[發明專利]一種電光調Q腔倒空激光器

在審

• 申請號: 202010421674.4
• 申請日: 2020-05-18
• 公開（公告）號: CN111478174A
• 公開（公告）日: 2020-07-31
• 發明（設計）人: 廖文斌;張戈;李丙軒;林長浪;黃凌雄
• 申請（專利權）人: 中國科學院福建物質結構研究所
• 主分類號: H01S3/115
• 分類號: H01S3/115;H01S3/0941
• 代理公司: 北京元周律知識產權代理有限公司 11540
• 代理人: 史冬梅

1.一種電光調Q腔倒空激光器，其特征在于，包括激光單元和依次設置在所述激光單元出光側的透射反射單元、激光晶體、折疊鏡、電光調Q裝置和全反鏡；

所述激光單元，用于為所述激光晶體提供泵浦光；

所述透射反射單元，用于透射來自所述激光單元出射的泵浦光以及反射來自所述激光晶體出射的激光；

所述激光晶體，將經由所述透射反射單元透射的所述泵浦光轉變為激光，并增強入射至所述激光晶體的激光光強；

所述折疊鏡的設置位置滿足第一條件，所述第一條件為：

其中，L為所述折疊鏡距所述透射反射單元的距離，R為所述折疊鏡的曲率半徑，f為所述激光晶體的熱焦距；

所述折疊鏡為凹透鏡，所述凹透鏡的凹面用于將從所述激光晶體發射的激光反射至所述電光調Q裝置，并將從全反鏡反射的激光反射至所述激光晶體；

所述電光調Q裝置用于控制通過其的激光的偏振方向；

所述全反鏡，用于將從所述電光調Q裝置靠近所述全反鏡側出射的激光再次反射至所述電光調Q裝置。

2.根據權利要求1所述的電光調Q腔倒空激光器，其特征在于，所述折疊鏡凹面上距離所述凹透鏡中心軸0～5mm的區域為激光反射面。

3.根據權利要求1所述的電光調Q腔倒空激光器，其特征在于，所述L為其中R為所述折疊鏡的曲率半徑。

4.根據權利要求1所述的電光調Q腔倒空激光器，其特征在于，所述R的取值范圍為50mm≤R≤1000mm。

5.根據權利要求1所述的電光調Q腔倒空激光器，其特征在于，所述透射反射單元為泵浦鏡。

6.根據權利要求1所述的電光調Q腔倒空激光器，其特征在于，所述透射反射單元為激光膜，所述激光膜設置于所述激光晶體靠近所述激光單元的端面上。

7.根據權利要求1所述的電光調Q腔倒空激光器，其特征在于，所述激光單元包括泵浦光源和耦合透鏡組；

所述泵浦光源發出的泵浦光入射至所述耦合透鏡組；

所述耦合透鏡組，用于調整入射至所述激光晶體的激光半徑；

優選地，所述耦合透鏡組包括同軸且凸面相對設置的兩個凸透鏡。

8.根據權利要求1～7任一項所述的電光調Q腔倒空激光器，其特征在于，所述電光調Q裝置包括依次設置的起偏元件、四分之一波片和電光調Q晶體；

所述起偏元件，用于使通過其的激光起偏，形成S偏振光；

所述四分之一波片，用于調整通過其的激光偏振方向；

所述電光調Q晶體，用以控制經全反鏡反射并通過其和四分之一波片的激光在S偏振光與P偏振光之間轉換，使激光在所述透射反射單元和全反鏡之間振蕩后從所述起偏元件出射。

9.根據權利要求8所述的電光調Q腔倒空激光器，其特征在于，所述起偏元件包括至少一個偏振片，每個所述偏振片的主軸方向均與入射其上的激光呈布魯斯特角。

10.根據權利要求8所述的電光調Q腔倒空激光器，其特征在于，所述四分之一波片的主軸方向與入射其上的激光的偏振方向呈45°，所述電光調Q晶體的主軸方向與入射其上的激光的偏振方向呈45°。