[發明專利]一種用于提高光學薄膜光學性能的制備方法

在審

• 申請號: 202010422924.6
• 申請日: 2020-05-19
• 公開（公告）號: CN111485203A
• 公開（公告）日: 2020-08-04
• 發明（設計）人: 郭春;孔明東
• 申請（專利權）人: 中國科學院光電技術研究所
• 主分類號: C23C14/30
• 分類號: C23C14/30;C23C14/10;C23C14/08;C23C14/02
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于提高光學薄膜光學性能的制備方法，其特征在于，具體步驟如下：

步驟(1)、將光學元件清洗干凈，然后放入真空鍍膜機；

步驟(2)、封閉真空室門，開始抽真空；控制鍍膜機內真空室的本底真空度小于1×10^-3Pa；

步驟(3)、將光學元件加熱至設定溫度，并恒溫足夠長時間；

步驟(4)、采用物理氣相沉積技術制備膜層材料，直至膜層厚度達到設定值；

步驟(5)、采用高能離子束刻蝕技術對剛制備膜層進行在線處理，離子源工作偏壓60-130V，工作氣體流量10-30sccm，刻蝕時間60-400s；

步驟(6)、重復步驟(4)和步驟(5)直至光學薄膜制備完成；

步驟(7)、待真空室冷卻至室溫后取出鍍制好的光學薄膜元件。

2.根據權利要求1所述的一種用于提高光學薄膜光學性能的制備方法，其特征在于：所述的光學元件基底材料可以是常用的石英、微晶、K9和ULE玻璃，也可以是半導體和晶體材料。

3.根據權利要求1所述的一種用于提高光學薄膜光學性能的制備方法，其特征在于：所述的光學元件加溫溫度和恒溫時長與光學元件材質、尺寸、薄膜材料以及真空鍍膜技術選擇有關。

4.根據權利要求1所述的一種用于提高光學薄膜光學性能的制備方法，其特征在于：所述的光學薄膜膜層材料是氧化物或者氟化物，可選單質和兩種或者多種單質的混合膜層材料。

5.根據權利要求1所述的一種用于提高光學薄膜光學性能的制備方法，其特征在于：所述的高能粒子束刻蝕過程中工作氣體種類與膜層材料有關，當膜層材料為氧化物，則工作氣體選用氧氣；當膜層材料為氟化物，則工作氣體選用含氟的氣氛介質，包括氟氣、氟化硫、氟化氮或氟化碳。

6.根據權利要求1所述的一種用于提高光學薄膜光學性能的制備方法，其特征在于：所述的離子源可以是考夫曼(Kaufman)離子源、霍爾(Hall)離子源或者先進等離子體源(APS)。