[發明專利]帶有次級鎖定密封的核磁共振樣品容器的封閉件和系統

有效

• 申請號: 202010422295.7
• 申請日: 2016-06-14
• 公開（公告）號: CN111545262B
• 公開（公告）日: 2022-05-27
• 發明（設計）人: 格雷戈里·B·諾雷爾
• 申請（專利權）人: 諾雷爾公司
• 主分類號: B01L3/00
• 分類號: B01L3/00;G01R33/30
• 代理公司: 北京京萬通知識產權代理有限公司 11440
• 代理人: 許天易

1.一種光譜學系統，包括：

具有開口端和封閉端的核磁共振樣品管；

渦輪，具有近端和遠端，所述渦輪從所述渦輪的近端到遠端限定空心孔，所述核磁共振樣品管位于所述空心孔內，其所述封閉端和所述開口端位于所述空心孔的外部，所述渦輪具有在所述渦輪的近側一半中的第一接觸點和在所述渦輪的遠側一半中的第二接觸點；

其中所述核磁共振樣品管具有沉積在外表面上的材料，作為跨越所述核磁共振樣品管的一部分圓周的第一帶和第二帶，所述第一帶靠近所述核磁共振樣品管的封閉端以及所述第二帶靠近所述核磁共振樣品管的開口端；

其中所述第一接觸點接觸所述第一帶的至少一部分，而同時，所述第二接觸點接觸所述第二帶的至少一部分；以及

其中，所述第二帶的第一部分隱藏在所述渦輪的空心孔內以及所述第二帶可見地位于所述渦輪的空心孔的外部。

2.根據權利要求1所述的光譜學系統，其中，所述兩個帶的一個或多個邊緣與所述渦輪的近端或遠端對齊。

3.根據權利要求1所述的光譜學系統，其中，所述第一接觸點和第二接觸點位置相距1.771英寸。

4.根據權利要求1所述的光譜學系統，其中，所述兩個帶跨越所述核磁共振樣品管的圓周的1/4。

5.根據權利要求1所述的光譜學系統，其中，所述兩個帶的一個或多個邊緣與所述渦輪的所述第一接觸點或所述第二接觸點對齊。

6.根據權利要求1所述的光譜學系統，其中，沉積在所述核磁共振樣品管的外表面上的所述材料具有在0.0002英寸至0.0014英寸范圍內的厚度。

7.根據權利要求1所述的光譜學系統，其中，沉積在所述核磁共振樣品管的外表面上的所述材料具有大于0.15的摩擦系數。

8.根據權利要求1所述的光譜學系統，其中，沉積在所述核磁共振樣品管的外表面上的所述材料包括油墨。

9.根據權利要求1所述的光譜學系統，其中，沉積在所述核磁共振樣品管的外表面上的所述材料包括基于環氧樹脂的油墨、催化劑和氧化硅填料。