[發(fā)明專利]一種基于U_Net網(wǎng)絡(luò)的光學(xué)鏡片表面劃痕檢測(cè)方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010422041.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-05-18 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111551350A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-08-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 薛萍;王雨龍 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 哈爾濱理工大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01M11/02 | 分類號(hào): | G01M11/02;G06T7/00;G06T7/10 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 150000 黑龍*** | 國(guó)省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 u_net 網(wǎng)絡(luò) 光學(xué)鏡片 表面 劃痕 檢測(cè) 方法 | ||
本發(fā)明公開(kāi)了一種基于U_Net網(wǎng)絡(luò)的光學(xué)鏡片表面劃痕檢測(cè)方法,涉及光學(xué)鏡片技術(shù)領(lǐng)域;它的方法如下:步驟一:劃痕檢測(cè)系統(tǒng)的流程結(jié)構(gòu);步驟二:影響圖像采集質(zhì)量因素分析;步驟三:劃痕圖像與其他相似疵病的區(qū)分研究;步驟四:劃痕檢測(cè)算法研究;本發(fā)明不僅能夠準(zhǔn)確檢測(cè)劃痕的形態(tài),同時(shí)還可以實(shí)現(xiàn)對(duì)光學(xué)鏡片表面劃痕相似缺陷區(qū)分并在此基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)劃痕位置與長(zhǎng)度寬度定量檢測(cè);降低了產(chǎn)品成本,大大提高了生產(chǎn)效率和生產(chǎn)質(zhì)量,還可以根據(jù)檢測(cè)得到的信息優(yōu)化流水線,找到缺陷,減少劃痕疵病的發(fā)生;對(duì)于國(guó)家而言,機(jī)器視覺(jué)檢測(cè)技術(shù)的應(yīng)用提升了我國(guó)工業(yè)領(lǐng)域生產(chǎn)在國(guó)際的競(jìng)爭(zhēng)力,提高了鏡片生產(chǎn)過(guò)程中的檢測(cè)效率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光學(xué)鏡片技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種基于U_Net網(wǎng)絡(luò)的光學(xué)鏡片表面劃痕檢測(cè)方法。
背景技術(shù)
傳統(tǒng)的機(jī)器視覺(jué)檢測(cè)技術(shù)難以獲取合適的特征,往往致使檢測(cè)結(jié)果不盡人意。傳統(tǒng)機(jī)器視覺(jué)檢測(cè)技術(shù)工作流程是通過(guò)一系列設(shè)定好的圖像預(yù)處理對(duì)樣本數(shù)據(jù)進(jìn)行特征提取并以向量形式進(jìn)行表示,通過(guò)設(shè)計(jì)分類器對(duì)物體進(jìn)行分類,如利用劃痕區(qū)域與背景之間的灰度差采用灰度閾值分割的方法實(shí)現(xiàn)劃痕的提取、檢測(cè)劃痕邊緣特征,但這類算法只能給出劃痕的大體位置,準(zhǔn)確度不高,易受背景雜波影響,誤檢和漏檢率較高。并且這種模式的檢測(cè)技術(shù)往往需要使用者具備豐富的專業(yè)知識(shí),且特征提取的質(zhì)量直接影響檢測(cè)效果。
發(fā)明內(nèi)容
為解決現(xiàn)有的問(wèn)題;本發(fā)明的目的在于提供一種基于U_Net網(wǎng)絡(luò)的光學(xué)鏡片表面劃痕檢測(cè)方法。
本發(fā)明的一種基于U_Net網(wǎng)絡(luò)的光學(xué)鏡片表面劃痕檢測(cè)方法,它的方法如下:
步驟一:劃痕檢測(cè)系統(tǒng)的流程結(jié)構(gòu):
建立了專用的圖像采集平臺(tái),研究以同軸光源為基礎(chǔ)的照明單元,將采集到的圖像傳輸至上位機(jī)并制作圖像訓(xùn)練集,再經(jīng)過(guò)U_Net深度學(xué)習(xí)網(wǎng)絡(luò)訓(xùn)練得到高精度劃痕特征圖像,在此基礎(chǔ)上實(shí)現(xiàn)劃痕與相似疵病的區(qū)分,最后通過(guò)對(duì)應(yīng)算法完成針對(duì)劃痕的位置,數(shù)量,長(zhǎng)寬的測(cè)量;
步驟二:影響圖像采集質(zhì)量因素分析:
采取基于同軸光源的照明單元,同軸光的定義為光源通過(guò)漫射板發(fā)散打到半透半反射分光片上,該分光片將光反射到物體上,再由物體反射到鏡頭中;檢測(cè)物體平整光滑表面的碰傷、劃傷、裂紋和異物;通過(guò)計(jì)算機(jī)控制對(duì)比不同顏色,強(qiáng)度的光照環(huán)境采集的圖像,綜合得到更加完整準(zhǔn)確的圖像信息;
步驟三:劃痕圖像與其他相似疵病的區(qū)分研究:
采用RGB三通道u_net網(wǎng)絡(luò)對(duì)劃痕圖像進(jìn)行分割,通過(guò)對(duì)三種色彩通道分別卷積,實(shí)現(xiàn)對(duì)劃痕邊緣更精確的體現(xiàn);通過(guò)實(shí)驗(yàn)尋找最佳光照條件,同時(shí)盡可能提高相機(jī)分辨率,保證圖像原始特征,為后續(xù)的深度學(xué)習(xí)訓(xùn)練提供高精度樣本,提高檢測(cè)精度;
步驟四:劃痕檢測(cè)算法研究:
檢測(cè)劃痕主要包括三個(gè)方面:區(qū)域定位,數(shù)量統(tǒng)計(jì)與長(zhǎng)度測(cè)量;
4.1、區(qū)域定位與數(shù)量統(tǒng)計(jì)擬采用輪廓查詢法實(shí)現(xiàn),首先對(duì)劃痕圖像進(jìn)行輪廓提取,在獲得輪廓圖像后遍歷像素提取輪廓像素的四個(gè)頂點(diǎn)坐標(biāo)A(x1,y1),B(x2,y2),C(x3,y3),D(x4,y4)限定劃痕區(qū)域,通過(guò)坐標(biāo)點(diǎn)差值得到劃痕區(qū)域的長(zhǎng)度與寬度,輸出其坐標(biāo)位置并統(tǒng)計(jì)劃痕數(shù)量;
4.2、劃痕長(zhǎng)度測(cè)量擬采用K3M算法,K3M骨架提取算法是一種連續(xù)迭代算法,由七個(gè)步驟的迭代部分和末端的單個(gè)額外步驟組成,獲取劃痕骨架后,對(duì)劃痕骨架像素點(diǎn)進(jìn)行統(tǒng)計(jì)獲取劃痕的弧長(zhǎng);劃痕弧長(zhǎng)表達(dá)式如公式1所示:
其中,L為劃痕區(qū)域的弧長(zhǎng),單位為mm,lp為單個(gè)像素對(duì)應(yīng)的實(shí)際長(zhǎng)度,單位為mm;g(x,y)表示劃痕經(jīng)K3M算法骨架提取后的連通域像素點(diǎn);最后根據(jù)像素與真實(shí)長(zhǎng)度換算的到像素代表的實(shí)際距離。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明的有益效果為:
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于哈爾濱理工大學(xué),未經(jīng)哈爾濱理工大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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