[發明專利]一種制作三維旋轉對稱微結構的一體化成型方法有效
| 申請號： | 202010422720.2 | 申請日： | 2020-05-19 |
| 公開（公告）號： | CN111458976B | 公開（公告）日： | 2021-09-07 |
| 發明（設計）人： | 劉鑫;范斌;杜俊峰;邊疆;雷柏平 | 申請（專利權）人： | 中國科學院光電技術研究所 |
| 主分類號： | G03F7/00 | 分類號： | G03F7/00;G03F7/20 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 610209 *** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 制作 三維 旋轉 對稱 微結構 一體化 成型 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種制作三維旋轉對稱微結構的一體化成型方法，其特征在于，包含以下步驟：
步驟1、根據目標的三維旋轉對稱微結構(31)的中心剖面面形函數、光刻膠的曝光顯影模型以及曝光劑量的旋轉積分模型，設計二維掩模圖形編碼，并利用激光直寫技術制作掩模(1)；
步驟2、在基底(2)表面，均勻涂覆一層光刻膠(3)；
步驟3、調整掩模(1)與基底(2)及其表面的光刻膠(3)在分離一定間隙的情況下，保持嚴格的平行；
步驟4、控制掩模(1)相對基底(2)及其表面的光刻膠(3)按照設定的角速度做同軸旋轉運動，同時利用紫外光(4)對掩模(1)進行面曝光；
步驟5、經過顯影，獲得三維旋轉對稱微結構(31)；
其中，步驟4中，經過掩模(1)的圖形編碼和曝光劑量旋轉積分的雙重作用，紫外光(4)使光刻膠(3)上形成特定的連續曝光劑量分布，經顯影后獲得目標微結構，從而實現三維旋轉對稱微結構(31)的一體化成型。
2.根據權利要求1所述的一種制作三維旋轉對稱微結構的一體化成型方法，其特征在于：步驟5中，根據實驗結果反饋的實測面形與理想面形之差，對步驟1中掩模(1)的圖形編碼進行優化設計，并且重復步驟1到步驟5，可以實現三維旋轉對稱微結構的面形高精度控制。
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