,還包括:
盒子,保管搬送到所述第一腔室的所述至少兩個基板;以及
搬送部,將所述至少兩個基板從所述盒子搬送到所述第一腔室。
5.如權利要求4所述的基板處理系統,其中,
所述搬送部包括:
多個第二支撐桿,支撐相互平行布置的所述至少兩個基板,且沿一方向延伸;以及
第二驅動部,結合于所述多個第二支撐桿,且移動所述第二支撐桿。
6.如權利要求5所述的基板處理系統,其中,
所述多個第二支撐桿為兩個以上。
7.如權利要求5所述的基板處理系統,其中,
所述多個第二支撐桿的長度大于所述至少兩個基板的總長度。
8.如權利要求1所述的基板處理系統,其中,
所述第一腔室與所述多個第二腔室沿環形狀的虛擬線排列。
9.如權利要求1所述的基板處理系統,其中,所述基板對齊單元還包括:基板側面支撐臺,鄰近于所述間隔擴張部,并且能夠分別與所述第一基板的側面或所述第二基板的側面接觸。
10.如權利要求9所述的基板處理系統,其中,
所述基板對齊單元還包括:主體,形成有所述間隔擴張部及所述基板側面支撐臺。
11.如權利要求10所述的基板處理系統,其中,
所述間隔擴張部從所述主體凸出,從而具有能夠將所述第一基板的一側面和所述第二基板的一側面同時推動的結構。
12.如權利要求1所述的基板處理系統,其中,
所述第一邊角支撐部或所述第二邊角支撐部與連桿部件以及連接于所述連桿部件的驅動部連接而操作。
13.如權利要求1所述的基板處理系統,其中,還包括:
基板支撐臺,放置所述第一基板及所述第二基板,
其中,所述基板支撐臺包括:阻擋部,位于所述第一基板及所述第二基板的周圍。
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H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





